JP6768133B2 - プラズマ発生装置 - Google Patents
プラズマ発生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6768133B2 JP6768133B2 JP2019189268A JP2019189268A JP6768133B2 JP 6768133 B2 JP6768133 B2 JP 6768133B2 JP 2019189268 A JP2019189268 A JP 2019189268A JP 2019189268 A JP2019189268 A JP 2019189268A JP 6768133 B2 JP6768133 B2 JP 6768133B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- plasma
- cover
- flow path
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Description
図1乃至図4に、本発明の実施例の大気圧プラズマ発生装置10を示す。大気圧プラズマ発生装置10は、大気圧下でプラズマを発生させるための装置であり、プラズマガス噴出装置12と加熱ガス供給装置14とを備えている。なお、図1は、斜め上方からの視点における大気圧プラズマ発生装置10全体の斜視図であり、図2は、斜め下方からの視点における大気圧プラズマ発生装置10の下端部の斜視図であり、図3は、斜め上方からの視点における大気圧プラズマ発生装置10の下端部の斜視図であり、図4は、図3のAA線における断面図である。また、大気圧プラズマ発生装置10の幅方向をX方向と、大気圧プラズマ発生装置10の奥行方向をY方向と、X方向とY方向とに直行する方向、つまり、上下方向をZ方向と称する。
大気圧プラズマ発生装置10において、プラズマガス噴出装置12では、上述した構成により、反応室38の内部で処理ガスがプラズマ化され、ノズルブロック36の第4ガス流路66の下端からプラズマガスが噴出される。また、加熱ガス供給装置14により加熱されたガスがカバー22の内部に供給される。そして、カバー22の貫通穴70から、プラズマガスが、加熱されたガスとともに噴出され、被処理体がプラズマ処理される。以下に、大気圧プラズマ発生装置10によるプラズマ処理について、詳しく説明する。
Claims (4)
- 処理ガスをプラズマ化させる反応室が形成されたハウジングと、
前記ハウジングに形成され、前記反応室においてプラズマ化されたプラズマガスを前記ハウジングから噴出させるための噴出口と、
少なくとも前記噴出口を覆う状態で前記ハウジングに設けられたカバーと、
前記カバーの内部に窒素ガスを供給するガス供給装置と、
前記噴出口の先端が内側に位置するように、前記カバーに形成された貫通穴と
を備えるプラズマ発生装置であって、
前記ガス供給装置が、窒素ガスを供給するための供給筒を有し、
前記プラズマ発生装置が、
前記カバーの内部にガスを供給するための前記供給筒に繋がる供給穴に対向するように、前記カバーの内部に配設され、前記カバーの内部に供給された窒素ガスを拡散させる拡散壁を備え、
前記拡散壁の前記供給穴に対向する面の面積が、前記供給筒の径方向の断面積より大きいことを特徴とするプラズマ発生装置において、
前記供給筒はプラズマガスの噴出方向と直交する方向に開口しているプラズマ発生装置。 - 前記ハウジングに、前記反応室と前記噴出口とを繋ぐガス流路が形成されており、
前記ガス流路が、クランク状に屈曲していることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。 - 前記噴出口が、
前記供給穴と前記拡散壁との間以外の箇所に配設されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマ発生装置。 - 前記噴出口の先端と、前記貫通穴の前記カバーの外壁面への開口との間の距離が、前記噴出口から噴出されるプラズマガスの噴出方向において、0〜2mmであることを特徴とする請求項1ないし請求項3の何れか1つに記載のプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019189268A JP6768133B2 (ja) | 2019-10-16 | 2019-10-16 | プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019189268A JP6768133B2 (ja) | 2019-10-16 | 2019-10-16 | プラズマ発生装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017521392A Division JP6605598B2 (ja) | 2015-06-02 | 2015-06-02 | プラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020009785A JP2020009785A (ja) | 2020-01-16 |
JP6768133B2 true JP6768133B2 (ja) | 2020-10-14 |
Family
ID=69152309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019189268A Active JP6768133B2 (ja) | 2019-10-16 | 2019-10-16 | プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6768133B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111885808B (zh) * | 2020-07-22 | 2022-04-29 | 安徽工业大学 | 一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5247152A (en) * | 1991-02-25 | 1993-09-21 | Blankenship George D | Plasma torch with improved cooling |
JP3285174B2 (ja) * | 1993-10-14 | 2002-05-27 | 株式会社小松製作所 | プラズマ切断方法及びその装置 |
-
2019
- 2019-10-16 JP JP2019189268A patent/JP6768133B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020009785A (ja) | 2020-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6605598B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
WO2018029845A1 (ja) | プラズマ発生装置、およびプラズマ照射方法 | |
JP6768133B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
KR20100051594A (ko) | 표면을 처리하거나 코팅하는 방법 및 장치 | |
JP2008130503A (ja) | 大気圧プラズマジェット装置 | |
KR102073815B1 (ko) | 플라즈마 제트 분사 구조를 가지는 소독장치 | |
JP2009504528A (ja) | パッケージを殺菌する方法および装置 | |
KR102150924B1 (ko) | 플라즈마를 이용한 살균 장치 | |
EP3432691A1 (en) | Plasma generator | |
TWI447258B (zh) | 原料氣體產生裝置 | |
JP6534745B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JPWO2007046151A1 (ja) | 半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置 | |
JP6713039B2 (ja) | プラズマガス照射装置 | |
JP6482014B2 (ja) | プラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理システム | |
JP6267534B2 (ja) | 大気圧プラズマ発生装置 | |
JP2010147168A (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR100874341B1 (ko) | 플라즈마 발생장치 | |
WO2018096606A1 (ja) | プラズマ発生装置 | |
KR20180102404A (ko) | 가스 분사 장치, 이를 포함하는 기판 처리 설비 및 이를 이용한 기판 처리 방법 | |
JP2017183119A (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP6587689B2 (ja) | 大気圧プラズマ発生装置 | |
JP6242946B2 (ja) | 炭素繊維の表面処理方法 | |
KR101854890B1 (ko) | 가스 토치 | |
KR20210022826A (ko) | 파우더 고착 방지장치 | |
JP7461961B2 (ja) | プラズマ発生装置、およびプラズマ処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191016 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200826 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200901 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200918 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6768133 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |