JP5211759B2 - 大気圧プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
を確認していないと、不良品が大量に発生してしまうためである。
整合回路を調整・設定しても良く、そうすることでプラズマ処理状態での反射電力がゼロ近傍となることで、電力の投入効率を一層向上することができる。
まず、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第1の実施形態について、図1〜図8を参照して説明する。
や、図2(b)に示すように異方導電性膜の貼付領域が被処理表面6である液晶パネルやプラズマディスプレイパネルなどのフラットパネルディスプレイ9の例があり、それぞれプラズマ処理にてランド表面の表面改質や貼付面のクリーニングを行うものである。
けられている。流量制御部32は、第1の不活性ガス15の流量を制御するマスフローコントローラなどから成る第1の流量制御装置(図示せず)と、混合ガス18の流量を制御するマスフローコントローラなどから成る第2の流量制御装置とを備えている。
ができる。なお、このプラズマ照射動作の詳細は後に図7を参照して説明する。
なお、一次プラズマ16が点灯している状態で、二次プラズマ21を発生させても、二次プラズマ21を被処理物5に照射されていない状態では、反射電力はほぼゼロの状態が維持される。
次に、本発明の大気圧プラズマ処理装置の第2の実施形態について、図9を参照して説明する。
2 ロボット装置(移動手段)
5 被処理物
6 被処理表面
10 プラズマヘッド
11 反応空間
13 アンテナ
14 高周波電源
15 第1の不活性ガス(第1のガス)
16 一次プラズマ
18 混合ガス(第2のガス)
21 二次プラズマ
22 整合回路
28 反射電力検出手段
29 ガス濃度検出手段
31 制御部
34 点灯手段
Claims (7)
- 大気圧近傍の所定の空間に第1のガスを供給するとともに高周波電圧を印加して一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマ又は前記一次プラズマを第2のガスに衝突させて発生させた二次プラズマを被処理表面に向けて照射し、被処理表面をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理方法において、二次プラズマを被処理表面に照射してプラズマ処理を行うプラズマ照射動作中に一次プラズマ点灯後の反射電力の大きさを検出し、反射電力の大きさを第1の所定値と比較して一次プラズマが点灯状態を維持しているか否かを確認し、且つ、前記反射電力の大きさを前記第1の所定値より低く設定した第2の所定値と比較することにより、被処理表面にプラズマが照射されているか否かを確認することを特徴とする大気圧プラズマ処理方法。
- 前記高周波電圧は、RF周波数帯、VHF周波数帯又はマイクロ波周波数帯であり、所定の空間の近傍に配置したアンテナ又は電極と高周波電源との間に配置した整合回路を一次プラズマ点灯前に調整・設定して反射電力の大きさを調整することを特徴とする請求項1記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 点灯状態でのアンテナ又は電極からの反射電力がゼロ近傍となるように整合回路を調整・設定することを特徴とする請求項2に記載の大気圧プラズマ処理方法。
- プラズマ処理状態でのアンテナ又は電極からの反射電力がゼロ近傍となるように整合回路を調整・設定することを特徴とする請求項2に記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 前記反射電力の大きさを第2の所定値と比較することにより、被処理表面にプラズマが照射されているか否かを確認することを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 前記所定の空間に供給される第1のガスのガス濃度を検出し、前記ガス濃度が所定の値以上になった後、点灯手段にて一次プラズマを点灯することを特徴とする請求項1〜5の何れか1つに記載の大気圧プラズマ処理方法。
- 第1のガスは不活性ガスから成り、第2のガスは不活性ガスと反応性ガスの混合ガスから成ることを特徴とする請求項1〜6の何れか1つに記載の大気圧プラズマ処理方法。
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