JP2011124277A - 電子装置の切断方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本電子装置の切断方法は、基板上に複数の絶縁層及び複数の配線層が積層されている電子装置を準備する第1工程と、ブラスト処理を含む工程により、前記電子装置の切断可能領域に存在する全配線層及び全絶縁層を除去して前記基板を露出させる第2工程と、前記切断可能領域に露出する前記基板をブレードにより切断する第3工程と、を有する。
【選択図】図10
Description
[第1の実施の形態に係る半導体装置の構造]
図4は、第1の実施の形態に係る半導体装置を例示する断面図である。図4を参照するに、半導体装置10は、薄板化された半導体基板11と、半導体集積回路12と、切り欠き部20とを有する。
図5〜図12は、第1の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を例示する図である。図5〜図12において、図4に示す半導体装置10と同一構成部分には同一符号を付し、その説明を省略する場合がある。なお、図5は平面図、図6〜図12は断面図である。
レジスト膜25としてドライフィルムを用いた場合には、例えばアルカリ性水溶液による膨潤剥離により除去することができる。但し、アルカリ性水溶液の選択にあたっては、金属層18bがエッチング或いは腐食しないような液を選択する必要がある。そのため、水酸化ナトリウム(NaOH)や一般的なモノエタノールアミンを選択することはできない。
第2の実施の形態では、第1の実施の形態とは異なる半導体装置の切断方法を用いて、半導体装置10を製造する方法について説明する。
11 半導体基板
11A 半導体ウエハ
12 半導体集積回路
13 第1絶縁層
14 第1配線層
15 第2絶縁層
16 第2配線層
17 第3絶縁層
18 第3配線層
18a、18b 金属層
19 第4絶縁層
19x 開口部
20 切り欠き部
25 レジスト膜
26、27 溝部
28 ダイシングブレード
A 半導体装置形成領域
B スクライブ領域
C 基板切断位置
D1 深さ
T1 厚さ
Claims (9)
- 基板上に複数の絶縁層及び複数の配線層が積層されている電子装置を準備する第1工程と、
ブラスト処理を含む工程により、前記電子装置の切断可能領域に存在する全配線層及び全絶縁層を除去して前記基板を露出させる第2工程と、
前記切断可能領域に露出する前記基板をブレードにより切断する第3工程と、を有する電子装置の切断方法。 - 前記第2工程は、
前記電子装置の前記切断可能領域を露出するレジスト膜を形成する第2A工程と、
前記レジスト膜を介して前記切断可能領域をブラスト処理し、前記切断可能領域に存在する最表の配線層を露出させる第2B工程と、
露出した前記最表の配線層をエッチングにより除去する第2C工程と、
前記レジスト膜を介して前記切断可能領域を再度ブラスト処理し、前記切断可能領域に残存する全配線層及び全絶縁層を除去して前記基板を露出させる第2D工程と、を含む請求項1記載の電子装置の切断方法。 - 前記第2工程は、
前記電子装置の前記切断可能領域を露出するレジスト膜を形成する第2A工程と、
前記レジスト膜を介して前記切断可能領域を、前記切断可能領域に存在する最表の配線層を溶解可能な物質を含む溶媒を用いてウェットブラスト処理し、前記切断可能領域に存在する全配線層及び全絶縁層を除去して前記基板を露出させる第2E工程と、を含む請求項1記載の電子装置の切断方法。 - 前記複数の絶縁層は、低誘電体材料を含んで構成されている請求項1乃至3の何れか一項記載の電子装置の切断方法。
- 前記切断可能領域に存在する最表の配線層は、Cuを含んで構成されている請求項1乃至4の何れか一項記載の電子装置の切断方法。
- 前記切断可能領域に存在する最表の配線層は、前記切断可能領域に存在する他の配線層よりも層厚が厚い請求項1乃至5の何れか一項記載の電子装置の切断方法。
- 前記電子装置は半導体装置である請求項1乃至6の何れか一項記載の電子装置の切断方法。
- 前記半導体装置は、半導体ウエハ上に複数個形成され、複数の前記半導体装置の間にはスクライブ領域が配置されており、
前記切断可能領域は、前記スクライブ領域に含まれる請求項7記載の電子装置の切断方法。 - 前記第3工程により、複数の前記半導体装置は個片化される請求項8記載の電子装置の切断方法。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015507372A (ja) * | 2012-02-08 | 2015-03-05 | ザイリンクス インコーポレイテッドXilinx Incorporated | 複数のインターポーザを伴うスタックドダイアセンブリ |
JP2015095509A (ja) * | 2013-11-11 | 2015-05-18 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP2016039280A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP2016039279A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP2016040796A (ja) * | 2014-08-12 | 2016-03-24 | 株式会社ディスコ | ウエーハの分割方法 |
JP2016092181A (ja) * | 2014-11-04 | 2016-05-23 | エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 | 半導体装置 |
JP2017162868A (ja) * | 2016-03-07 | 2017-09-14 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
KR101784655B1 (ko) | 2015-02-13 | 2017-10-11 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 반도체 디바이스 및 방법 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1027971A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Nec Corp | 有機薄膜多層配線基板の切断方法 |
US20030124771A1 (en) * | 2002-01-03 | 2003-07-03 | Maiz Jose A. | Semiconductor wafer singulation method |
JP2003320466A (ja) * | 2002-05-07 | 2003-11-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザビームを使用した加工機 |
JP2004111796A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2006516824A (ja) * | 2003-01-27 | 2006-07-06 | フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド | ウエハ・スクライブ領域の金属低減 |
JP2010109182A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1027971A (ja) * | 1996-07-10 | 1998-01-27 | Nec Corp | 有機薄膜多層配線基板の切断方法 |
US20030124771A1 (en) * | 2002-01-03 | 2003-07-03 | Maiz Jose A. | Semiconductor wafer singulation method |
JP2003320466A (ja) * | 2002-05-07 | 2003-11-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザビームを使用した加工機 |
JP2004111796A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2006516824A (ja) * | 2003-01-27 | 2006-07-06 | フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド | ウエハ・スクライブ領域の金属低減 |
JP2010109182A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015507372A (ja) * | 2012-02-08 | 2015-03-05 | ザイリンクス インコーポレイテッドXilinx Incorporated | 複数のインターポーザを伴うスタックドダイアセンブリ |
JP2015095509A (ja) * | 2013-11-11 | 2015-05-18 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP2016039280A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP2016039279A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
US10115636B2 (en) | 2014-08-08 | 2018-10-30 | Disco Corporation | Processing method for workpiece |
JP2016040796A (ja) * | 2014-08-12 | 2016-03-24 | 株式会社ディスコ | ウエーハの分割方法 |
JP2016092181A (ja) * | 2014-11-04 | 2016-05-23 | エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 | 半導体装置 |
KR101784655B1 (ko) | 2015-02-13 | 2017-10-11 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 반도체 디바이스 및 방법 |
US10163709B2 (en) | 2015-02-13 | 2018-12-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device and method |
US10510604B2 (en) | 2015-02-13 | 2019-12-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device and method |
US11688639B2 (en) | 2015-02-13 | 2023-06-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device and method |
JP2017162868A (ja) * | 2016-03-07 | 2017-09-14 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
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