JP6360045B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
放電空間に供給されるガスを、少なくともプラズマ内に生成された反応種を含む処理ガスとし、その処理ガスを処理ガス噴出口から噴出させる処理ガス生成・噴出部と、
ヒータにより加熱した加熱気体を加熱気体噴出口から噴出させる加熱気体生成・噴出部と、
それら処理ガス生成・噴出部および加熱気体生成・噴出部を、前記処理ガス噴出口と前記加熱気体噴出口とが一方向に並ぶ状態で保持する生成・噴出部保持体と、
前記処理ガスにより被処理面を処理されるべき被処理物を保持する被処理物保持体と、
前記処理ガス噴出口および前記加熱気体噴出口が前記被処理物保持体に保持された被処理物の被処理面に対向する状態で、前記生成・噴出部保持体と前記被処理物保持体とを前記処理ガス噴出口と前記加熱気体噴出口との並び方向に、かつ、前記加熱気体噴出口が前記処理ガス噴出口に先行して被処理面に対向することとなる向きに相対移動させる相対移動装置と
を含み、加熱気体により加熱した被処理面を処理ガスにより処理するプラズマ処理装置であって、
前記処理ガス噴出口として、互いに独立した複数の開口が一線上に互いに間隔を隔てて並んだ独立開口列を有する独立開口型処理ガス生成・噴出部と、単一の開口を有する単一開口型処理ガス生成・噴出部との両方を含み、
前記単一開口型処理ガス生成・噴出部が、前記単一の開口として一線に沿って延びるスリット状の開口を有するスリット型処理ガス生成・噴出部であるように構成される。
被処理物は、例えば、金属製,樹脂製,セラミックス製とされ、処理ガスの噴付けにより、例えば、被処理面の改質,洗浄が行われる。改質は、例えば、被処理面の接合強度の向上,親水性あるいは撥水性の向上であり、洗浄は、例えば、減菌,滅菌,有機物等の除去である。
相対移動装置は、生成・噴出部保持体を移動させる装置としてもよく、被処理物保持体を移動させる装置としてもよく、両方を移動させる装置としてもよい。
共通の生成・噴出部保持体により保持された処理ガス生成・噴出部と加熱気体生成・噴出部とは互いに近接しており、被処理物の被処理面が処理ガスが噴き付けられる直前に加熱されることが望ましい。そのようにすれば、加熱から処理までの時間が短く、被処理面の温度低下が少なくて済み、加熱による処理向上効果、すなわち反応速度の増大、それによる化学反応の促進効果がより有効に得られる。
本実施形態の大気圧プラズマ処理装置(以後、プラズマ処理装置と略称する)は、図13に概略的に示すように、生成・噴出装置昇降装置200の生成・噴出部保持体たる昇降部材201に処理ガス生成・噴出装置202が設けられるとともに、その両側にそれぞれ加熱空気生成・噴出装置204,206が設けられている。
Claims (14)
- 放電空間に供給されるガスを、少なくともプラズマ内に生成された反応種を含む処理ガスとし、その処理ガスを処理ガス噴出口から噴出させる処理ガス生成・噴出部と、
ヒータにより加熱した加熱気体を加熱気体噴出口から噴出させる加熱気体生成・噴出部と、
それら処理ガス生成・噴出部および加熱気体生成・噴出部を、前記処理ガス噴出口と前記加熱気体噴出口とが一方向に並ぶ状態で保持する生成・噴出部保持体と、
前記処理ガスにより被処理面を処理されるべき被処理物を保持する被処理物保持体と、
前記処理ガス噴出口および前記加熱気体噴出口が前記被処理物保持体に保持された被処理物の被処理面に対向する状態で、前記生成・噴出部保持体と前記被処理物保持体とを前記処理ガス噴出口と前記加熱気体噴出口との並び方向に、かつ、前記加熱気体噴出口が前記処理ガス噴出口に先行して被処理面に対向することとなる向きに相対移動させる相対移動装置と
を含み、加熱気体により加熱した被処理面を処理ガスにより処理するプラズマ処理装置であって、
前記処理ガス噴出口として、互いに独立した複数の開口が一線上に互いに間隔を隔てて並んだ独立開口列を有する独立開口型処理ガス生成・噴出部と、単一の開口を有する単一開口型処理ガス生成・噴出部との両方を含み、
前記単一開口型処理ガス生成・噴出部が、前記単一の開口として一線に沿って延びるスリット状の開口を有するスリット型処理ガス生成・噴出部であるプラズマ処理装置。 - 前記独立開口型処理ガス生成・噴出部と前記単一開口型処理ガス生成・噴出部とが、供給されるガスを処理ガスとする処理ガス生成部を共通とし、その共通の処理ガス生成部に対して、前記独立開口列を有する独立開口型噴出部と、前記単一の開口を有する単一開口型噴出部とが択一的に取り付けられることにより構成される請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記独立開口型処理ガス生成・噴出部と前記単一開口型処理ガス生成・噴出部とが択一的に前記生成・噴出部保持体に取り付け可能である請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記単一開口型処理ガス生成噴出部の前記単一の開口の開口面積が、前記独立開口型処理ガス生成・噴出部の前記複数の開口の各々の開口面積の和より大きくされている請求項1ないし3のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理ガス噴出口および前記加熱気体噴出口が、前者から噴出した処理ガスと後者から噴出した加熱気体とがそれぞれ被処理面に到達する両到達領域の中心間距離が25mm以下となる状態に互いに近接させられた請求項1ないし4のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記加熱気体生成・噴出部が前記加熱気体噴出口から加熱気体を噴出させる方向と、前記処理ガス生成・噴出部が前記処理ガス噴出口から処理ガスを噴出させる方向とが、両噴出口の中心間距離より処理ガスと加熱気体とが被処理面にそれぞれ到達する両到達領域の中心間距離が小さくなる向きに、互いに交差させられた請求項1ないし5のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記加熱気体生成・噴出部が前記加熱気体噴出口から噴出させる加熱気体の流量が、前記処理ガス生成・噴出部が前記処理ガス噴出口から噴出させる処理ガスの流量より少ない請求項1ないし6のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理ガス生成・噴出部と前記加熱気体生成・噴出部とが互いに別体に構成され、互いに分離可能である請求項1ないし7のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理ガス生成・噴出部および前記加熱気体生成・噴出部が前記生成・噴出部保持体に対して着脱可能である請求項1ないし8のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- さらに、前記生成・噴出部保持体と前記被処理物保持体とを、前記相対移動装置による相対移動方向と交差する方向に互いに接近・離間させる接近・離間装置を含む請求項1ないし9のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記接近・離間装置が、駆動源を備え、その駆動源の制御により前記生成・噴出部保持体と前記被処理物保持体とを接近・離間させるものである請求項10に記載のプラズマ処理装置。
- 前記相対移動装置が、前記生成・噴出部保持体と前記被処理物保持体とを、概して被処理物の被処理面に平行な平面上において、互いに交差する2方向に相対移動可能なものである請求項1ないし11のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 加熱気体生成・噴出部の前記加熱気体噴出口が前記処理ガス生成・噴出部の前記処理ガス噴出口の両側に設けられ、それら両側に設けられた加熱気体噴出口の各々が前記処理ガス噴出口に先行して被処理面に対向することとなる向きに、前記相対移動装置が前記生成・噴出部保持体と前記被処理物保持体とを選択的に移動させる請求項1ないし12のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- プラズマ処理が大気圧雰囲気中において行われる請求項1ないし13のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
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