JP6267534B2 - 大気圧プラズマ発生装置 - Google Patents

大気圧プラズマ発生装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6267534B2
JP6267534B2 JP2014027499A JP2014027499A JP6267534B2 JP 6267534 B2 JP6267534 B2 JP 6267534B2 JP 2014027499 A JP2014027499 A JP 2014027499A JP 2014027499 A JP2014027499 A JP 2014027499A JP 6267534 B2 JP6267534 B2 JP 6267534B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
atmospheric pressure
inert gas
plasma generator
flow path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014027499A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015153652A (ja
Inventor
陽大 丹羽
陽大 丹羽
神藤 高広
高広 神藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Corp
Original Assignee
Fuji Machine Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Machine Manufacturing Co Ltd filed Critical Fuji Machine Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2014027499A priority Critical patent/JP6267534B2/ja
Publication of JP2015153652A publication Critical patent/JP2015153652A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6267534B2 publication Critical patent/JP6267534B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Description

本発明は、大気圧下でプラズマを発生させる大気圧プラズマ発生装置に関するものである。
大気圧プラズマ発生装置では、一般的に、処理ガスがプラズマ化され、プラズマ流路にプラズマが流される。プラズマ流路は、ハウジングの外壁に開口しており、その開口から吹き出されたプラズマにより、プラズマ処理が行われる。しかしながら、処理ガスがプラズマ化される際に、紫外線が生じ、その紫外線も、プラズマとともに、開口から放出される。プラズマ処理の対象となる被処理体には、紫外線の影響を受けやすい素材、例えば、紫外線硬化樹脂等により成形された被処理体もあり、そのような被処理体に紫外線が照射されると、被処理体に変質,劣化等が生じる虞がある。このようなことに鑑みて、下記特許文献に記載の大気圧プラズマ発生装置は、開口から吹き出されたプラズマに、ガスを噴出することで、プラズマを、紫外線の照射方向と異なる方向に流している。このため、下記特許文献に記載の大気圧プラズマ発生装置によれば、開口から放出された紫外線の照射されない位置において、被処理体に対するプラズマ処理を行うことが可能となる。
特開2005−144318号公報
上記特許文献に記載の大気圧プラズマ発生装置によれば、被処理体に紫外線を照射することなく、プラズマ処理を行うことが可能となる。しかしながら、上記特許文献に記載の大気圧プラズマ発生装置では、開口から吹き出されたプラズマに、ガスが噴出されており、プラズマを被処理体に向けて適切に流すことができない虞がある。つまり、プラズマが噴出されたガスにより拡散し、適切なプラズマ処理を行うことができない虞がある。本発明は、そのような実情に鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、被処理体に紫外線を照射することなく、適切にプラズマ処理を行うことが可能な大気圧プラズマ発生装置を提供することである。
上記課題を解決するために、本願に記載の大気圧プラズマ発生装置は、処理ガスをプラズマ化するプラズマ発生器と、前記プラズマ発生器によって発生されたプラズマが流れるとともに、ハウジングの外壁に開口するプラズマ流路とを備え、前記プラズマ流路の前記ハウジングの外壁への開口からプラズマを吹き出す大気圧プラズマ発生装置であって、前記プラズマ流路に配設され、前記開口から吹き出されるプラズマを前記ハウジングの外壁に沿って流すためのガスを噴出するガス噴出器を備えることを特徴とする。
本願に記載の大気圧プラズマ発生装置では、プラズマ流路を流れるプラズマにガスが噴出されており、プラズマ流路の開口から吹き出されたプラズマが、ハウジングの外壁に沿って流れる。このため、ハウジングの外壁の延長線上に、被処理体を配設することで、プラズマを拡散させることなく、被処理体にプラズマを照射することが可能となる。さらに、紫外線は、開口から直線的に放出されるため、紫外線の照射されない位置において、被処理体に対するプラズマ処理を行うことが可能となる。このように、本願に記載の大気圧プラズマ発生装置によれば、被処理体に紫外線を照射することなく、適切にプラズマ処理を行うことが可能となる。
本発明の第1実施例の大気圧プラズマ発生装置を示す断面図である。 図1の大気圧プラズマ発生装置が備える制御装置を示すブロック図である。 本発明の第2実施例の大気圧プラズマ発生装置を示す断面図である。 本発明の変形例の大気圧プラズマ発生装置を示す断面図である。
以下、本発明を実施するための形態として、本発明の実施例を、図を参照しつつ詳しく説明する。
[第1実施例]
<大気圧プラズマ発生装置の構成>
図1は、本発明の第1実施例の大気圧プラズマ発生装置10である。大気圧プラズマ発生装置10は、大気圧下で発生させたプラズマにより、被処理体に対するプラズマ処理を行うための装置である。大気圧プラズマ発生装置10は、プラズマ発生器20と流量増幅器22とによって構成されている。プラズマ発生器20は、プラズマを発生させるための装置であり、流量増幅器22は、被処理体に向かって吹出されるプラズマの流量を増幅させるための装置である。
プラズマ発生器20は、概して直方体形状の躯体30を有しており、躯体30の内部には、反応室32と流入路34と流出路36とが形成されている。流入路34は、上下方向に延びるように形成されており、上端部において、躯体30の上面に開口し、下端部において、反応室32に開口している。その流入路34には、1対の電極38が向かい合うように配設されている。また、流出路36は、左右方向に延びるように形成されており、一端部において、躯体30の側面に開口し、他端部において、反応室32に開口している。
また、プラズマ発生器20は、処理ガス供給装置(図2参照)40を有しており、流入路34の上端部に接続されている。処理ガス供給装置40は、希ガス,窒素ガス等の不活性ガスと、酸素等の活性ガスとを所定の割合で混合した処理ガスを供給する装置である。これにより、処理ガスが、流入路34を介して反応室32に供給される。
また、流量増幅器22は、躯体50と不活性ガス供給装置(図2参照)52とによって構成されている。躯体50は、傾斜面54を除いて概して直方体形状をしており、その傾斜面54は、垂直部56,58と傾斜部60とに区分けされる。詳しくは、傾斜面54は、躯体50の側面に位置している。そして、垂直部56は、傾斜面54の上端部に位置し、垂直部58は、傾斜面54の下端部に位置している。さらに、傾斜部60は、斜め上方を向いた状態で、垂直部56と垂直部58とに連続している。
その躯体50には、左右方向に延びるように、プラズマ流路62が形成されており、そのプラズマ流路62は、傾斜面54と、その傾斜面54の反対側の側面に開口している。なお、プラズマ流路62の傾斜面54への開口は、垂直部56と傾斜部60との間に位置している。プラズマ流路62は、第1流路64と第2流路66とに区分けされ、第1流路64は、傾斜面54の反対側の側面に開口し、第2流路66は、傾斜面54に開口する。また、第1流路64の内寸は、傾斜面54の反対側の側面から離れるほど、小さくなる。一方、第2流路66の内寸は、ほぼ一定である。
躯体50には、さらに、上下方向に延びるように、不活性ガス流入路68が形成されている。不活性ガス流入路68の上端部は、躯体50の上面に開口し、不活性ガス供給装置52に接続されている。不活性ガス供給装置52は、圧縮された不活性ガスを供給する装置である。一方、不活性ガス流入路68の下端部は、プラズマ流路62の第1流路64と第2流路66との間に開口している。なお、不活性ガス流入路68のプラズマ流路62への開口には、第2流路66側に切欠部70が形成されている。
このような構造により、不活性ガス供給装置52から不活性ガス流入路68に圧縮された不活性ガスが供給されると、不活性ガスは、プラズマ流路62内に噴出する。この際、プラズマ流路62内に噴出した不活性ガスは、切欠部70により、第2流路66に向かって流れる。つまり、不活性ガスは、プラズマ流路62の傾斜面54への開口に向かって流れる。なお、不活性ガスは、不活性ガス流入路68からプラズマ流路62に勢いよく流れ込むため、プラズマ流路62の上面から下面に向かって流れる。このため、プラズマ流路62内を流れる不活性ガスは、プラズマ流路62の下面に沿って流れる。
また、躯体50の傾斜面54の上端部、つまり、傾斜面54の垂直部56には、不活性ガス噴出管72が固定されている。不活性ガス噴出管72は、上下方向に延びるように、配設されており、不活性ガス噴出管72の下端部は、下方に向かって開口している。一方、不活性ガス噴出管72の上端部は、不活性ガス供給装置52に接続されている。このため、不活性ガス供給装置52から不活性ガス噴出管72に圧縮された不活性ガスが供給されると、不活性ガス噴出管72の下端部から不活性ガスが噴出し、プラズマ流路62の傾斜面54への開口付近に、不活性ガスが充満する。
また、躯体50は、傾斜面54と反対側の側面において、プラズマ発生器20の躯体30の側面に固定されており、その躯体30に形成された流出路36と、躯体50に形成されたプラズマ流路62とが接続されている。これにより、プラズマ発生器20と流量増幅器22とが、一体化されている。
大気圧プラズマ発生装置10は、さらに、図2に示すように、制御装置80を備えている。制御装置80は、コントローラ82と複数の駆動回路86と制御回路88とを備えている。複数の駆動回路86は、上記処理ガス供給装置40、不活性ガス供給装置52に接続されている。また、制御回路88は、電極38に接続されている。コントローラ82は、CPU,ROM,RAM等を備え、コンピュータを主体とするものであり、駆動回路86および制御回路88に接続されている。これにより、プラズマ発生器20および流量増幅器22、つまり、大気圧プラズマ発生装置10の作動が、コントローラ82によって制御される。
<大気圧プラズマ発生装置によるプラズマ処理>
大気圧プラズマ発生装置10では、上述した構成により、プラズマ発生器20において、処理ガスがプラズマ化され、そのプラズマの流量が、流量増幅器22によって増幅される。そして、流量の増幅されたプラズマによって、被処理体に対するプラズマ処理が行われる。
具体的には、コントローラ82の指令により、プラズマ発生器20において、処理ガス供給装置40が、処理ガスを流入路34に供給する。この際、流入路34では、コントローラ82の指令により、所定のタイミングで1対の電極38に電圧が印加され、1対の電極38間に電流が流れる。これにより、1対の電極38間に放電が生じ、その放電により、処理ガスがプラズマ化される。そして、プラズマが、反応室32を介して、流出路36に流れ込む。
なお、放電時に電極38が僅かに損壊する場合がある。このような場合には、損壊した電極38の欠片が、反応室32に落下するが、流出路36は、反応室32の側面に開口しているため、損壊した電極38の欠片は、反応室32内に留められる。これにより、損壊した電極38の欠片が、被処理体等へ落下することを防止できる。
また、流量増幅器22では、コントローラ82の指令により、不活性ガス供給装置52が、圧縮された不活性ガスを不活性ガス流入路68および不活性ガス噴出管72に供給する。これにより、不活性ガスが、上述したように、プラズマ流路62内を傾斜面54の開口に向かうとともに、プラズマ流路62の下面に沿って流れる。この際、プラズマ発生器20の流出路36から、プラズマがプラズマ流路62に流れ込み、不活性ガスとともに、プラズマ流路62の傾斜面54の開口に向かって流れる。つまり、プラズマ発生器20において発生したプラズマが、不活性ガスによって増幅され、プラズマ流路62の傾斜面54の開口に向かって流れる。そして、増幅されたプラズマが、プラズマ流路62の傾斜面54の開口から吹き出される。
なお、増幅されたプラズマは、不活性ガスの流れによって、プラズマ流路62の下面に沿って流れるため、プラズマ流路62の傾斜面54の開口から吹き出されたプラズマは、傾斜面54の傾斜部60および、垂直部58に沿って流れる。つまり、増幅されたプラズマは、図1に示すように、矢印76に沿って流れる。そして、傾斜面54の垂直部58の下方に、被処理体78が配設されており、傾斜面54に沿って流れるプラズマによって、被処理体78に対してプラズマ処理が行われる。
大気圧プラズマ発生装置10では、上述したように、傾斜面54に沿って流れるプラズマによって、被処理体78に対してプラズマ処理が行われる。このため、電極38への電圧印加により、プラズマとともに生じる紫外線の被処理体78への照射を防止することが可能となる。詳しくは、大気圧プラズマ発生装置10では、流入路34において、電極38に電圧が印加され、紫外線が、プラズマとともに発生する。この紫外線は、プラズマとともに、反応室32および、流出路36を介して、プラズマ流路62に到達する。この際、紫外線は、ガスによって流されないため、プラズマ流路62の傾斜面54への開口から、概して直進する。つまり、紫外線は、矢印79の方向に照射される。一方、プラズマ流路62に流れ込んだプラズマは、不活性ガスにより、傾斜面54に沿って流され、そのプラズマによって、傾斜面54の下方に配設された被処理体78がプラズマ処理される。このように、大気圧プラズマ発生装置10では、紫外線が放出される開口から離れた位置において、被処理体78に対するプラズマ処理が行われるため、紫外線の被処理体78への照射を防止することが可能となる。
一方で、従来の大気圧プラズマ発生装置では、プラズマ流路の開口付近に、被処理体が配設され、その開口から吹き出されたプラズマによりプラズマ処理が行われる。このため、開口から放出された紫外線は、被処理体に照射される。つまり、従来の大気圧プラズマ発生装置では、紫外線の影響を受けやすい素材、例えば、紫外線硬化樹脂等により成形された被処理体に対してプラズマ処理を行った場合に、被処理体に変質,劣化等が生じる虞があった。一方、大気圧プラズマ発生装置10によれば、紫外線の被処理体78への照射を防止することが可能であるため、紫外線の影響を受けやすい素材により成形された被処理体であっても、適切にプラズマ処理を行うことが可能となる。
また、大気圧プラズマ発生装置10では、プラズマ流路62の傾斜面54の開口の周囲に、不活性ガス噴出管72から不活性ガスが噴出され、開口の周囲は、不活性ガスが充満している。このため、プラズマ流路62の開口から吹き出されたプラズマは、開口付近に充満する不活性ガスにより、空気から遮断される。これにより、空気中でのプラズマの失活を防止することが可能となり、適切なプラズマ処理を担保することが可能となる。
さらに言えば、不活性ガス噴出管72からの不活性ガスの噴出方向は、傾斜面54に沿って流れるプラズマの流れる方向と同じである。このため、開口から吹き出されたプラズマは、不活性ガス噴出管72から噴出された不活性ガスとともに、被処理体78に向かって流れる。これにより、プラズマが被処理体78に到達するまで、プラズマの失活を防止することが可能となる。
[第2実施例]
図3に、本発明の第2実施例の大気圧プラズマ発生装置100を示す。大気圧プラズマ発生装置100は、上記大気圧プラズマ発生装置10の構成要素と同じ構成要素を備えているため、大気圧プラズマ発生装置10の構成要素と同じ構成要素については、大気圧プラズマ発生装置10の構成要素と同じ符号を用い、それらの説明は省略あるいは簡略に行う。
大気圧プラズマ発生装置100は、上記大気圧プラズマ発生装置10の躯体50と略同じ形状の躯体102を備えている。つまり、躯体102の側面は、傾斜面104とされており、傾斜面104は、垂直部106,108と傾斜部110とに区分けされる。そして、垂直部106は、傾斜面104の上端部に位置し、垂直部108は、傾斜面104の下端部に位置している。さらに、傾斜部110は、斜め上方を向いた状態で、垂直部106と垂直部108とに連続している。
躯体102には、左右方向に延びるように、プラズマ流路112が形成されており、そのプラズマ流路112は、傾斜面104と、その傾斜面104の反対側の側面に開口している。なお、プラズマ流路112の傾斜面104への開口は、垂直部106と傾斜部110との間に位置している。また、プラズマ流路112の傾斜面104と反対側の側面への開口には、処理ガス供給装置40が接続されている。
プラズマ流路112には、1対の誘電体116が向かい合うように配設されており、1対の誘電体116の各々の内部には、電極118が内包されている。つまり、プラズマ流路112には、電極118を内包する誘電体116が、1対配設されており、1対の誘電体116が、プラズマ流路112を挟んで向かい合っている。
また、躯体102には、上記不活性ガス流入路68と同形状の不活性ガス流入路120が形成されている。その不活性ガス流入路120の下端部は、プラズマ流路112の誘電体116と傾斜面104の開口との間に開口し、不活性ガス流入路120の上端部は、不活性ガス供給装置52に接続されている。これにより、不活性ガス供給装置52から不活性ガス流入路120に圧縮された不活性ガスが供給されると、不活性ガスは、プラズマ流路112内に噴出し、プラズマ流路112の傾斜面104への開口に向かって流れる。この際、プラズマ流路112内を流れる不活性ガスは、プラズマ流路112の下面に沿って流れる。
また、躯体102の傾斜面104の上端部、つまり、傾斜面104の垂直部106には、不活性ガス噴出管72が固定されている。これにより、不活性ガス供給装置52から不活性ガス噴出管72に圧縮された不活性ガスが供給されると、不活性ガス噴出管72の下端部から不活性ガスが噴出し、プラズマ流路112の傾斜面104への開口付近に、不活性ガスが充満する。
大気圧プラズマ発生装置100では、上述した構成において、コントローラ82の指令により、処理ガス供給装置40が、処理ガスをプラズマ流路112に供給する。この際、プラズマ流路112では、コントローラ82の指令により、所定のタイミングで1対の電極118に電圧が印加され、1対の電極118間に電流が流れる。これにより、1対の電極118間に放電が生じ、その放電により、処理ガスがプラズマ化される。
また、コントローラ82の指令により、不活性ガス供給装置52が、圧縮された不活性ガスを不活性ガス流入路120および不活性ガス噴出管72に供給する。これにより、不活性ガスが、上述したように、プラズマ流路112内を傾斜面104の開口に向かうとともに、プラズマ流路112の下面に沿って流れる。この際、1対の電極118によって発生したプラズマが、不活性ガスとともに、プラズマ流路112の傾斜面104の開口に向かって流れる。つまり、1対の電極118によって発生したプラズマが、不活性ガスによって増幅され、プラズマ流路112の傾斜面104の開口に向かって流れる。そして、増幅されたプラズマが、プラズマ流路112の傾斜面104の開口から吹き出され、不活性ガスの流れによって、傾斜面104の傾斜部110および、垂直部108に沿って流れる。なお、大気圧プラズマ発生装置100においても、大気圧プラズマ発生装置10と同様に、傾斜面104の垂直部108の下方に、被処理体78が配設されており、傾斜面104に沿って流れるプラズマによって、被処理体78に対してプラズマ処理が行われる。
このように、大気圧プラズマ発生装置100においても、プラズマ流路112の傾斜面104の開口から吹き出されたプラズマは、矢印126に示すように、傾斜面104に沿って流れ、プラズマ流路112の傾斜面104の開口から放出された紫外線は、矢印128に示す方向に照射される。これにより、紫外線が放出される開口から離れた位置において、被処理体78に対するプラズマ処理を行うことが可能となり、紫外線の被処理体78への照射を防止することが可能となる。
また、大気圧プラズマ発生装置100においても、不活性ガス噴出管72が配設されているため、大気圧プラズマ発生装置10での不活性ガス噴出管72の効果と同じ効果が生じる。
さらに、大気圧プラズマ発生装置100の躯体102は、大気圧プラズマ発生装置10の躯体50と略同じサイズとされている。このため、非常にコンパクトな大気圧プラズマ発生装置が実現する。なお、大気圧プラズマ発生装置100はコンパクトであり、電極118とプラズマ流路112の開口との距離が短い。このため、放電時に電極118が損壊すると、損壊による電極118の欠片が、開口から落下し、被処理体78の上に落下する恐れがある。このため、大気圧プラズマ発生装置100では、電極118が誘電体116によって覆われている。これにより、放電時の電極118の損壊を防止することが可能となり、電極118の欠片の開口からの落下を防止できる。
なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することが可能である。具体的には、例えば、上記実施例では、プラズマに向かって不活性ガスを噴出することで、プラズマを傾斜面に沿って流しているが、処理ガスに向かって不活性ガスを噴出し、その後に、処理ガスと不活性ガスとの混合ガスをプラズマ化し、そのプラズマを、傾斜面に沿って流してもよい。具体的には、図4に示す大気圧プラズマ発生装置150では、不活性ガス流入路152の下端部が、プラズマ流路112の傾斜面104と反対側の側面への開口と、誘電体116との間に開口している。なお、大気圧プラズマ発生装置150は、大気圧プラズマ発生装置100と不活性ガス流入路120を除いて、同じ構成である。
これにより、処理ガス供給装置40から供給された処理ガスと、不活性ガス流入路152に供給された不活性ガスとが、プラズマ流路112の電極118の上流側で混合される。この際、混合されたガスは、不活性ガスの流れにより、プラズマ流路112に下面に沿って流れる。そして、プラズマ流路112の下面に沿って流れる混合ガスが、電極118への電圧の印加によりプラズマ化する。このプラズマは、プラズマ化前の混合ガスの流れと同様に、プラズマ流路112に下面に沿って流れる。このため、大気圧プラズマ発生装置150においても、プラズマ流路112の傾斜面104の開口から吹き出されたプラズマは、矢印156に示すように、傾斜面104に沿って流れ、プラズマ流路112の傾斜面104の開口から放出された紫外線は、矢印158に示す方向に照射される。これにより、大気圧プラズマ発生装置150においても、上記大気圧プラズマ発生装置100と同様に、紫外線の被処理体78への照射を防止することが可能となる。
10:大気圧プラズマ発生装置 30:躯体(プラズマ発生ハウジング) 34:流入路(反応室) 38:電極(プラズマ発生器) 50:躯体(ハウジング) 62:プラズマ流路 68:不活性ガス流入路(ガス噴出器) 72:不活性ガス噴出管(不活性ガス噴出器) 100:大気圧プラズマ発生装置 102:躯体(ハウジング) 112:プラズマ流路 116:誘電体 118:電極(プラズマ発生器) 120:不活性ガス流入路(ガス噴出器) 150:大気圧プラズマ発生装置 152:不活性ガス流入路(ガス噴出器)

Claims (8)

  1. 処理ガスをプラズマ化するプラズマ発生器と、
    前記プラズマ発生器によって発生されたプラズマが流れるとともに、ハウジングの外壁に開口するプラズマ流路と
    を備え、前記プラズマ流路の前記ハウジングの外壁への開口からプラズマを吹き出す大気圧プラズマ発生装置であって、
    当該大気圧プラズマ発生装置が、
    前記プラズマ流路に配設され、前記開口から吹き出されるプラズマを前記ハウジングの外壁に沿って流すためのガスを噴出するガス噴出器を備えることを特徴とする大気圧プラズマ発生装置。
  2. 前記ガス噴出器が、
    不活性ガスを噴出することを特徴とする請求項1に記載の大気圧プラズマ発生装置。
  3. 当該大気圧プラズマ発生装置が、
    前記プラズマ流路の外部に配設され、前記開口に向かって不活性ガスを噴出する不活性ガス噴出器を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の大気圧プラズマ発生装置。
  4. 前記不活性ガス噴出器が、
    前記開口から吹き出されるプラズマが前記ハウジングの外壁に沿って流れる方向と同じ方向に、不活性ガスを噴出することを特徴とする請求項3に記載の大気圧プラズマ発生装置。
  5. 前記プラズマ発生器が、
    プラズマ発生器ハウジング内に形成された反応室で、処理ガスをプラズマ化し、
    前記ハウジングが、
    前記反応室でプラズマ化されたプラズマが前記プラズマ流路に流れるように、前記プラズマ発生器ハウジングに連結されたことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載の大気圧プラズマ発生装置。
  6. 前記プラズマ発生器が、
    前記プラズマ流路に配設され、前記プラズマ流路で処理ガスをプラズマ化することを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載の大気圧プラズマ発生装置。
  7. 前記プラズマ発生器が、複数の電極によって構成されており、
    前記複数の電極の各々が、誘電体によって覆われていることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の大気圧プラズマ発生装置。
  8. 当該大気圧プラズマ発生装置が、
    前記開口から吹き出され、前記ハウジングの外壁に沿って流れるプラズマによって、被処理体に対するプラズマ処理を行うことを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1つに記載の大気圧プラズマ発生装置。
JP2014027499A 2014-02-17 2014-02-17 大気圧プラズマ発生装置 Active JP6267534B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014027499A JP6267534B2 (ja) 2014-02-17 2014-02-17 大気圧プラズマ発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014027499A JP6267534B2 (ja) 2014-02-17 2014-02-17 大気圧プラズマ発生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015153652A JP2015153652A (ja) 2015-08-24
JP6267534B2 true JP6267534B2 (ja) 2018-01-24

Family

ID=53895689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014027499A Active JP6267534B2 (ja) 2014-02-17 2014-02-17 大気圧プラズマ発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6267534B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7193966B2 (ja) * 2018-09-27 2022-12-21 サカタインクス株式会社 プラズマ電子線処理インクジェット印刷装置
JP7219584B2 (ja) 2018-10-19 2023-02-08 サカタインクス株式会社 プラズマ電子線処理インクジェット印刷装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005144318A (ja) * 2003-11-14 2005-06-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマ処理方法及び装置
JP4946339B2 (ja) * 2006-10-13 2012-06-06 パナソニック株式会社 大気圧プラズマ発生装置とプラズマ処理方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015153652A (ja) 2015-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6605598B2 (ja) プラズマ発生装置
WO2018029845A1 (ja) プラズマ発生装置、およびプラズマ照射方法
JP5725688B2 (ja) 大気圧プラズマジェット装置
JP6267534B2 (ja) 大気圧プラズマ発生装置
JP2017045713A (ja) アーク型大気圧プラズマ装置
KR20110063712A (ko) 자외선 조사 장치
TWI447258B (zh) 原料氣體產生裝置
WO2016208110A1 (ja) 光処理装置および光処理方法
JP3955592B2 (ja) 処理装置及び処理方法
JP6644911B2 (ja) プラズマ発生装置
WO2017037775A1 (ja) プラズマ照射装置
JP7092478B2 (ja) レジスト除去方法およびレジスト除去装置
JP6768133B2 (ja) プラズマ発生装置
JP6816260B2 (ja) プラズマ発生装置
JP2010147168A (ja) プラズマ処理装置
JPWO2015108184A1 (ja) デスミア処理装置
JP6004645B2 (ja) ノズル除電装置
WO2017056185A1 (ja) プラズマ発生装置
JP7158379B2 (ja) プラズマ処理装置
JP5067006B2 (ja) 大気圧プラズマ処理方法
JP2015195113A (ja) 表面処理装置および表面処理方法
JP6695192B2 (ja) プラズマ発生装置
TW201419399A (zh) 薄膜形成設備及使用其之薄膜形成方法
JP6630734B2 (ja) プラズマ照射方法、およびプラズマ照射システム
JP6994747B2 (ja) 表面処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170125

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6267534

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250