JP4946339B2 - 大気圧プラズマ発生装置とプラズマ処理方法及び装置 - Google Patents
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Description
まず、本発明のプラズマ処理装置の第1の実施形態について、図1〜図8を参照して説明する。
次に、本発明のプラズマ処理装置の第2の実施形態について、図9を参照して説明する。尚、以下の実施形態の説明では、先行する実施形態と同一の構成要素については同一の参照符号を付して説明を省略し、主として相違点についてのみ説明する。
次に、本発明のプラズマ処理装置の第3の実施形態について、図10を参照して説明する。本実施形態と上記実施形態との相違点もプラズマヘッド10の構成にある。
2 ロボット装置(移動手段)
4 可動ヘッド
5 被処理物
6 処理箇所
10 プラズマヘッド
11 反応空間
12、41 反応容器(プラズマ発生部)
14 高周波電源
15 第1の不活性ガス
16 一次プラズマ
17、43 混合ガス容器(プラズマ展開部)
18 混合ガス
20 混合ガス領域
21 二次プラズマ
22 吸引口
23 吸引手段
24 吸引通路
25 開閉制御手段
26 ガス供給部
28 第1の不活性ガス源
29 混合ガス源
31 制御部
33 処理開始認識手段
34 処理終了認識手段
Claims (8)
- 反応空間内にガスを供給するとともに高周波電界を印加して大気圧プラズマを発生し、発生した大気圧プラズマを吹き出し口から吹き出すプラズマヘッドと、プラズマヘッドの吹き出し口近傍に設けられた吸引口に接続された吸引手段と、吸引口と吸引手段との間の吸引通路に配設された開閉制御手段とを備え、
プラズマヘッドは、反応空間内に第1の不活性ガスを供給して高周波電界を印加することで発生した一次プラズマを吹き出すプラズマ発生部と、第2の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域に一次プラズマを衝突させることで発生した二次プラズマを吹き出し口から吹き出すプラズマ展開部とを有し、吸引口をプラズマ展開部の吹き出し口の近傍に開口したことを特徴とする大気圧プラズマ発生装置。 - プラズマヘッドに設けた反応空間内にガスを供給するとともに高周波電界を印加して大気圧プラズマを発生し、発生した大気圧プラズマをプラズマヘッドの吹き出し口から吹き出し、吹き出したプラズマを被処理物の処理箇所に吹き付けて処理するプラズマ処理方法であって、プラズマヘッドと被処理物を相対移動させて処理箇所を処理するに際して、処理箇所以外の範囲ではプラズマヘッドの吹き出し口近傍位置で吸引してプラズマを維持したままプラズマの吹き出しを停止させ、処理箇所では吸引を停止してプラズマを吹き付けるものであり、
プラズマヘッドの吹き出し口から吹き出すプラズマは、プラズマヘッド内に設けた反応空間に第1の不活性ガスを供給するとともに高周波電界を印加して反応空間から一次プラズマを吹き出させ、プラズマヘッド内に第2の不活性ガスを主とし適量の反応性ガスを混合した混合ガス領域を形成してこの混合ガス領域に一次プラズマを衝突させて発生させた二次プラズマであることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 第1の不活性ガスと第2の不活性ガスが同種の不活性ガスであることを特徴とする請求項2記載のプラズマ処理方法。
- 第1の不活性ガス及び第2の不活性ガスは、アルゴン、ヘリウム、キセノン、ネオン、窒素、又はこれらの1種又は複数種の混合ガスから選ばれたものであることを特徴とする請求項2又は3記載のプラズマ処理方法。
- 反応空間内にガスを供給するとともに高周波電界を印加することで大気圧プラズマを発生し、発生した大気圧プラズマを吹き出し口から吹き出すプラズマヘッドと、ガスを供給するガス供給手段と、高周波電界を印加する高周波電源と、プラズマヘッドの吹き出し口近傍に設けられた吸引口に接続された吸引手段と、吸引口と吸引手段との間の吸引通路に配設された開閉制御手段と、被処理物とプラズマヘッドを相対移動させる移動手段と、被処理物の処理箇所にプラズマヘッドが対向位置するタイミングを認識する手段と、ガス供給手段と高周波電源と開閉制御手段と移動手段を制御する制御手段とを備え、制御手段はプラズマヘッドが被処理物の処理箇所に対向する時に開閉制御手段を閉成させ、処理不要箇所に対向する時に開成させるものであり、
プラズマヘッドは、プラズマ化した第1の不活性ガスから成る一次プラズマを吹き出させるプラズマ発生部と、第2の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域に一次プラズマを衝突させてプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生するプラズマ展開部とを有し、高周波電源はプラズマ発生部に高周波電界を印加し、ガス供給手段は、プラズマ発生部に第1の不活性ガスを供給する第1の不活性ガス供給手段と、混合ガス領域に第2の不活性ガスと反応性ガスを供給する混合ガス供給手段とから成ることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 混合ガス供給手段は、第2の不活性ガスと反応性ガスを予め混合した混合ガスを混合ガス領域に供給するようにしたことを特徴とする請求項5記載のプラズマ処理装置。
- 混合ガス供給手段は、第2の不活性ガスを混合ガス領域に供給する第2の不活性ガス供給手段と、反応性ガスを混合ガス領域に供給する反応性ガス供給手段とから成ることを特徴とする請求項5記載のプラズマ処理装置。
- 移動手段がロボット装置を備え、そのロボット装置のX、Y、Z方向に移動可能な可動ヘッドにプラズマヘッドを搭載したことを特徴とする請求項5〜7の何れかに記載のプラズマ処理装置。
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