JP2011054677A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1導電型の第1半導体層10と、第2導電型の第2半導体層20と、その間の発光層30と、第1半導体層に接する第1電極40と、第2半導体層に接する第2電極50と、を備える。積層方向に垂直な第1方向で互いに対向する第1、第2端面S1、S2間で光が共振する。前記第2半導体層は、第1、第2端面との間に設けられ、第1方向及び積層方向に垂直な第2方向に沿った幅が、発光層の側よりも第2電極の側において狭いリッジ部RPと、第1及び第2端面の少なくともいずれかに接して設けられ、第2電極の側における第2方向に沿った幅が、リッジ部よりも広い幅広部WPと、を有す。幅広部の上の第2電極は、リッジ部の上の第2電極よりも、第2方向に沿った幅が狭い部分を有す。
【選択図】図1
Description
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比係数などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比係数が異なって表される場合もある。
また、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体発光素子の構成を例示する模式図である。
すなわち、同図(a)は、半導体発光素子110の模式的斜視図であり、同図(b)は、同図(a)のC方向から見たときの模式的平面図であり、同図(c)及び(d)は、それぞれ、同図(a)のA1−A1’線断面図及びA3−A3’線断面図である。
すなわち、半導体発光素子110において、発光層30から放射された光は、積層体Stの積層方向に対して垂直な第1方向において互いに対向する積層体Stの第1端面S1と第2端面S2との間において共振する。なお、積層方向は、第1半導体層10、発光層30及び第2半導体層20が積層される方向である。すなわち、半導体発光素子110は、半導体レーザである。ここで、第1端面S1及び第2端面S2が、光出射端面である。すなわち、第1端面S1の発光層30(及びその近傍領域)、及び、第2端面S2の発光層30(及びその近傍領域)において、光出射部38が設けられる。
リッジ部RPは、第1端面S1と第2端面S2との間に設けられる。リッジ部RPにおいては、第1方向及び積層方向に対して垂直な、第2方向に沿った幅が、発光層30の側よりも第2電極50の側において狭い。
幅広部WPは、第1端面S1及び第2端面S2の少なくともいずれかに接して設けられる。幅広部WPは、第2電極50の側における第2方向に沿った幅が、リッジ部RPよりも広い。
そして、幅広部WPの上の第2電極50は、リッジ部RPの上の第2電極50よりも、第2方向に沿った幅が狭い部分を有する。
第1領域R1は、第1端面S1に接する。第2領域R2は、第2端面S2に接する。第3領域R3は、第1領域R1と第2領域R2との間の領域である。すなわち、第3領域R3は中央領域である。
図2は、本発明の第1の実施形態に係る半導体発光素子の構成を例示する模式的断面図である。
すなわち、図2(a)〜(c)は、半導体発光素子110の具体的な構成の例を示しており、図2(a)は、図1(a)のA3−A3’線断面の具体例であり、図2(b)及び(c)は、半導体発光素子110に設けられる絶縁層及び導電層を例示しており、それぞれ図1(a)のA1−A1’線断面及びA3−A3’線断面に相当する断面図である。
すなわち、半導体発光素子110は、リッジ部RPの発光層30の側の部分の第2電極50側の面に設けられた絶縁層60をさらに備えることができる。換言すれば、半導体発光素子110は、第2半導体層20の第1部分P1の第2電極50側の面に設けられた絶縁層60をさらに備えることができる。
図3及び図4は、比較例の半導体発光素子の構成を例示する模式的斜視図である。
すなわち、図3(a)〜(d)及び図4は、それぞれ、第1〜第5比較例の半導体発光素子119a〜119eの構成を例示している。
また、半導体発光素子110においては、光出射端面である第1端面S1及び第2端面S2に幅広部WPを設けるので、半導体発光素子110を製造する際の劈開時に入るダメージが小さくなることなど、歩留まりなどの製造効率が向上でき、また、この観点でも信頼性が向上する。なお、半導体発光素子110の製造においては、例えば、従来のリッジ導波路型半導体レーザ素子の製造方法の一部を変更したものを適用できる。
図5は、本発明の第1の実施形態に係る別の半導体発光素子の構成を例示する模式図である。
すなわち、同図(a)〜(c)は、本実施形態に係る半導体発光素子111〜113の構成を例示す模式的斜視図である。同図(d)は、本実施形態に係る半導体発光素子114の構成を例示する模式的断面図であり、図1(a)のA3−A3’断面に相当する断面図である。
なお、半導体発光素子110〜114に関して説明した各構成のうちの2つ以上を組み合わせて実施しても良い。
図6は、本発明の第1の実施形態に係る半導体発光素子及び比較例の半導体発光素子の特性を例示するグラフ図である。
すなわち、同図は、本実施形態に係る半導体発光素子110と、第1比較例の半導体発光素子119aと、における光出射特性をシミュレーションした結果を例示しており、横軸は、光出射部38の中心を基準としたときのY軸方向の位置Wyを表し、縦軸は光強度LIを表す。
これに対し、半導体発光素子110においては、光強度LIの分布が拡大し、Y軸方向にそって光が広がっている。そして、光出射部38の中心において光密度が低下し、これにより、CODの発生が抑制される。
なお、このシミュレーションにおいては、半導体発光素子が、Cuからなるヒートシンクに実装された形態のモデルが採用された。このとき、第2電極50の上に設けられた導電層55が、AuSnのハンダ層を介してヒートシンクに対向して設置されるものとされた。
すなわち、同図(a)は、本実施形態に係る半導体発光素子110と、第5比較例の半導体発光素子119eと、における光出射特性をシミュレーションした結果を例示しており、横軸は、光出射部38の中心を基準としたときのY軸方向の位置Wyを表し、縦軸は光強度LIを表す。そして、同図(b)及び(c)は、それぞれ、半導体発光素子110及び半導体発光素子119eにおける電流の特性を例示しており、図1(a)のA1−A1’線断面に相当する断面図である。
これに対し、第5比較例の半導体発光素子119eにおいては、位置Wyが±8μm以上であっても光強度LIは十分低くならない。すなわち、光強度LIのY軸方向に沿った分布が、過度に広い。
このように、半導体発光素子110においては、しきい値電流及び発光効率などの動作特性を良好に維持しつつ、光学損傷を軽減し、信頼性を向上できる。
すなわち、同図は、本実施形態に係る半導体発光素子111(第2領域R2においては、第3領域R3と同様のリッジ形状が設けられ、第1領域R1には幅広部WPが設けられる構成)において、第3領域R1の幅を変えて光強度LIをシミュレーションした結果を例示している。すなわち、第3領域長Lr3の共振器長Lrに対する比率である第3領域長比RL3(=Lr3/Lr)と、共振器長Lrと、を変化させて、光出射端面における反射率をシミュレーションした。そして、第1〜第3領域R1〜R3の全域においてリッジ部RPaが設けられる第1比較例の半導体発光素子119aよりも反射率が低下しない条件を求めた。図8における横軸は、第3領域長比RL3であり、縦軸は、共振器長Lrであり、任意目盛である。そして、図8の曲線の下側及び右側が、反射率が半導体発光素子119aよりも低下しない条件の領域NSRであり、曲線の上側及び左側が、反射率が半導体発光素子119aよりも低下する条件の領域SRである。
図9は、本発明の第2の実施形態に係る半導体発光素子の構成を例示する模式図である。
すなわち、図9(a)は、本実施形態に係る半導体発光素子120の模式的断面図であり、図1(a)のA3−A3’線断面に相当する断面図である。図9(b)は、図9(a)のB−B’線断面図であり、図9(c)は、圧縮応力を例示する模式図であり、図9(d)は、発光層30のエネルギーバンド図である。
図9(c)に表したように、絶縁層63が圧縮応力CFを有しているので、第3領域R3においては、発光層30にZ軸方向に沿った引張応力SFが印加される。すなわち、発光層30に、C軸方向に沿って引張応力が印加される。
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
Claims (6)
- 第1導電型の第1半導体層と、第2導電型の第2半導体層と、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層と、を有する積層体と、
前記第1半導体層に接して設けられた第1電極と、
前記第2半導体層に接して設けられた第2電極と、
を備え、
前記発光層から放射された光は、前記積層体の積層方向に対して垂直な第1方向において互いに対向する前記積層体の第1端面と第2端面との間において共振し、
前記第2半導体層は、
前記第1端面と前記第2端面との間に設けられ、前記第1方向及び前記積層方向に対して垂直な第2方向に沿った幅が、前記発光層の側よりも前記第2電極の側において狭いリッジ部と、
前記第1端面及び前記第2端面の少なくともいずれかに接して設けられ、前記第2電極の側における前記第2方向に沿った幅が、前記リッジ部よりも広い幅広部と、
を有し、
前記幅広部の上の前記第2電極は、前記リッジ部の上の前記第2電極よりも、前記第2方向に沿った幅が狭い部分を有することを特徴とする半導体発光素子。 - 前記リッジ部の前記第1方向における長さは、前記第1端面と前記第2端面との間の距離の0.5倍以上であることを特徴とする請求項1記載の半導体発光素子。
- 前記幅広部の上の前記第2電極の前記幅が狭い部分の幅は、前記リッジ部の上の前記第2電極の前記第2方向に沿った幅の0.85倍以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体発光素子。
- 前記リッジ部の前記発光層の側の部分の前記第2電極側の面に設けられ、圧縮応力を有する絶縁層をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 前記絶縁層における圧縮応力は、前記第2半導体層に含まれるクラッド層における圧縮応力よりも大きいことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 前記リッジ部の下の前記発光層に含まれる結晶の前記積層方向に沿った格子間隔は、前記幅広部の下の前記結晶における格子間隔よりも大きいことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009200651A JP5715332B2 (ja) | 2009-08-31 | 2009-08-31 | 半導体発光素子 |
US12/719,468 US8432947B2 (en) | 2009-08-31 | 2010-03-08 | Semiconductor light emitting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009200651A JP5715332B2 (ja) | 2009-08-31 | 2009-08-31 | 半導体発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011054677A true JP2011054677A (ja) | 2011-03-17 |
JP5715332B2 JP5715332B2 (ja) | 2015-05-07 |
Family
ID=43624842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009200651A Active JP5715332B2 (ja) | 2009-08-31 | 2009-08-31 | 半導体発光素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8432947B2 (ja) |
JP (1) | JP5715332B2 (ja) |
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---|---|
US8432947B2 (en) | 2013-04-30 |
JP5715332B2 (ja) | 2015-05-07 |
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