JP6630734B2 - プラズマ照射方法、およびプラズマ照射システム - Google Patents
プラズマ照射方法、およびプラズマ照射システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6630734B2 JP6630734B2 JP2017542552A JP2017542552A JP6630734B2 JP 6630734 B2 JP6630734 B2 JP 6630734B2 JP 2017542552 A JP2017542552 A JP 2017542552A JP 2017542552 A JP2017542552 A JP 2017542552A JP 6630734 B2 JP6630734 B2 JP 6630734B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiation
- plasma
- heating
- inert gas
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 106
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 58
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 54
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 38
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 22
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 2
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 20
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
<プラズマ照射装置の構成>
図1に、本発明の実施例のプラズマ照射システム10を示す。プラズマ照射システム10は、大気圧下で被処理体にプラズマを照射するためのシステムである。プラズマ照射システム10は、プラズマ照射装置20と、ハウジング22と、加熱ガス噴出装置(図4参照)24と、冷却ガス噴出装置(図4参照)26と、ステージ28と、移動装置30と、制御装置(図4参照)32とを備えている。
プラズマ照射システム10は、上述した構成により、ステージ28に載置された被処理物90に対してプラズマ処理を行う。なお、プラズマ照射システム10では、プラズマ照射装置20によって水素プラズマが照射されるため、プラズマ処理によって被処理物の表面が還元され、被処理物の酸化膜が除去される。つまり、プラズマ照射システム10では、被処理物の酸化膜を除去する目的で、プラズマ処理が行われる。
第2実施例のプラズマ照射システム150を、図5に示す。プラズマ照射システム150は、第1実施例のプラズマ照射システム10と同様に、大気圧下で被処理体にプラズマを照射するためのシステムであり、ステージ160と、搬送装置162と、プラズマ照射装置164と、冷却ガス噴出装置166と、加熱装置168とを備えている。
Claims (7)
- ステージに載置された被処理物を加熱する加熱装置と、
前記加熱装置によって加熱された被処理物にプラズマを照射する照射装置と、
前記照射装置によってプラズマ照射された被処理物に向かって不活性ガスを噴出することで、被処理物を冷却する冷却装置と
を備えたプラズマ照射システムであって、
前記加熱装置が、
前記ステージに載置された被処理物に向かって、加熱された不活性ガスを噴出することで、被処理物を加熱する装置であるプラズマ照射システムにおいて、
前記プラズマ照射システムが、
前記加熱装置と前記照射装置と前記冷却装置とに対して前記ステージを所定の方向に向かって移動、若しくは、前記ステージに対して前記加熱装置と前記照射装置と前記冷却装置とを前記所定の方向と反対の方向に向かって移動させる移動装置を備え、
前記加熱装置の不活性ガスを噴出する第1噴出口と、前記照射装置のプラズマを前記所定の方向に並ぶ複数のノズル穴から照射する照射口と、前記冷却装置の不活性ガスを噴出する第2噴出口とが、前記所定の方向に向かって前記第1噴出口、前記照射口、前記第2噴出口の順に、前記所定の方向に沿って配設されることを特徴とするプラズマ照射システム。 - 前記プラズマ照射システムが、下面の開口するハウジングを備え、
前記ハウジングの上面に、前記加熱装置の不活性ガスを噴出する第1噴出口と、前記照射装置のプラズマを照射する照射口と、前記冷却装置の不活性ガスを噴出する第2噴出口とが形成されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ照射システム。 - 前記照射装置が、
水素を含む処理ガスに電圧を印加することでプラズマを発生させ、そのプラズマを被処理物に照射する装置であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマ照射システム。 - ステージに載置された被処理物を加熱する加熱装置と、
前記加熱装置によって加熱された被処理物にプラズマを照射する照射装置と、
前記照射装置によってプラズマ照射された被処理物に向かって不活性ガスを噴出することで、被処理物を冷却する冷却装置と
を備えたプラズマ照射システムであって、
前記加熱装置が、
前記ステージに載置された被処理物に向かって、加熱された不活性ガスを噴出することで、被処理物を加熱する装置であるプラズマ照射システムにおいて、
前記プラズマ照射システムが、
前記加熱装置と前記照射装置と前記冷却装置とに対して前記ステージを所定の方向に向かって移動、若しくは、前記ステージに対して前記加熱装置と前記照射装置と前記冷却装置とを前記所定の方向と反対の方向に向かって移動させる移動装置を備え、
前記加熱装置の不活性ガスを噴出する第1噴出口と、前記照射装置のプラズマを前記所定の方向を長手方向とするノズルから照射する照射口と、前記冷却装置の不活性ガスを噴出する第2噴出口とが、前記所定の方向に向かって前記第1噴出口、前記照射口、前記第2噴出口の順に、前記所定の方向に沿って配設されることを特徴とするプラズマ照射システム。 - 被処理物にプラズマを照射するプラズマ照射方法であって、
当該プラズマ照射方法が、
ステージに載置された被処理物に向かって、加熱された不活性ガスを加熱装置によって噴出することで、被処理物を加熱する加熱工程と、
前記加熱工程において加熱された被処理物にプラズマを照射装置によって照射する照射工程と、
前記照射工程においてプラズマ照射された被処理物に向かって不活性ガスを冷却装置によって噴出することで、被処理物を冷却する冷却工程と、
前記加熱装置と前記照射装置と前記冷却装置とに対して前記ステージを所定の方向に向かって移動、若しくは、前記ステージに対して前記加熱装置と前記照射装置と前記冷却装置とを前記所定の方向と反対の方向に向かって移動させる移動工程と
を含み、
前記加熱装置の不活性ガスを噴出する第1噴出口と、前記照射装置のプラズマを前記所定の方向に並ぶ複数のノズル穴から照射する照射口と、前記冷却装置の不活性ガスを噴出する第2噴出口とが、前記所定の方向に向かって前記第1噴出口、前記照射口、前記第2噴出口の順に、前記所定の方向に沿って配設されることを特徴とするプラズマ照射方法。 - 前記照射工程が、
水素を含む処理ガスに電圧を印加することでプラズマを発生させ、そのプラズマを被処理物に照射する工程であることを特徴とする請求項5に記載のプラズマ照射方法。 - 被処理物にプラズマを照射するプラズマ照射方法であって、
当該プラズマ照射方法が、
ステージに載置された被処理物に向かって、加熱された不活性ガスを加熱装置によって噴出することで、被処理物を加熱する加熱工程と、
前記加熱工程において加熱された被処理物にプラズマを照射装置によって照射する照射工程と、
前記照射工程においてプラズマ照射された被処理物に向かって不活性ガスを冷却装置によって噴出することで、被処理物を冷却する冷却工程と、
前記加熱装置と前記照射装置と前記冷却装置とに対して前記ステージを所定の方向に向かって移動、若しくは、前記ステージに対して前記加熱装置と前記照射装置と前記冷却装置とを前記所定の方向と反対の方向に向かって移動させる移動工程と
を含み、
前記加熱装置の不活性ガスを噴出する第1噴出口と、前記照射装置のプラズマを前記所定の方向を長手方向とするノズルから照射する照射口と、前記冷却装置の不活性ガスを噴出する第2噴出口とが、前記所定の方向に向かって前記第1噴出口、前記照射口、前記第2噴出口の順に、前記所定の方向に沿って配設されることを特徴とするプラズマ照射方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2015/077496 WO2017056184A1 (ja) | 2015-09-29 | 2015-09-29 | プラズマ照射方法、およびプラズマ照射システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017056184A1 JPWO2017056184A1 (ja) | 2018-07-26 |
JP6630734B2 true JP6630734B2 (ja) | 2020-01-15 |
Family
ID=58422790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017542552A Active JP6630734B2 (ja) | 2015-09-29 | 2015-09-29 | プラズマ照射方法、およびプラズマ照射システム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6630734B2 (ja) |
WO (1) | WO2017056184A1 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4871343B2 (ja) * | 2008-11-25 | 2012-02-08 | パナソニック電工Sunx株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP5299674B2 (ja) * | 2008-11-25 | 2013-09-25 | 株式会社豊田自動織機 | 非晶質硬質炭素皮膜の成膜方法及びその成膜装置 |
JP2014060035A (ja) * | 2012-09-18 | 2014-04-03 | Panasonic Corp | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
WO2014184910A1 (ja) * | 2013-05-15 | 2014-11-20 | 富士機械製造株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
2015
- 2015-09-29 WO PCT/JP2015/077496 patent/WO2017056184A1/ja active Application Filing
- 2015-09-29 JP JP2017542552A patent/JP6630734B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2017056184A1 (ja) | 2018-07-26 |
WO2017056184A1 (ja) | 2017-04-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6720313B2 (ja) | プラズマ発生装置、およびプラズマ照射方法 | |
JP6461983B2 (ja) | プラズマガス照射装置 | |
CN113013073B (zh) | 气氛形成装置及上浮搬运方法 | |
JP2008284580A (ja) | プラズマトーチ | |
US11538664B2 (en) | Plasma treatment apparatus and method | |
US20170361404A1 (en) | Deposition apparatus and deposition method | |
JP6630734B2 (ja) | プラズマ照射方法、およびプラズマ照射システム | |
JP2008130825A (ja) | ワイヤボンディング装置 | |
TWI248156B (en) | Cleaning and drying apparatus for substrate holder chuck and method thereof | |
JP6713039B2 (ja) | プラズマガス照射装置 | |
WO2017037775A1 (ja) | プラズマ照射装置 | |
JP2008226628A5 (ja) | ||
US20180001414A1 (en) | Arc welding device and method | |
JP6360045B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2006147859A (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
JP6267534B2 (ja) | 大気圧プラズマ発生装置 | |
JP2008244195A (ja) | レーザアニール装置 | |
JP6695192B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP6918673B2 (ja) | 表面処理方法及び装置、並びにガラス基板 | |
JP2008053367A5 (ja) | ||
JP2011243913A (ja) | 紫外線処理装置及び紫外線照射装置 | |
WO2021182349A1 (ja) | 成形システム、及び成形方法 | |
EP4037440A1 (en) | Plasma generation device and plasma treatment method | |
JP3564814B2 (ja) | Tig溶接装置 | |
JP4078599B2 (ja) | 噴流はんだ槽、噴流はんだ付け装置及び方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180706 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190704 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191126 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191209 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6630734 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |