JP4421869B2 - 実装基板クリーニング方法及び装置 - Google Patents
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Description
段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、実装基板のプラズマ照射位置の高さを検出する工程と、検出した高さデータに基づいてプラズマ照射ユニットの高さを調整する工程と、高さ調整後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むものであり、プラズマ照射手段の高さを制御することによる上記効果を単独で奏することができる。
以下、本発明の実装基板クリーニング方法及び装置の第1の実施形態について、図1〜図3を参照して説明する。
内容の不良箇所のデータを取り込み(ステップS21)、次にその不良箇所に効率的にプラズマ照射できるように照射位置を決定する(ステップS22)。次に、基板搬入検出センサ3からの信号に実装基板1の搬入まで待機し(ステップS23)、実装基板1が搬入されるとプラズマ照射手段6の点火を行うとともに点火確認センサ7にて点火の確認を行い、点火しなかった場合には点火を3回まで繰り返し、それでも点火を確認できない場合はエラーメッセージを出力して中断する(ステップS24〜S27)。
次に、本発明の実装基板クリーニング方法及び装置の第2の実施形態について、図4、図5を参照して説明する。なお、本実施形態の説明においては、上記第1の実施形態と同一の構成要素については同一参照符号を付して説明を省略し、主として相違点についてのみ説明する。
次に、本発明の実装基板クリーニング装置を適用した実装ラインに係る第3の実施形態について、図6を参照して説明する。
2 実装基板移送手段
5 制御コントローラ
6 プラズマ照射手段
8 プラズマ照射位置制御ユニット
9 高さ検出センサ
Claims (5)
- 実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板の設計データ若しくはスクリーン印刷用のスクリーン開口データを読み取る工程と、読み取ったデータに基づいて実装基板に対するプラズマの照射位置を決定する工程と、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、決定した照射位置にプラズマ照射を行うように実装基板とプラズマ照射手段の相対位置を位置決めする工程と、位置決め後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むことを特徴とする実装基板クリーニング方法。
- 実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板の検査データを読み取る工程と、読み取ったデータに基づいて実装基板に対するプラズマの照射位置を決定する工程と、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、決定した照射位置にプラズマ照射を行うように実装基板とプラズマ照射手段の相対位置を位置決めする工程と、位置決め後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むことを特徴とする実装基板クリーニング方法。
- 実装基板のプラズマ照射位置の高さを検出する工程と、検出した高さデータに基づいてプラズマ照射ユニットの高さを調整する工程とを有することを特徴とする請求項1又は2記載の実装基板クリーニング方法。
- 実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、実装基板のプラズマ照射位置の高さを検出する工程と、検出した高さデータに基づいてプラズマ照射ユニットの高さを調整する工程と、高さ調整後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むことを特徴とする実装基板クリーニング方法。
- 実装基板における接合用のランド部に対してプラズマを照射してクリーニングを行うことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の実装基板クリーニング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003352303A JP4421869B2 (ja) | 2003-10-10 | 2003-10-10 | 実装基板クリーニング方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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JP2005116950A JP2005116950A (ja) | 2005-04-28 |
JP4421869B2 true JP4421869B2 (ja) | 2010-02-24 |
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JP (1) | JP4421869B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5103738B2 (ja) * | 2006-01-12 | 2012-12-19 | パナソニック株式会社 | 大気圧プラズマ処理方法及び装置 |
JP4946339B2 (ja) * | 2006-10-13 | 2012-06-06 | パナソニック株式会社 | 大気圧プラズマ発生装置とプラズマ処理方法及び装置 |
KR100869825B1 (ko) | 2007-03-27 | 2008-11-21 | 주식회사 피에스엠 | 스크린 인쇄 방법 및 장치 |
JP5067006B2 (ja) * | 2007-05-15 | 2012-11-07 | パナソニック株式会社 | 大気圧プラズマ処理方法 |
CN114208406B (zh) | 2019-08-21 | 2023-09-05 | 株式会社富士 | 对基板作业机 |
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2003
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JP2005116950A (ja) | 2005-04-28 |
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A977 | Report on retrieval |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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