JP2007188690A - 大気圧プラズマ処理方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、処理開始認識手段5からの信号にて処理開始を決定し、ガスの流量を増加させるとともにプラズマを点火して被処理物2をプラズマ処理し、処理終了認識手段6からの信号にて被処理物2に対する処理終了を決定し、ガスの流量を減少させるとともにプラズマ11を消灯しかつ微量のガスを流し続けて前記所定の空間内の雰囲気を保持するようにした。
【選択図】図3
Description
以下、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第1の実施形態について、図1〜図11を参照しながら説明する。
次に、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第2の実施形態について、図12を参照して説明する。なお、以下の実施形態の説明においては、先行する実施形態と同一の構成要素について同一の参照符号を付して説明を省略し、主として相違点について説明する。
次に、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第3の実施形態について、図13〜図15を参照して説明する。
次に、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第4の実施形態について、図16、図17を参照して説明する。
2 被処理物
3 搬送コンベア(移動手段)
4 大気圧プラズマ発生部
5 処理開始認識手段
6 処理終了認識手段
11 プラズマ
12 点火手段
13 プラズマ確認手段
14 ガス供給部
15 流量制御部
16 高周波発生部
17 制御部
18 流量コントローラ
19 圧力調整手段
20 不活性ガス供給部
20a 流量制御部
21 反応性ガス供給部
21a 流量制御部
22 高電圧パルス発生装置
31 ガス供給通路
32 混合領域
41 大気圧プラズマ処理装置
51 大気圧プラズマ処理装置
Claims (19)
- 所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、被処理物に対する処理開始決定によりガスの流量を増加させるとともにプラズマを点火して被処理物をプラズマ処理し、被処理物に対する処理終了決定によりガスの流量を減少させるとともにプラズマを消灯しかつガスを流し続けることを特徴とする大気圧プラズマ処理方法。
- プラズマの消灯を、ガス流量の減少により行うことを特徴とする請求項1記載の大気圧プラズマ処理方法。
- プラズマの消灯を、印加する高周波電圧のオフにより行うことを特徴とする請求項1又は2記載の大気圧プラズマ処理方法。
- プラズマ点火時に、プラズマ発生の確認を行い、点火確認まで点火動作を行い、点火を確認するとプラズマ処理に移行することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の大気圧プラズマ処理方法。
- プラズマ点火は、前記所定の空間の近傍で、連続的に交流又はパルス状の点火電圧を印加して行い、プラズマ発生の確認により点火電圧の印加を停止することを特徴とする請求項4記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、被処理物に対する処理開始決定によりガス流量を増加しプラズマを点火して被処理物をプラズマ処理し、被処理物に対する処理終了決定によりガス流量を低減させてプラズマを消灯し、かつ前記プラズマ点火を、前記所定の空間の近傍で、連続的に交流又はパルス状の点火電圧を印加して行い、プラズマ発生の確認により点火電圧の印加を停止して被処理物のプラズマ処理を開始することを特徴とする大気圧プラズマ処理方法。
- 供給するガスは、アルゴン、ネオン、キセノン、ヘリウム、窒素から選択された単独ガス又は複数の混合ガスからなる不活性ガスを含むことを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 供給するガスに、反応性ガスを含むことを特徴とする請求項7記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させる大気圧プラズマ発生部と、高周波電圧を発生させる高周波発生部と、ガスを供給するガス供給部と、所定の空間に流すガス流量を制御する流量制御部と、プラズマの点火を行う点火手段と、プラズマにて処理する被処理物を大気圧プラズマ発生部に対して相対的に移動させる移動手段と、被処理物に対するプラズマ処理開始のタイミングを認識する処理開始認識手段と、被処理物に対するプラズマ処理終了のタイミングを認識する処理終了認識手段と、処理開始認識手段と処理終了認識手段からの信号を入力とし、ガス流量と点火手段の作動を制御する制御部とを備えたことを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。
- 制御部は、処理開始認識手段からの信号に基づいてガス流量をプラズマ処理に要する流量に増加するとともにプラズマを点火し、処理終了認識手段からの信号に基づいてガス流量を減少するとともにプラズマを消灯しかつガスを流し続けることを特徴とする請求項9記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 制御部は、プラズマの消灯をガス流量の減少によって行うことを特徴とする請求項10記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 制御部は、プラズマの消灯を印加する高周波電圧のオフにより行うことを特徴とする請求項10記載の大気圧プラズマ処理装置。
- プラズマの発生を確認するプラズマ確認手段を備え、制御部は、プラズマ点火時にプラズマ確認手段からの信号によりプラズマの発生を確認するまで点火手段を作動させることを特徴とする請求項9〜12の何れかに記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 点火手段は、前記所定の空間の近傍で連続的に交流又はパルス状の点火電圧を印加する手段から成り、プラズマ発生の確認により点火電圧の印加を停止することを特徴とする請求項13記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 流量制御部は、流量コントローラから成ることを特徴とする請求項9〜14の何れかに記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 流量制御部は、圧力調整手段から成ることを特徴とする請求項9〜14の何れかに記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 大気圧プラズマ発生部にガスを供給するガス供給系統が複数設けられ、各ガス供給系統毎にガス供給部と流量制御部が設けられていることを特徴とする請求項9〜16の何れかに記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 複数のガス系統のうち、少なくとも一つは前記空間内に供給されてプラズマを発生させ、残りのガス系統は発生したプラズマにガスを混合させるように配設されていることを特徴とする請求項17記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させる大気圧プラズマ発生部と、高周波電圧を発生させる高周波発生部と、ガスを供給するガス供給部と、所定の空間に流すガス流量を制御する流量制御部と、前記所定の空間の近傍で連続的に交流又はパルス状の点火電圧を印加してプラズマを点火する点火手段と、プラズマの発生を確認するプラズマ確認手段と、プラズマにて処理する被処理物を大気圧プラズマ発生部に対して相対的に移動させる移動手段と、被処理物に対するプラズマ処理開始のタイミングを認識する処理開始認識手段と、被処理物に対するプラズマ処理終了のタイミングを認識する処理終了認識手段と、処理開始認識手段と処理終了認識手段からの信号を入力としてガス流量を制御し、かつ処理開始認識手段からの信号に基づいて点火手段を作動してプラズマ点火を行うとともにプラズマ発生の確認により点火電圧の印加を停止して被処理物のプラズマ処理を開始する制御部とを備えたことを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。
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