JP2012124170A - 大気圧プラズマ処理方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】大気圧近傍の所定の反応空間11に第1のガス15を供給するとともに反応空間11近傍のアンテナ13又は電極に高周波電圧を印加して一次プラズマ16を発生させ、発生した一次プラズマ16又は前記一次プラズマ16を第2のガス18に衝突させて発生させた二次プラズマ21を被処理表面6に向けて照射し、被処理表面6をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理方法において、一次プラズマ16の点灯後の反射波の大きさを検出し、反射波の大きさを第1の所定値と比較して一次プラズマ16が点灯しているか否かを確認するようにした。
【選択図】図3
Description
まず、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第1の実施形態について、図1〜図8を参照して説明する。
次に、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第2の実施形態について、図9を参照して説明する。
2 ロボット装置(移動手段)
5 被処理物
6 被処理表面
10 プラズマヘッド
11 反応空間
13 アンテナ
14 高周波電源
15 第1の不活性ガス(第1のガス)
16 一次プラズマ
18 混合ガス(第2のガス)
21 二次プラズマ
22 整合回路
28 反射電力検出手段
29 ガス濃度検出手段
31 制御部
34 点灯手段
Claims (7)
- 大気圧近傍の所定の空間に不活性ガスを供給するとともに高周波電圧を印加して一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマに反応性ガスを混合してプラズマ化し、若しくは、大気圧近傍の所定の空間に不活性ガスと反応性ガスの混合ガスを供給するとともに高周波電圧を印加してプラズマを発生させて反応性ガスをプラズマ化し、プラズマ化した反応性ガスを被処理表面に向けて照射し、被処理表面をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理方法において、事前に固定の調整回路にてプラズマ点灯時の反射電力をゼロ近傍に調整しておき、プラズマ化した反応性ガスを被処理表面に照射してプラズマ処理を行うプラズマ照射動作中に、プラズマ点灯後の反射電力の大きさを検出し、反射電力の大きさを第1の所定値と比較して一次プラズマが点灯しているか否かを確認することを特徴とする大気圧プラズマ処理方法。
- 大気圧近傍の所定の空間に第1のガスを供給するとともに前記所定の空間の近傍に配置したアンテナ又は電極に高周波電圧を印加して点灯手段にて一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマ又は前記一次プラズマを第2のガスに衝突させて発生させた二次プラズマを被処理物の表面に照射するプラズマヘッドと、高周波電圧を発生する高周波電源と、ガスを供給するガス供給部と、高周波電源とアンテナ又は電極の間に配置されアンテナ又は電極からの反射電力を調整する整合回路と、反射電力の大きさを検出する反射電力検出手段と、一次プラズマ点灯後における二次プラズマを被処理表面に照射してプラズマ処理を行うプラズマ照射動作中に、反射電力検出手段にて検出した反射出力の大きさに基づいて高周波電源とガス供給部を制御する制御部とを備えたことを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。
- 整合回路は、一次プラズマ点灯状態又はプラズマ処理状態での反射電力がゼロ近傍となるように調整設定されており、制御部は、反射波の大きさを第1の所定値と比較して一次プラズマが点灯しているか否かを確認することを特徴とする請求項2記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 整合回路は、一次プラズマ点灯状態又はプラズマ処理状態での反射電力がゼロ近傍となるように調整設定されており、制御部は、反射電力の大きさを第2の所定値と比較して被処理表面にプラズマが照射されているか否かを確認することを特徴とする請求項2記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 前記所定の空間に供給される第1のガスのガス濃度を検出するガス濃度検出手段を備え、制御部は前記ガス濃度が所定の値以上になった後一次プラズマの点灯手段を動作させることを特徴とする請求項2〜4の何れか1つに記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 大気圧近傍の所定の空間に不活性ガスを供給するとともに前記所定の空間の近傍に配置したアンテナ又は電極に高周波電圧を印加して点灯手段にてプラズマを発生させ、発生したプラズマに反応性ガスを混合してプラズマ化し、若しくは、大気圧近傍の所定の空間に不活性ガスと反応性ガスの混合ガスを供給するとともに前記所定の空間の近傍に配置したアンテナ又は電極に高周波電圧を印加して点灯手段にてプラズマを発生させて反応性ガスをプラズマ化し、プラズマ化した反応性ガスを被処理物の表面に照射するプラズマヘッドと、高周波電圧を発生する高周波電源と、ガスを供給するガス供給部と、事前に高周波電源とアンテナ又は電極の間に配置されアンテナ又は電極からの反射電力をゼロ近傍に調整した固定の整合回路と、反射電力の大きさを検出する反射電力検出手段と、プラズマ点灯後における二次プラズマを被処理表面に照射してプラズマ処理を行うプラズマ照射動作中に、反射電力検出手段にて検出した反射出力の大きさに基づいて高周波電源とガス供給部を制御する制御部とを備えたことを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。
- 大気圧プラズマを照射するプラズマヘッドと、プラズマヘッドから照射されたプラズマが被処理表面に対向しつつ被処理表面に沿って相対移動するようにプラズマヘッドと被処理物を相対移動させる移動手段とを備えていることを特徴とする請求項2〜6の何れかに記載の大気圧プラズマ処理装置。
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