JP5849218B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Description
C 膜
E 電界
P プラズマ
W 被処理物
CG 成膜ガス
PG プラズマ生成ガス
1 第1ノズル
2 第2ノズル
3 電極
5 第1流路
9 第2流路
11 放出口
13 プラズマ生成部
14 合流部
18 ノズル移動部
21 プラズマ検知部
22 移動制御部
24 開口可変部
31 開口制御部
32 成膜ガス制御部
34 膜検知部
Claims (17)
- 大気圧下においてプラズマを生成し、このプラズマを用いて被処理物の表面に膜原料を付着させて成膜するための成膜装置であって、前記膜原料を含有する成膜ガスを流通させるための第1流路と、プラズマ生成ガスを流通させるための第2流路と、前記プラズマ生成ガスに電界を印加して前記プラズマを生成させるための電極と、前記第1流路と前記第2流路とを合流させるための合流部と、前記合流部から前記膜原料を放出させるための放出口とを備え、前記第1流路から前記合流部への前記成膜ガスの流入方向と、前記合流部での前記プラズマの流通方向とが略平行となるように前記第1流路が前記第2流路内に形成され、前記第1流路から前記合流部への前記成膜ガスの流入速度が、前記合流部での前記プラズマの流速よりも高速であることを特徴とする成膜装置。
- 前記電極により前記プラズマが生成される箇所をプラズマ生成部とし、前記第1流路と前記合流部との境界における前記第1流路の断面積が、前記プラズマ生成部における第1流路の断面積よりも小さく形成されて成ることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記電極を複数個備え、これらの電極が前記第2流路を流通するプラズマ生成ガスの流通方向と略平行な方向に並設されて成ることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜装置。
- 前記第1流路を有する第1ノズルと前記第2流路を有する第2ノズルとを備え、前記第1ノズルは前記第2流路内に設けられ、前記第1ノズルと前記第2ノズルは前記第2流路におけるプラズマ生成ガスの流通方向と略平行な方向に相対的に移動自在に形成されて成ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記第2ノズルが円管を用いて形成されて成ることを特徴とする請求項4に記載の成膜装置。
- 前記第2ノズルが角管を用いて形成されて成ることを特徴とする請求項4に記載の成膜装置。
- 前記第1ノズルと前記第2ノズルの少なくとも一方を他方に対して移動させるためのノズル移動部を備えて成ることを特徴とする請求項4乃至6のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記プラズマの状態を検知するプラズマ検知部を有し、このプラズマ検知部の検知結果に基づいて前記ノズル移動部による前記第1ノズルと前記第2ノズルの少なくとも一方の移動量を制御するための移動制御部を備えて成ることを特徴とする請求項7に記載の成膜装置。
- 前記プラズマの状態を検知するプラズマ検知部を有し、このプラズマ検知部の検知結果に基づいて、前記成膜ガスの供給量を制御する成膜ガス制御部を備えて成ることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記放出口の開口面積を可変にするための開口可変部を備えると共に前記プラズマの状態を検知するプラズマ検知部を有し、このプラズマ検知部の検知結果に基づいて前記開口可変部による前記開口面積の可変量を制御する開口制御部を備えて成ることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記プラズマ検知部が、前記第2流路内で生成されたプラズマ又は前記放出口から放出されたプラズマの放射光を検知する光センサーであることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記被処理物に形成された膜の状態を検知する膜検知部を有し、この膜検知部の検知結果に基づいて、前記成膜ガスの供給量を制御する成膜ガス制御部を備えて成ることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記放出口の開口面積を可変にするための開口可変部を備えると共に前記被処理物に形成された膜の状態を検知する膜検知部を有し、この膜検知部の検知結果に基づいて前記開口可変部による前記開口面積の可変量を制御する開口制御部を備えて成ることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記膜検知部が、前記被処理物に形成された膜の反射光あるいは透過光を検知する光センサーであることを特徴とする請求項12又は13に記載の成膜装置。
- 前記第1流路の合流位置における前記合流部の断面積よりも前記放出口の開口面積が小さく形成されて成ることを特徴とする請求項1乃至14のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記放出口の開口面積が可変自在に形成されて成ることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記電極を複数個備え、これらの電極が前記第2流路を流通するプラズマ生成ガスの流通方向と略平行な方向に並設され、前記プラズマ生成ガスの流通方向に対して最も下流側に配置した前記電極を接地して成ることを特徴とする請求項1乃至16のいずれか一項に記載の成膜装置。
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