JP4982055B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
そして、この結果、プラズマ処理の安定性と再現性の向上に、より一層寄与することができる。
2:ソレノイドコイル
3:発振器
4:管路(プロセスガス供給用)
5:試料台
6:試料
7:整合器
8:高周波バイアス電源
9:電力モニタ部
10:電力増幅部
11:制御部
12:制御マイコン
13:出力電力制御手段
14:演算部
Claims (1)
- 高周波電源からインピーダンス整合手段を介して反応容器内の試料台に高周波バイアスを印加し、前記試料台に戴置した試料にプラズマ処理を施す方式のプラズマ処理装置において、
前記高周波電源と前記インピーダンス整合手段の間に設置した反射波検出手段と、
前記高周波電源から前記試料台に供給される高周波電力を、
プラズマ処理に必要な強度の高周波バイアス電力である処理電力2の値よりも小さな電力値の整合用高周波電力1に切換える制御手段と、
前記反射波検出手段の検出結果に応じて前記制御手段を制御する制御マイコンとを設け、
前記制御マイコンは、前記制御手段を制御し、プラズマ処理を行う際、まず、処理1として、前記電力1の高周波電力を前記試料台に供給して前記反射波検出手段による検出値が判定値以下となるように前記インピーダンス整合手段を調整する処理を実行し、
次いで、処理2として、前記プラズマ処理に必要な強度の高周波バイアス電力である処理電力2を前記試料台に供給して前記反射波検出手段による検出値が判定値以下となるように前記インピーダンス整合手段を調節しながら前記試料台に載置した試料にプラズマ処理を施す処理を実行した後、次の処理ステップが有るか否かを判定し、
次の処理ステップ無しの場合は、ここでプラズマ処理を終了し、
次の処理ステップ有りの場合は、続いてプラズマ処理継続か一旦中断かを判定し、
プラズマ処理継続の場合、前記処理1をスキップし前記処理2に移行して直ちにプラズマ処理を行い、
プラズマ処理一旦中断の場合、次にプラズマ処理を開始する際、前記処理1からプラズマ処理を開始して前記処理2に移行するように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
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