JP2009206346A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板電極用高周波バイアス電源110と前記基板電極間の伝送路に挿入されたインピーダンス自動整合器116を備え、該インピーダンス自動整合器は、前記高周波バイアス電源からみた前記伝送路のインピーダンスあるいは位相を測定するRFセンサ201の出力をもとに前記整合器を構成するインピーダンス素子207,208を調整する制御装置203と、制御に際して前記RFセンサ出力のオフセットを補正するオフセット補正部を備え、該オフセット補正部は、前記整合器に入力される入力電力の大きさを多段階に分け、多段階に分けられた入力電力毎に予め前記オフセットの補正値を設定した記憶装置を備え、該記憶装置に設定された補正値にしたがって前記RFセンサの出力のオフセットを補正する。
【選択図】図2
Description
また、前記バイアス電力源として、間欠的にON/OFFする時間変調(Time Modulation=以下、TM変調とする)、AM変調(Amplitude Modulation)、あるいはFM変調(frequency Modulation)などの変調機能を有した高周波電力源を用いる場合には、図2に示すように、処理内容に応じて、変調の有無、変調モード、RFパワーなどを変更しながら処理を行う。しかし、このような装置では、バイアス電力の連続波と変調波の切替動作、RFパワーの大きさの変動等によって、伝送効率が変動する。
102 被処理材
103 試料台
104 プラズマ
105 アンテナ電極
106 空芯コイル
107 マグネトロン
108 同軸導波管
109 基板電極
110 高周波電力源
111 ガス供給装置
112 ガス導入板
113 真空排気装置
114 アンテナ電極インピーダンス自動整合装置
115 アイソレータ
116 基板電極インピーダンス自動整合装置
117 直流電圧源
118 フィルタ回路
119 主幹制御器
201 RFセンサ
202 A/Dコンバータ
203 制御装置
204 CPU
205 記憶装置
206 I/O装置
207,208 可変素子
209,210 パルスモータ
211 モータコントローラ
212 高周波電力源との通信路
Claims (5)
- プラズマ生成用の高周波電力が供給されるアンテナ電極と高周波バイアス電力が供給される基板電極とを収容する真空容器を備え、生成されたプラズマにより、前記基板電極上に載置された被処理材にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記基板電極に高周波バイアス電力を供給する高周波バイアス電源と前記基板電極を接続する伝送路に挿入され、前記高周波バイアス電源側からみた伝送路のインピーダンスを一定に保つインピーダンス自動整合器を備え、
該インピーダンス自動整合器は、前記高周波バイアス電源からみた前記伝送路のインピーダンスあるいは位相を測定するRFセンサの出力をもとに前記整合器を構成するインピーダンス素子を調整する制御装置と、制御に際して前記RFセンサ出力のオフセットを補正するオフセット補正部を備え、
該オフセット補正部は、前記整合器に入力される入力電力の大きさを多段階に分け、多段階に分けられた入力電力毎に予め前記オフセットの補正値を設定した記憶装置を備え、該記憶装置に設定された補正値にしたがって前記RFセンサの出力のオフセットを補正することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記オフセット補正部は、補正値を前記記憶装置から入力される高周波バイアス電力の値に応じて連続して読み出して、前記RFセンサの出力に対するオフセット補正を高周波バイアス電源の供給を中断することなく連続して行うことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記高周波バイアス電源は、基本波を振幅変調した波形、基本波を周波数変調した波形、あるいは基本波をTM変調した波形の電力を供給する給電モードのいずれか間を、給電を継続したまま連続して切り換えながら前記基板電極に供給することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記オフセットの補正値を調整することにより、前記基板電極に印加されるピークツーピーク電圧の大きさを任意に制御可能としたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記オフセットの補正値を調整することにより、マッチング完了時の残留反射波の大きさを任意に制御可能としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
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