JP4421869B2 - 実装基板クリーニング方法及び装置 - Google Patents

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本発明は、実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法及び装置に関するものである。
従来、実装基板に対して実装を行う前に、接合用のランドに生じた酸化膜や、防錆用に形成したプリフラックスやメッキした酸化膜などを除去するクリーニング処理をプラズマ照射によって行う場合、実装基板の全体を真空チャンバーを有するプラズマクリーニング装置に投入して実装基板の全面を一括してクリーニングしたり、アークジェット法により形成されたプラズマガスをアークジェットノズルから吹き付けていた(例えば、特許文献1参照。)。
また、実装基板におけるフラックス残渣を除去する方法として、リフローにて半田付けされた部分にプラズマ発生装置で発生させたプラズマを照射することで、フラックス残渣の有機成分を酸化分解させ、CO2 やH2 O等にガス化して除去する方法も知られている(例えば、特許文献2参照。)。
一方、近年、対向配置した電極対の対向面に誘電体を設け、その誘電体間のプラズマ発生空間にガスを供給しつつ電極に高電圧を印加することで大気圧下でプラズマを発生し、発生したプラズマを照射する大気圧プラズマ照射手段が実用化されつつあり、この大気圧プラズマ照射手段を用いることも考えられている。
特開2001−267729号公報 特開平7−122595号公報
ところが、上記従来の真空チャンバーを有するプラズマクリーニング装置を用いてクリーニングする方法は、装置が大掛かりでコスト高になるとともに、真空チャンバー内でのバッチ処理であるため生産性を向上することができないという問題があり、またアークジェット法により形成されたプラズマガスをアークジェットノズルから吹き付ける方法も同様の問題がある。
一方、大気圧プラズマ照射手段を用いる場合、大気圧プラズマは大面積で均一に発生することが困難であるため、実装基板のような大面積に対してプラズマ照射を行うには、複数の大気圧プラズマ照射手段を配列して大面積に対応する必要があるため、コスト高になるという問題があり、単一の大気圧プラズマ照射手段を用いる場合には実装基板の全面をカバーするように照射域を走査して複数回照射する必要があるため、照射に時間がかかり、クリーニング処理のタクトが長くなるという問題があり、また実装基板の全面に一様に照射するため効率が悪くなるという問題がある。
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、実装基板の必要な部分にのみプラズマ照射を行うことで、低コストの構成にて短いタクトで確実にクリーニング処理を行うことができる実装基板クリーニング方法及び装置を提供することを課題とする。
本発明の第1発明の実装基板クリーニング方法は、実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板の設計データ若しくはスクリーン印刷用のスクリーン開口データを読み取る工程と、読み取ったデータに基づいて実装基板に対するプラズマの照射位置を決定する工程と、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、決定した照射位置にプラズマ照射を行うように実装基板とプラズマ照射手段の相対位置を位置決めする工程と、位置決め後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むものである。
この構成によると、実装基板の全面に一様にプラズマを照射するのではなく、実装基板の設計データ若しくはスクリーン印刷用のスクリーン開口データに基づいて決定した必要な部分にのみプラズマを照射してクリーニングを行うので、小面積に対してのみプラズマを照射できる大気圧プラズマ照射手段であっても少ないプラズマ照射手段を用いた低コストの構成にて短いタクトで必要な部分を確実にクリーニングすることができる。
また、第2発明の実装基板クリーニング方法は、実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板の検査データを読み取る工程と、読み取ったデータに基づいて実装基板に対するプラズマの照射位置を決定する工程と、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、決定した照射位置にプラズマ照射を行うように実装基板とプラズマ照射手段の相対位置を位置決めする工程と、位置決め後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むものである。
この構成においても、実装基板の検査データに基づいて決定した部分にのみプラズマを照射してクリーニングを行うので、低コストの構成にて短いタクトで必要な部分を確実にクリーニングすることができる。例えば、半田接合検査によって接合不良が頻発する箇所が判明した場合に、その接合不良が発生するランドに対してクリーニングを行うことによって接合不良の発生を確実に抑制することができる。
また、以上の実装基板クリーニング方法において、実装基板のプラズマ照射位置の高さを検出する工程と、検出した高さデータに基づいてプラズマ照射手段の高さを調整する工程とを有すると、実装基板の照射箇所に対して効率的にプラズマ照射を行うことができる。すなわち、プラズマ中で発生したラジカルの寿命は数μsec程度であり、照射距離が長いと途中でラジカルが消滅してクリーニング効果が激減するため照射距離を制御することは重要であり、プラズマ照射位置の高さに合わせてプラズマ照射手段の高さを数mm〜数10mm程度に調整することにより、最適なクリーニング作用を得ることができる。
また、第3発明の実装基板クリーニング方法は、実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手
段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、実装基板のプラズマ照射位置の高さを検出する工程と、検出した高さデータに基づいてプラズマ照射ユニットの高さを調整する工程と、高さ調整後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むものであり、プラズマ照射手段の高さを制御することによる上記効果を単独で奏することができる。
また、以上の実装基板クリーニング方法において、実装基板における接合用のランド部に対してプラズマを照射してクリーニングを行うと、ランドの濡れ性が向上して信頼性の高い接合状態が確保されて効果的である。なお、実装基板に実装したリード部品のリード切断端面にプラズマを照射してクリーニングを行っても、リード切断端面の濡れ性が改善されてフィレット形成に効果的である。
本発明によれば、実装基板の全面に一様にプラズマを照射するのではなく、実装基板の設計データやスクリーン印刷用のスクリーン開口データなどに基づいて決定した必要な部分にのみプラズマを照射してクリーニングを行うので、小面積に対してのみプラズマを照射できる大気圧プラズマ照射手段であっても少ないプラズマ照射手段を用いた低コストの構成にて短いタクトで必要な部分を確実にクリーニングすることができる。
(第1の実施形態)
以下、本発明の実装基板クリーニング方法及び装置の第1の実施形態について、図1〜図3を参照して説明する。
図1において、1は実装基板で、実装基板移送手段2にて移動及び位置決めが行われる。3は基板搬入検出センサ、4は基板搬出検出センサで、その検出信号が制御コントローラ5に入力され、制御コントローラ5は基板搬入検出センサ3の検出信号に基づいて実装基板1の原点位置認識を行い、実装基板移送手段2を制御して実装基板1の位置を制御する。また、基板搬出検出センサ4の検出信号に基づいて実装基板1の搬出を確認する。
6は実装基板1に対してプラズマを照射して照射部位のクリーニングを行うプラズマ照射手段であり、本実施形態では、対向配置した電極対の対向面に誘電体を設け、その誘電体間のプラズマ発生空間にガスを供給しつつ電極に高電圧を印加することで大気圧下でプラズマを発生し、発生したプラズマを照射する大気圧プラズマ照射手段を用いている。なお、他の構成の大気圧プラズマ照射手段を適用しても良く、さらには任意のアークジェット法などによるプラズマ照射手段を適用することもできるが、上記の大気圧プラズマ照射手段はコンパクトかつ簡便な構成で低コストにて構成することができて好適である。7はプラズマ照射手段6におけるプラズマ点火を確認する点火確認センサであり、その検出信号が制御コントローラ5に入力されている。
8はプラズマ照射手段6を移動させて照射位置を制御するプラズマ照射位置制御ユニットである。実装基板1のクリーニングには、実装基板移送手段2により実装基板1を移動させつつ、プラズマ照射位置制御ユニット8にてプラズマ照射手段6を実装基板1の移動方向と直交する方向に位置制御して実装基板1の所要位置にプラズマを照射する。また、実装基板移送手段2により実装基板1を所定位置に位置決めした状態で、プラズマ照射位置制御ユニット8にてプラズマ照射手段6の位置を制御して実装基板1の所要位置にプラズマを照射してもよい。
制御コントローラ5には、CADデータ、実装データ(部品の形状、種類、実装位置情報データ)、スクリーン印刷用のスクリーン開口データ(以下、ガーバデータと称することがある。)や、印刷工程後の検査データ、実装終了後の検査データ、リフロー工程後の検査データなどが入力されている。制御コントローラ5は、これらのデータに基づいて実装基板移送手段2、プラズマ照射手段6、及びプラズマ照射位置制御ユニット8の動作制御を行う。
以上の構成において、CADデータ若しくはガーバデータに基づいて実装基板1の半田接合用のランドをクリーニングする場合の制御コントローラ5における動作制御を図2を参照して説明する。まず、CADデータ若しくはガーバデータなどからクリーニングの対象とする実装基板1におけるランド位置のデータを取り込み(ステップS11)、次にそのランド部分に効率的にプラズマ照射できるように照射位置を決定する(ステップS12)。次に、基板搬入検出センサからの信号に実装基板1の搬入まで待機し(ステップS13)、実装基板1が搬入されるとプラズマ照射手段6の点火を行うとともに点火確認センサ7にて点火の確認を行い、点火しなかった場合には点火を3回まで繰り返し、それでも点火を確認できない場合はエラーメッセージを出力して中断する(ステップS14〜S17)。
実装基板1が搬入され、プラズマ照射手段6が点火された状態で、実装基板1を実装基板移送手段2にて実装基板1を移動させつつ、若しくは所定位置に位置決めして、実装基板1のランド部分に対してのみプラズマ照射手段6にてプラズマを照射し(ステップS18)、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板1が基板搬出センサ4を通過するとプラズマをオフする(ステップS19)。そして、同種の実装基板1が搬入される間は、以上のステップS13〜S19を繰り返し、最終の実装基板1が搬出されると動作を終了する(ステップS20)。
次に、実装検査データに基づいて実装基板1における半田接合不良などの実装不良箇所に対応するランドに対してクリーニングを行う場合の制御コントローラ5における動作制御を図3を参照して説明する。まず、実装検査データから濡れ不良、半田不良などの不良
内容の不良箇所のデータを取り込み(ステップS21)、次にその不良箇所に効率的にプラズマ照射できるように照射位置を決定する(ステップS22)。次に、基板搬入検出センサからの信号に実装基板1の搬入まで待機し(ステップS23)、実装基板1が搬入されるとプラズマ照射手段6の点火を行うとともに点火確認センサ7にて点火の確認を行い、点火しなかった場合には点火を3回まで繰り返し、それでも点火を確認できない場合はエラーメッセージを出力して中断する(ステップS24〜S27)。
実装基板1が搬入され、プラズマ照射手段6が点火された状態で、実装基板1を実装基板移送手段2にて実装基板1を移動させつつ、若しくは所定位置に位置決めして、実装基板1の不良箇所に対応するランド部分に対してのみプラズマ照射手段6にてプラズマを照射し(ステップS28)、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板1が基板搬出センサ4を通過するとプラズマをオフする(ステップS29)。そして、同種の実装基板1が搬入される間は、以上のステップS23〜S29を繰り返し、最終の実装基板1が搬出されると動作を終了する(ステップS30)。
なお、以上の説明では、CADデータ若しくはガーバデータに基づいて実装基板1の半田接合用のランドをクリーニングする場合と、実装検査データに基づいて実装基板1における半田接合不良などの実装不良箇所に対応するランドに対してクリーニングを行う場合をそれぞれ別途に行う例を説明したが、同時に併用して実施しても良いことは言うまでもない。さらに、各種検査データから実装基板だけでなく、スクリーンマスクの特定の箇所にプラズマを照射してクリーニングしても良い。
本実施形態によれば、実装基板1のCADデータやガーバデータや実装検査データなどに基づいて決定した必要な部分にのみプラズマ照射手段6からプラズマを照射してクリーニングを行うので、プラズマ照射手段6として小面積に対してのみプラズマを照射できる大気圧プラズマ照射手段を適用しても、単一若しくは少ないプラズマ照射手段6を設備した低コストの構成にて短いタクトで実装基板1に対してその必要な部分を確実にクリーニングすることができる。
(第2の実施形態)
次に、本発明の実装基板クリーニング方法及び装置の第2の実施形態について、図4、図5を参照して説明する。なお、本実施形態の説明においては、上記第1の実施形態と同一の構成要素については同一参照符号を付して説明を省略し、主として相違点についてのみ説明する。
本実施形態では、図4に示すように、搬入された実装基板1の任意の部位の高さを検出する高さ検出センサ9を設け、またプラズマ照射位置制御ユニット8にはプラズマ照射手段6の高さ位置を制御する機能を設けている。そして、高さ検出センサ9の検出データを制御コントローラ5に入力し、実装基板1のプラズマ照射を行う部分の高さデータに基づいてプラズマ照射手段6の高さ位置を制御するように構成されている。
以上の構成において、実装基板1のプラズマを照射してクリーニングすべき部分の高さに応じてプラズマ照射手段6の高さを調整する場合の制御コントローラ5における動作制御を図5を参照して説明する。まず、基板搬入検出センサからの信号に実装基板1の搬入まで待機し(ステップS31)、実装基板1が搬入されるとプラズマ照射手段6の点火を行うとともに点火確認センサ7にて点火の確認を行い、点火しなかった場合には点火を3回まで繰り返し、それでも点火を確認できない場合はエラーメッセージを出力して中断する(ステップS32〜S35)。
実装基板1が搬入され、プラズマ照射手段6が点火された状態で、高さ検出センサ9にて実装基板1の所要部分の高さを計測し(ステップS36)、その計測結果に応じて制御コントローラ5がプラズマ照射位置制御ユニット8の高さ制御機能を作動させてプラズマ照射手段6の高さ調整を行う(ステップS37)。その状態で実装基板1を実装基板移送手段2にて実装基板1を移動させつつ、若しくは所定位置に位置決めして、実装基板1のランド部分に対してのみプラズマ照射手段6にてプラズマを照射し(ステップS38)、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板1が基板搬出センサ4を通過するとプラズマをオフする(ステップS39)。そして、同種の実装基板1が搬入される間は、以上のステップS31〜S39を繰り返し、最終の実装基板1が搬出されると動作を終了する(ステップS40)。
なお、図5の説明においては説明を簡略するため、第1の実施形態で説明したようにCADデータやガーバデータや実装検査データなどに基づいて実装基板1におけるプラズマを照射すべき部位を制御する点の説明を省略したが、その制御と併用することができることは言うまでもない。一方、本実施形態は一般的にプラズマ照射手段6から実装基板1に対してプラズマを照射してクリーニングを行う場合にラジカルを確実に活用することができるので、単独で実施しても効果を奏することができる。
本実施形態によれば、プラズマ中で発生したラジカルの寿命が数μsec程度と短く、プラズマの照射距離が長いと途中でラジカルが消滅してクリーニング効果が激減してしまうのに対して、プラズマ照射する部位に対してプラズマ照射手段6の高さを数mm〜数10mm程度に調整することにより、プラズマ中で発生したラジカルを確実にクリーニングすべき面に効率的に照射することができ、最適なクリーニング作用を得ることができる。
(第3の実施形態)
次に、本発明の実装基板クリーニング装置を適用した実装ラインに係る第3の実施形態について、図6を参照して説明する。
図6において、ライン外から実装基板1が投入されると、実装基板クリーニング装置11にてCADデータや実装データやガーバデータやクリーム半田印刷検査機の検査データや半田付け検査機の検査データに基づいて所要部位のプラズマクリーニング処理が行われる。次いで、実装基板1はクリーム半田印刷機12で所要のランド部にクリーム半田が印刷され、その後クリーム半田印刷検査機13にてカケ、にじみ、ズレ、半田無し等の印刷状態の適否が検査され、その検査結果に応じてクリーム半田印刷機12及び実装基板クリーニング装置11の調整・管理が行われる。次に、接着剤塗布機14にて部品装着位置に接着剤が塗布された後、高速装着機15及び多機能装着機16にて電子部品が装着され、その後部品装着検査機17にて欠品、立ち装着、装着ズレ、極性不良などが検査され、その検査結果に応じて高速装着機15及び多機能装着機16の調整・管理が行われる。次に、リフロー炉18にてクリーム半田のリフロー半田付けが行われた後、半田付け検査機19にて半田付け不良の検査が行われる。検査データは、基板別、NG内容別、部品名別などの解析やNG画像の解析が行われ、その結果に応じてリフロー炉18、装着機15、16、クリーム半田印刷機12、及び実装基板クリーニング装置11の調整管理が行われる。
本実施形態の実装ラインによれば、実装基板1のプラズマクリーニング処理を必要とする箇所に対してのみ必要に応じて適切に行うことので、生産性良く品質の高い実装を行うことができる。
本発明に係る実装基板クリーニング方法及び装置は、実装基板の設計データ、スクリーン印刷用のスクリーン開口データ、検査データなどに基づいて決定した必要な部分にのみプラズマを照射してクリーニングを行うので、少ないプラズマ照射手段を用いた低コストの構成にて短いタクトで必要な部分を確実にクリーニングすることができ、各種実装基板のクリーニングに有用である。
本発明の第1の実施形態の実装基板クリーニング装置の概略構成図である。 同実施形態におけるクリーニング工程の制御フロー図である。 同実施形態における他のクリーニング工程の制御フロー図である。 本発明の第2の実施形態の実装基板クリーニング装置の概略構成図である。 同実施形態におけるクリーニング工程の制御フロー図である。 本発明の第3の実施形態の実装ラインの構成図である。
符号の説明
1 実装基板
2 実装基板移送手段
5 制御コントローラ
6 プラズマ照射手段
8 プラズマ照射位置制御ユニット
9 高さ検出センサ

Claims (5)

  1. 実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板の設計データ若しくはスクリーン印刷用のスクリーン開口データを読み取る工程と、読み取ったデータに基づいて実装基板に対するプラズマの照射位置を決定する工程と、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、決定した照射位置にプラズマ照射を行うように実装基板とプラズマ照射手段の相対位置を位置決めする工程と、位置決め後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むことを特徴とする実装基板クリーニング方法。
  2. 実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板の検査データを読み取る工程と、読み取ったデータに基づいて実装基板に対するプラズマの照射位置を決定する工程と、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、決定した照射位置にプラズマ照射を行うように実装基板とプラズマ照射手段の相対位置を位置決めする工程と、位置決め後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むことを特徴とする実装基板クリーニング方法。
  3. 実装基板のプラズマ照射位置の高さを検出する工程と、検出した高さデータに基づいてプラズマ照射ユニットの高さを調整する工程とを有することを特徴とする請求項1又は2記載の実装基板クリーニング方法。
  4. 実装基板にプラズマを照射してクリーニングする実装基板クリーニング方法であって、実装基板が搬入されるとプラズマ照射手段の点火を行う工程と、プラズマ照射手段が点火された状態で、実装基板のプラズマ照射位置の高さを検出する工程と、検出した高さデータに基づいてプラズマ照射ユニットの高さを調整する工程と、高さ調整後プラズマ照射手段からプラズマを照射する工程と、プラズマ照射によるクリーニングを終了した実装基板が搬出されるとプラズマをオフする工程とを含むことを特徴とする実装基板クリーニング方法。
  5. 実装基板における接合用のランド部に対してプラズマを照射してクリーニングを行うことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の実装基板クリーニング方法。
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JP5067006B2 (ja) * 2007-05-15 2012-11-07 パナソニック株式会社 大気圧プラズマ処理方法
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