JP2011090767A - 磁気記録ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】主磁極層21aとSTO積層体層11aとを順次成膜したのち、STO積層体11および主磁極21の範囲を画定するための単一のマスク44を用いたイオンビームエッチング法により、基体に至るまで不要な材料を除去する。STO積層体11と主磁極21とがクロストラック方向において完全に自己整合的に位置合わせされた積層体構造が得られる。その結果、隣接トラックの誤消去を回避しつつトラック密度を最大限に確保することが可能なマイクロ波アシスト磁気記録ヘッドが実現する。
【選択図】 図4
Description
図2(a)〜(e)は、比較例に係る磁気記録ヘッドを形成するための要部工程を表すものであり、具体的には、書込素子にスピントルク発振器を組み合わせたものを形成する方法を示している。なお、図2(a)〜(e)に示す工程および結果として得られる構造体は、本発明者が以前より採用しているものであるが、公知となった技術ではない。
図3(a)は、本発明の第1の実施の形態におけるマイクロ波アシスト磁気記録(MAMR)ヘッドの要部断面構造を表すものである。なお、図3における各分図では、主磁極21およびSTO積層体11の積層構造の両側の充填絶縁層と、基体については、図示を省略している。
図3(a)に示すように、このMAMRヘッドは、主磁極21と、トレーリングシールド25と、この主磁極21とトレーリングシールド25との間に挟まれたSTO積層体11とを有している。本実施の形態では、トレーリングシールド25が磁性金属から構成され、磁気シールドとして機能するようになっている。また、主磁極21およびトレーリングシールド25は、電流(CPP電流)が確実にSTO積層体11の内部を垂直に流れるようにするため、STO積層体11の電極としてもそれぞれ機能するようになっている。
図3(b)に示すように、第2の実施の形態は、トレーリングシールド25が、その下面側に、自己整合構造の一部をなす下側突出部25p1を有し、この下側突出部25p1とSTO積層体11と主磁極21とが自己整合的に(すなわち、三者の側面がいずれも同一平面をなすように)形成されている。この点を除き、図3(a)に示した第1の実施の形態と同様である。
図3(c)に示すように、第3の実施の形態では、主磁極21の上側部分がほぼ垂直な側壁を有すると共にSTO積層体11もまたほぼ垂直な側壁を有し、さらに、主磁極21の上側部分のほぼ垂直な側壁は、STO積層体11のほぼ垂直な側壁を経由して、トレーリングシールド25の底面にまで上方に連続している。すなわち、主磁極21の上側部分とSTO積層体11とが自己整合的に(すなわち、両者の側面が同一平面をなすように)形成されている。この点を除き、本実施の形態は図3(a)に示した第1の実施の形態と同様である。
図3(d)に示すように、第4の実施の形態では、トレーリングシールド25が、その下面側に、自己整合構造の一部をなす下側突出部25p2を有し、主磁極21の側壁が、STO積層体11およびトレーリングシールド25の各側面を経て、上方に、トレーリングシールド25の下面まで連続している。すなわち、下側突出部25p2とSTO積層体11と主磁極21の上側部分とが自己整合的に(すなわち、三者の側面がいずれも同一平面をなすように)形成されている。この点を除き、図3(a)に示した第1の実施の形態と同様である。なお、トレーリングシールド25の下側突出部25p2は、トレーリングシールド25から下方に、例えば、5〜50nm、好ましくは20nm程度延在している。
第5の実施の形態は、トレーリングシールドが非磁性金属から構成されている点を除き、上述した第1から第4の実施の形態のいずれかと同様である。すなわち、本実施の形態では、トレーリングシールド25は、電極としての機能を有することのみを目的としており(この場合には「シールド」という称呼は当てはまらなくなるが)、非磁性金属から構成されている。その結果、主磁極21は、モノポール(単磁極)ヘッドとなっている。この場合、主磁極11からトレーリングシールド25に向かう、STO積層体11に垂直な方向の磁界はほとんど存在しなくなることから、モノポールヘッドから媒体に向かう垂直記録磁界は、上述の第1から第4の実施の形態と比較して強力となる。なお、本実施の形態では、STO積層体11における、積層体と垂直な方向の磁化を、結晶磁気異方性などの他の何らかの手段を用いて維持することが必要となる。
第6の実施の形態は、非磁性ギャップ層63を介して主磁極21から離間したサイドシールド61およびリーディングシールド62が設けられている点を除き、上述した第1から第5の実施の形態のいずれかと同様である。サイドシールド61は磁性金属からなり、非磁性ギャップ層63を介して主磁極21の両側に設けられる。リーディングシールド62もまた同様の磁性金属からなり、主磁極21のリーディング側に設けられる。なお、サイドシールド61およびリーディングシールド62のうち、いずれか一方のみを設けるようにしてもよい。特に、基体23が適切な磁性材料からなる場合には、あえてリーディングシールド62を設ける必要はない。基体23がリーディングシールドとして機能し得るからである。
次に、図4および図5を参照して、上記の各実施の形態に係るMAMRヘッドの製造方法について説明する。
まず、第1および第2の実施の形態(図3(a)、図3(b))において示したMAMRヘッドの製造方法について説明する。図4(a)〜図4(g)および図5(a)〜図5(d)は、エアベアリング面から見た図であり、図4(a´)〜図4(g´)および図5(a´)〜図5(d´)は、主磁極21の中心に沿って示す断面図である。各断面図において破線により示す縦線Lは、のちにエアベアリング面となる位置を表している。
次に、図4(b)および図4(b´)に示すように、未パターニングのSTO積層体層11aを成膜する。
次に、図4(c)および図4(c´)に示すように、フォトレジストまたはハードマスクなどのマスク44を、STO積層体層11aの上に形成したのち、垂直方向に対して15°から75°(好ましくは30°(±10°))の角度の方向からイオンビームエッチング41によるエッチング処理を行う。これにより、図4(d)および図4(d´)に示すように、内側に傾斜した側壁を有するペデスタル43が形成される。これ以降の工程は、第1および第2の実施の形態で分かれる。
次に、この積層構造体45を新たな充填絶縁層22を用いて埋設したのち、平坦化処理を行う。これにより、図4(e)に示す外観が得られる。なお、充填絶縁層22の層は、主磁極21とSTO積層体層11の外側(クロストラック方向の両側)にのみ存在することから、図4(e´)には充填絶縁層22が図示されていない。
最後の工程では、図4(g)および図4(g´)に示すように、STO積層体11および充填絶縁層22の上にトレーリングシールド25を成膜する。このトレーリングシールド25の下面は単一の平面であり、STO積層体11aと直接に接することになる。すなわち、トレーリングシールド25の下面におけるSTO積層体11と接する部分には、下方に突出する突出部が形成されない。
図5(a)における、図4(e)との主な違いは、充填絶縁層22を成膜して平坦化処理を行う際に、上記のイオンビームエッチングで残ったマスク44の部分をそのまま残存させておく点にある。このマスク44の残存部分は、平坦化処理が終了したのちにはじめて除去される。この場合の平坦化処理のためのCMPは、STO積層体11aの上面が露出するまで行うのではなく、マスク44の残存部分がまだ残っていてSTO積層体11aの上面が露出しない段階で止めるようにする。これにより、図5(b)および図5(b´)に外観を示すように、STO積層体11aの上面が充填絶縁層22の上面よりも例えば、5nm〜50nm程度低くなる。
他方、第3および第4の実施の形態の構造体(図3(c)、図3(d))を形成する場合には、当初は垂直方向のイオンビームを用い、その後、主磁極層21aのエッチングが開始した際に、イオンビームの方向を垂直方向から傾いた方向に変更する。これ以外は、第1および第2の実施の形態の構造体を形成するのに用いられる工程と同様であるので、詳細な説明は省略する。
なお、第3および第4の実施の形態では、イオンビームが主磁極層21aの上面よりも5nm〜50nm程度下方のレベルに達した時点でイオンビームの方向を変更するようにしたが、主磁極層21aの上面に達した時点で直ちに方向を変更するようにしてもよい。
Claims (20)
- 自己整合構造を有するマイクロ波アシスト磁気記録(MAMR)ヘッドの製造方法であって、
基体上に、主磁極の形成に適した材料からなる主磁極層を形成する工程と、
前記主磁極層の上に、未パターニングのスピントルク発振器(STO)積層体層を成膜する工程と、
前記未パターニングのSTO積層体層の上に、前記MAMRヘッドを画定するマスクを形成する工程と、
前記未パターニングのSTO積層体層および前記マスクに対して、垂直方向から傾いた方向のイオンビームエッチングを前記基体に達するまで施すことにより、前記主磁極とSTO積層体とを含むと共に内側に向かって傾斜した側壁を有するペデスタルを形成するエッチング工程と、
前記ペデスタルを充填材料の層に封入してなる構造体を形成すると共に、この構造体を平坦化する充填平坦化工程と、
前記ペデスタルの一部をなすSTO積層体層のうち、前記MAMRヘッドのエアベアリング面となる予定の面から所定距離だけ離れた位置よりも後方の延在領域を選択的に除去する工程と、
選択的に除去された前記STO積層体層の部分を、すべて追加の充填材料により置き換える追加充填工程と、
前記充填材料の層および残存するSTO積層体層の双方に接するトレーリングシールド層を成膜する工程と
を含む磁気記録ヘッドの製造方法。 - 前記封入平坦化工程において、
前記マスクを除去したのち、前記充填材料の層を成膜することにより、前記残存するSTO積層体層の上面と前記充填材料の層の上面とが同一平面をなすようにする
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - 前記封入平坦化工程において、
前記マスクを残したまま前記充填材料の層を成膜したのち、前記構造体を平坦化してその上面を形成し、その後前記マスクを除去することにより、前記STO積層体層の上面が前記構造体の前記上面よりも5nmないし50nm低くなるようにする
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - 前記エッチング工程において、
垂直方向に向けられたイオンビームを用いて、前記未パターニングのSTO積層体層および前記マスクを前記主磁極層に達するまでエッチングしたのち、前記イオンビームを前記垂直方向に対して傾けて、前記基体に達するまでエッチングを施す
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - 前記エッチング工程において、
垂直方向に向けられたイオンビームを用いて、前記イオンビームが前記主磁極層の上面よりも5nmないし50nm低い位置に達するまで、前記マスク、前記未パターニングのSTO積層体層および前記主磁極層を順次エッチングしたのち、前記イオンビームを前記垂直方向に対して傾けて、前記基体に達するまで前記主磁極層をエッチングする
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - 導電性の非磁性材料を用いて前記トレーリングシールド層を形成することにより、前記トレーリングシールド層を電極として機能させると共に、前記主磁極が、前記STO積層体層の法線方向において有意な磁界をもたない単磁極ヘッドとなるようにすることにより、書き込み能力を向上させる
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - 前記充填平坦化工程において、前記充填材料として磁性材料を用いることにより、前記MAMRヘッドにサイドシールドを設ける
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - さらに、
前記主磁極層を成膜する前に、リーディングシールドとして機能する磁性材料層を成膜する工程を含む
請求項7に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - 前記イオンビームの前記垂直方向に対する角度が15°から75°の範囲にある
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - 前記STO積層体層が、5GHzないし50GHzの範囲のマイクロ波の発生に最適化されている
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - 前記エアベアリング面となる予定の面から前記延在領域までの前記所定距離が、0.03μmないし0.2μmの範囲である
請求項1に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。 - エアベアリング面を有し自己整合構造を備えたマイクロ波アシスト磁気記録(MAMR)ヘッドであって、
内側に向かって傾斜した第1の側壁を有する主磁極が設けられた基体と、
内側に向かって傾斜した第2の側壁を有すると共に、前記エアベアリング面から所定距離だけ離れた位置にまで至る領域における前記主磁極の上に、これと接するように設けられたスピントルク発振器(STO)と、
前記主磁極の上方に設けられ、下面の一部が前記スピントルク発振器に接するトレーリングシールドと、
前記基体と前記トレーリングシールドとの間の、前記主磁極および前記スピントルク発振器の両側に設けられた充填材料と
を備え、
前記スピントルク発振器および前記主磁極は、互いが完全に整合するように位置合わせされた自己整合構造をなしており、前記主磁極と前記スピントルク発振器とが接する位置に、前記エアベアリング面に露出した水平面が形成されないように構成された
磁気記録ヘッド。 - 前記トレーリングシールドの前記下面が単一の平面である
請求項12に記載の磁気記録ヘッド。 - 前記トレーリングシールドは、その下面から下方に5nmないし50nmだけ突き出た突出部を介して前記スピントルク発振器と接している
請求項12に記載の磁気記録ヘッド。 - 前記スピントルク発振器は垂直な側壁を有し、
前記主磁極は、前記スピントルク発振器の下面から下方に向かって5nmないし50nmにわたり垂直な側壁を有するとともに、そこから下方に向かって、垂直方向に対して4°ないし20°の角度で内側に傾斜した側壁を有する
請求項12に記載の磁気記録ヘッド。 - 前記トレーリングシールド層は、導電性の非磁性材料からなる結果、電極として機能し、
前記主磁極は、前記スピントルク発振器の積層体の法線方向において有意な磁界をもたない単磁極ヘッドとして構成され、
これにより、書き込み能力が向上改善されている
請求項12に記載の磁気記録ヘッド。 - 前記充填材料が磁性材料であり、これにより、前記MAMRヘッドがサイドシールドを備える
請求項12に記載の磁気記録ヘッド。 - 前記主磁極と前記基体との間に、リーディングシールドとして機能する磁性材料層をさらに備えた
請求項17に記載の自己整列構造を備えた磁気記録ヘッド。 - 前記スピントルク発振器が、5GHzないし50GHzの範囲のマイクロ波の発生に最適化されている
請求項12に記載の磁気記録ヘッド。 - 前記エアベアリング面から前記スピントルク発振器までの前記所定距離が、0.03μmないし0.2μmの範囲である
請求項12に記載の磁気記録ヘッド。
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