JP5103738B2 - 大気圧プラズマ処理方法及び装置 - Google Patents
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 173
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 128
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 43
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 15
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 claims description 10
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
以下、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第1の実施形態について、図1〜図11を参照しながら説明する。
次に、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第2の実施形態について、図12を参照して説明する。なお、以下の実施形態の説明においては、先行する実施形態と同一の構成要素について同一の参照符号を付して説明を省略し、主として相違点について説明する。
次に、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第3の実施形態について、図13〜図15を参照して説明する。
次に、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第4の実施形態について、図16、図17を参照して説明する。
2 被処理物
3 搬送コンベア(移動手段)
4 大気圧プラズマ発生部
5 処理開始認識手段
6 処理終了認識手段
11 プラズマ
12 点火手段
13 プラズマ確認手段
14 ガス供給部
15 流量制御部
16 高周波発生部
17 制御部
18 流量コントローラ
19 圧力調整手段
20 不活性ガス供給部
20a 流量制御部
21 反応性ガス供給部
21a 流量制御部
22 高電圧パルス発生装置
31 ガス供給通路
32 混合領域
41 大気圧プラズマ処理装置
51 大気圧プラズマ処理装置
Claims (4)
- 所定の空間にプラズマ化に使用するプラズマ化ガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、
前記被処理物に対する処理開始決定により、プラズマ処理に必要な流量である処理流量まで前記プラズマ化ガスの流量を増加させるとともにプラズマを点火して前記被処理物をプラズマ処理し、
前記被処理物に対する処理終了決定により、前記所定の空間内のガス雰囲気を再点火可能な状態に維持できる微小流量まで前記プラズマ化ガスの流量を減少させるとともにプラズマを消灯し、次の処理開始決定まで前記プラズマ化ガスの流量を前記微小流量に維持させるものであり、プラズマの消灯を、前記プラズマ化ガスの流量の減少、又は印加する高周波電圧のオフにより行い、またプラズマ点火時に、プラズマ発生の確認を行い、点火確認まで点火動作を行い、点火を確認するとプラズマ処理に移行し、また前記微小流量は、前記所定の空間内のガス雰囲気を再点火可能な状態に維持できる最低限の流量であって、前記所定の空間内への外部からの異物の侵入を阻める流量であることを特徴とする大気圧プラズマ処理方法。 - プラズマ点火は、前記所定の空間の近傍で、連続的に交流又はパルス状の点火電圧を印加して行い、プラズマ発生の確認により点火電圧の印加を停止することを特徴とする請求項1記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 供給する前記プラズマ化ガスは、アルゴン、ネオン、キセノン、ヘリウム、窒素から選択された単独ガス又は複数の混合ガスからなる不活性ガスを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 所定の空間にプラズマ化に使用するプラズマ化ガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させる大気圧プラズマ発生部と、高周波電圧を発生させる高周波発生部と、前記プラズマ化ガスを供給するガス供給部と、前記所定の空間に流す前記プラズマ化ガスの流量を制御する流量制御部と、プラズマの点火を行う点火手段と、プラズマにて処理する被処理物を前記大気圧プラズマ発生部に対して相対的に移動させる移動手段と、前記被処理物に対するプラズマ処理開始のタイミングを認識する処理開始認識手段と、前記被処理物に対するプラズマ処理終了のタイミングを認識する処理終了認識手段と、前記処理開始認識手段と前記処理終了認識手段からの信号を入力とし、前記プラズマ化ガスの流量と前記点火手段の作動を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記処理開始認識手段からの信号によりプラズマ処理に必要な流量である処理流量まで前記プラズマ化ガスの流量を増加させるとともにプラズマを点火して前記被処理物をプラズマ処理し、
前記処理終了認識手段からの信号により前記所定の空間内のガス雰囲気を再点火可能な状態に維持できる微小流量まで前記プラズマ化ガスの流量を減少させるとともにプラズマを消灯し、次の処理開始決定まで前記プラズマ化ガスの流量を前記微小流量に維持させるものであり、プラズマの消灯を、前記プラズマ化ガスの流量の減少、又は印加する高周波電圧のオフにより行い、またプラズマ点火時に、プラズマ発生の確認を行い、点火確認まで点火動作を行い、点火を確認するとプラズマ処理に移行し、また前記微小流量は、前記所定の空間内のガス雰囲気を再点火可能な状態に維持できる最低限の流量であって、前記所定の空間内への外部からの異物の侵入を阻める流量であることを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006004296A JP5103738B2 (ja) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | 大気圧プラズマ処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006004296A JP5103738B2 (ja) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | 大気圧プラズマ処理方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007188690A JP2007188690A (ja) | 2007-07-26 |
JP5103738B2 true JP5103738B2 (ja) | 2012-12-19 |
Family
ID=38343719
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006004296A Expired - Fee Related JP5103738B2 (ja) | 2006-01-12 | 2006-01-12 | 大気圧プラズマ処理方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5103738B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5211759B2 (ja) * | 2008-02-29 | 2013-06-12 | パナソニック株式会社 | 大気圧プラズマ処理方法 |
JP5362934B2 (ja) * | 2011-05-17 | 2013-12-11 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP5849218B2 (ja) * | 2011-06-14 | 2016-01-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 成膜装置 |
JP5375985B2 (ja) * | 2012-01-25 | 2013-12-25 | パナソニック株式会社 | 大気圧プラズマ処理装置 |
KR101868462B1 (ko) * | 2012-12-28 | 2018-06-21 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
JP6359011B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2018-07-18 | 株式会社Fuji | 大気圧プラズマ発生装置、およびプラズマ発生方法 |
JP2015109169A (ja) * | 2013-12-04 | 2015-06-11 | 春日電機株式会社 | 放電処理における放電検出方法 |
DE102017105410A1 (de) * | 2017-03-14 | 2018-09-20 | Epcos Ag | Plasmagenerator |
WO2018179362A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 株式会社Fuji | プラズマ発生装置 |
JP2022550844A (ja) * | 2019-10-04 | 2022-12-05 | ライプニッツ-インスティトゥート ファー プラズマフォルシュング ウント テクノロジー イー ヴイ | プラズマジェット機器構成を作動するためのシステム及びその方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0959777A (ja) * | 1995-06-16 | 1997-03-04 | Sekisui Chem Co Ltd | 放電プラズマ処理方法及び放電プラズマ処理装置 |
JPH0969397A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-03-11 | Hitachi Ltd | 誘導結合プラズマ発生装置 |
JPH10175073A (ja) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | Sansha Electric Mfg Co Ltd | プラズマアーク利用機器 |
JP4164967B2 (ja) * | 1999-04-23 | 2008-10-15 | 松下電工株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP2002039944A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-06 | Shimadzu Corp | Icp光源装置 |
JP2004022397A (ja) * | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Ulvac Japan Ltd | 大気圧プラズマ処理方法及び装置 |
JP4071069B2 (ja) * | 2002-08-28 | 2008-04-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 絶縁膜のエッチング方法 |
US6777638B2 (en) * | 2002-11-14 | 2004-08-17 | The Esab Group, Inc. | Plasma arc torch and method of operation for reduced erosion of electrode and nozzle |
JP2005108709A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Sekisui Chem Co Ltd | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP4421869B2 (ja) * | 2003-10-10 | 2010-02-24 | パナソニック株式会社 | 実装基板クリーニング方法及び装置 |
JP4612520B2 (ja) * | 2005-10-11 | 2011-01-12 | シャープ株式会社 | 大気圧プラズマ処理装置 |
JP5162828B2 (ja) * | 2006-01-12 | 2013-03-13 | パナソニック株式会社 | 大気圧プラズマ処理方法及び装置 |
-
2006
- 2006-01-12 JP JP2006004296A patent/JP5103738B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007188690A (ja) | 2007-07-26 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071225 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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|
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151012 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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