JP2011044433A - プラズマ処理方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマヘッド10に設けた反応空間11に第1の不活性ガス15を供給するとともに高周波電界を印加して反応空間11から一次プラズマ16を吹き出させ、第2の不活性ガスを主とし適量の反応性ガスを混合した混合ガス領域20をプラズマヘッド10内又はその近傍に形成するとともにこの混合ガス領域20に一次プラズマ16を衝突させて二次プラズマ21を発生させ、発生した二次プラズマ21を被処理物5の処理箇所に吹き付けて処理するプラズマ処理方法であって、プラズマヘッド10と被処理物5を相対移動させて処理箇所を処理するに際して、一次プラズマ16は連続して発生させ、処理箇所でのみ混合ガス領域20を形成して二次プラズマ21を発生させるようにした。
【選択図】図3
Description
まず、本発明のプラズマ処理装置の第1の実施形態について、図1〜図7を参照して説明する。
次に、本発明のプラズマ処理装置の第2の実施形態について、図8、図9を参照して説明する。尚、以下の実施形態の説明では、先行する実施形態と同一の構成要素については同一の参照符号を付して説明を省略し、主として相違点についてのみ説明する。
次に、本発明のプラズマ処理装置の第3の実施形態について、図10を参照して説明する。本実施形態と上記実施形態との相違点もプラズマヘッド10の構成にある。
次に、本発明のプラズマ処理装置の第4の実施形態について、図11を参照して説明する。本実施形態と上記実施形態との相違点もプラズマヘッド10の構成にある。
好適に利用することができる。
2 ロボット装置
4 可動ヘッド
5 被処理物
6 処理箇所
10 プラズマヘッド
11 反応空間
12、34 反応容器(プラズマ発生部)
14 高周波電源
15 第1の不活性ガス
16 一次プラズマ
17、36 混合ガス容器(プラズマ展開部)
18 混合ガス
20 混合ガス領域
21 二次プラズマ
22 制御部
24 ガス供給部
26 処理開始認識手段
27 処理終了認識手段
28 第1の不活性ガス源
29 混合ガス源
38 不活性ガス容器
39 反応性ガス容器
40 第2の不活性ガス
41 反応性ガス
Claims (6)
- プラズマヘッドに設けた反応空間に第1の不活性ガスを供給するとともに高周波電界を印加して前記反応空間から一次プラズマを吹き出させ、第2の不活性ガスを主とし適量の反応性ガスを混合した混合ガス領域をプラズマヘッド内又はその近傍に形成するとともにこの混合ガス領域内に前記一次プラズマを吹き出させることにより、前記一次プラズマを前記混合ガスに衝突させて二次プラズマを発生させ、発生した前記二次プラズマを前記混合ガス領域から被処理物のプラズマ処理が必要な処理箇所に吹き付けて処理するプラズマ処理方法であって、
前記被処理物に、前記処理箇所と処理箇所以外の領域が存在する場合に、前記プラズマヘッドと被処理物を相対移動させるに際して、前記プラズマヘッドが前記処理箇所および処理箇所以外のいずれの位置に対向する場合においても、前記一次プラズマを連続して前記混合ガス領域に吹き出させ、
前記プラズマヘッドが前記処理箇所に対向する場合のみに、前記混合ガスを前記混合ガス領域に供給することにより、前記二次プラズマを前記混合領域より吹き出させて被処理物のプラズマ処理を行う
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 前記プラズマヘッドが前記処理箇所に対向位置するタイミングを認識した場合に、前記混合ガスを前記混合ガス領域に供給することにより、前記二次プラズマを前記混合領域より吹き出させて被処理物のプラズマ処理を行い、
前記プラズマヘッドが前記処理箇所に対向位置しないタイミングを認識した場合に、前記混合ガスの前記混合ガス領域への供給を停止して前記二次プラズマの前記混合領域よりの吹き出しを終了させて前記被処理物へのプラズマ処理を停止させる
ことを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理方法。 - 前記第1の不活性ガス及び第2の不活性ガスは、アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン、窒素、又はこれらの1種又は複数種の混合ガスから選ばれたものであることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理方法。
- プラズマ処理を行う処理箇所とプラズマ処理を行わない領域が混在する被処理物に対して、プラズマヘッドを移動手段によって相対移動させて、前記処理箇所のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、
前記プラズマヘッドは、プラズマ化した第1の不活性ガスから成る一次プラズマを吹き出させるプラズマ発生部と、第2の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域内に前記プラズマ発生部から一次プラズマが吹き出され、前記一次プラズマを前記混合ガスに衝突させてプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生させ、前記混合ガス領域から前記被処理物の前記処理箇所へ前記二次プラズマを吹き出させるプラズマ展開部とを有し、
また前記プラズマ発生部に前記第1の不活性ガスを供給する第1の不活性ガス供給手段と、前記プラズマ発生部に高周波電界を印加する高周波電源と、前記混合ガス領域に第2の不活性ガスと反応性ガスを供給する混合ガス供給手段と、前記被処理物と前記プラズマヘッドを相対移動させる移動手段と、前記被処理物の前記処理箇所に前記プラズマヘッドが対向位置するタイミングを認識する手段と、前記高周波電源と前記各ガス供給手段と前記移動手段を制御する制御手段とを備え、
前記プラズマ発生部は、前記プラズマヘッドが前記処理箇所および処理箇所以外のいずれの位置に対向する場合においても、前記一次プラズマを連続して前記混合ガス領域に吹き出させ、
前記制御手段は、前記プラズマヘッドが前記被処理物の前記処理箇所に対向した時のみ前記混合ガス供給手段を動作させる
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記プラズマヘッドが前記処理箇所に対向位置するタイミングを認識した場合に、前記混合ガスを供給して前記二次プラズマを発生させて前記被処理物へのプラズマ処理を行い、
前記プラズマヘッドが前記処理箇所に対向位置しないタイミングを認識した場合に、前記混合ガスの供給を停止して前記二次プラズマの発生を終了させて前記被処理物へのプラズマ処理を停止させる
ことを特徴とする請求項4記載のプラズマ処理装置。 - 前記移動手段がロボット装置を備え、そのロボット装置のX、Y、Z方向に移動可能な可動ヘッドに前記プラズマヘッドを搭載したことを特徴とする請求項4又は5に記載のプラズマ処理装置。
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