JP4078599B2 - 噴流はんだ槽、噴流はんだ付け装置及び方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、噴流はんだ槽、噴流はんだ付け装置及び噴流はんだ付け方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年の電子工業では、プリント配線板の高密度実装に対処するため、表面実装技術(SMT)が導入されている。それに対応する微小接合技術(ICチップをプリント配線板に実装する技術等)でははんだ付けが多用され、その一種に噴流はんだ付けがある。これは、プリント配線板をコンベアで搬送し、はんだ槽の噴流ノズルから上方に噴流している溶融はんだに接触させるものである。
【0003】
図8に従来の噴流はんだ付け装置を示す(特許文献1参照)。このはんだ付け装置はコンベア70、噴流はんだ槽73及び把持部材78等を含む。プリント配線板80を搬送するコンベア70の上下左右が断面長方形チャンバ71により覆われ、チャンバ出口直前にはんだ槽73が配置されている。チャンバ71の底部には入口から出口に向かってフラクサやプリヒータ(不図示)等が配置されている。
【0004】
噴流はんだ槽73上方でチャンバ71の天井板を上方に突出させて突出部75が形成されている。発生装置(不図示)から窒素ガスがパイプを通してチャンバ71の出口近くに形成された吹出し口76から突出部75の密閉空間内に噴出される。図9に示すように、突出部75内に配置された把持部材78がプリント配線板80を把持しており、噴流される溶融はんだがプリント配線板80の裏面に付着される。
【0005】
【特許文献1】
特開平11−261209号(段落番号0004及び0009、図1参照)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、環境問題等の理由から洗浄を必要としないフラックスを用いた場合、フラックスからはんだ付けまでの間にプリント配線板80の端子や銅箔が酸化されるおそれがある。これを考慮して、吹出し口76から突出部75内に窒素ガスを吹き出し、不活性雰囲気下で噴流はんだ付けを行っている。
【0007】
しかし従来の噴流はんだ付け装置では、はんだ槽73の上方に形成した大きな突出部75内に窒素ガスを充填させている。そのために、噴流はんだ付け装置が大型化するのみならず、多量の窒素ガスが必要となる。
【0008】
本発明は上記事情を鑑みてなされたもので、小型化されかつ窒素ガスの使用量が少なくて済む噴流はんだ槽、噴流はんだ付け装置及び噴流はんだ付け方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本願の発明者は、従来例のようにはんだ槽の開口全体を覆うのではなく、噴流ノズルの上方空間のみをカバーで覆うことを考えた。その上でカバーを、常に噴流ノズルの上方空間を覆い吹出し口から窒素ガスを吹き出す固定カバーと、プリント配線板を把持した把持部材と択一的にノズル上方空間に移動され、吹き出し口から窒素ガスを吹き出す可動カバーとに二分した。
▲1▼本願の第1発明による噴流はんだ槽は、上方に開口し溶融はんだを貯えた本体と;本体内に配置され溶融はんだを上方に噴流する噴流ノズルと;本体に固定され噴流ノズルの上方空間を覆い窒素ガスを吹き出す吹出し口を有する固定カバーと;本体に取り付けられ噴流ノズルの上方空間を覆う前進位置と覆わない後退位置との間で移動し、前進位置で窒素ガスを吹き出す吹出し口を有する移動カバーと;から成ることを特徴とする。
【0010】
噴流はんだ槽は、固定カバーが上方空間の一部を覆い、前進位置に前進した移動カバーが上方空間の残部を覆う。
(2)本願の第2発明による噴流はんだ付け装置は、貯えた溶融はんだを上方に噴流する噴流ノズルを持つ本体、噴流ノズルの上方空間を覆い窒素ガスを吹き出す固定カバー、及び噴流ノズルの上方空間を覆う前進位置と覆わない後退位置との間で移動し、前進位置で窒素ガスを吹き出す移動カバーを含む噴流はんだ槽と;はんだ付け母材を把持及び開放する把持・開放位置と把持したはんだ付け母材を噴流ノズルから噴流する溶融はんだに接触させる接触位置との間で移動可能な把持機構と、把持機構を把持・開放位置と接触位置との間で移動させる移動部材と、
を含む母材供給機構と;から成ることを特徴とする。
【0011】
把持機構は2組のチャック爪対を持ち、一方のチャック爪対が基板の移動方向前方及び後方の縁部を把持し、他方のチャック爪対が両側方の縁部を把持する。他方のチャック爪対の前方側のチャック爪は、噴流ノズルの上方に位置し固定カバーから吹き出す窒素ガスを噴流する溶融はんだに向けて案内するガス案内部を持つ。
(3)本願の第3発明による噴流はんだ付け方法は、溶融はんだを上方に噴流する噴流ノズルの上方空間を覆う位置に固定された固定カバーから窒素ガスを吹き出し、上方空間を覆う位置に前進した移動カバーから窒素ガスを吹き出すガス吹き出し工程と;移動カバーを噴流ノズルの上方空間から外れた位置に後退させ、代わりにはんだ付け母材を把持した把持機構を噴流する溶融はんだに接触する接触位置に前進させるはんだ付着工程と;から成ることを特徴とする。
【0012】
請求項3の噴流はんだ付け方法は、請求項2のはんだ付着工程において、移動カバーがノズルの上方空間から外れ把持機構が接触位置に前進する前は溶融はんだの噴流量を多く、把持機構が接触位置に前進した後は少なくする。
【0013】
【発明の実施の形態】
<噴流はんだ槽>
噴流ノズル、特にその開口はははんだ付け母材に応じて種々の形状を持つことができ、それにより噴流する溶融はんだ(以下「噴流はんだ」と略称する)の形状が異なる。
【0014】
固定カバーと移動カバーとは本体の開口のうち、噴流ノズルの上方空間のみを覆う。つまり、平面視において、固定カバー及び移動カバーが覆うのは本体の開口の一部に過ぎない。固定カバーは本体に固定され、移動カバーは前進位置と後退位置との間で移動可能に本体に取り付けられている。
【0015】
固定カバー及び移動カバーは種々の形状を持つことができる。例えば、固体カバーと移動カバーとを面対称又はそれに近い形状にし、移動カバーを固定カバーに接近させて噴流ノズルの開口の上方に小空間を形成することができる。尚、本体の開口のその他の部分は蓋部材で覆っておくことができる。
<噴流はんだ付け装置>
噴流はんだ付け装置は噴流はんだ槽と母材供給機構とを含む。噴流はんだ槽については上述した。母材供給機構の把持機構は、一組又は二組のチャック爪対を持つことができる。一組の場合、チャック爪対が基板の移動方向前後方の縁部、又は両側方の縁部を把持する。これに対して、二組の場合は、一方のチャック爪対が基板の移動方向前方及び後方の縁部を把持し、他方のチャック爪対が両側方の縁部を把持する。
【0016】
一組でも二組でも、はんだ付け母材即ち把持機構の前方前にあるチャック爪に、噴流はんだの上方に位置し、固定カバーから吹き出す窒素ガスを噴流はんだに向かって案内するガス案内部を設けることができる。尚、二組の場合は側方を把持するチャック爪にも把持機構の移動方向と直交する方向に伸びるガス案内部を設けることができる。
<噴流はんだ付け方法>
噴流はんだ付け方法は、上記噴流はんだ付け装置の使用方法に相当する。ガス供給工程では、噴流はんだ槽の噴流ノズルの上方空間を覆う位置に固定された固定カバーに対して、移動カバーが上方空間を覆う位置に前進して対向する。そして、固定カバー及び移動カバーからそれぞれ窒素ガスを吹き出す。
【0017】
はんだ付着工程では、移動カバーが噴流ノズルの上方空間から外れた位置に後退し、代わりにはんだ付け母材を把持した把持機構が接触位置に前進する。そして、はんだ付け母材が噴流はんだに接触され、噴流はんだがはんだ付け母材に付着する。噴流はんだ槽は1つのみ設けても良いが、2つ設けることが望ましい。この場合、1次噴流はんだ槽で基板の裏面に噴流はんだを付着させ、2次噴流はんだ槽で基板に付着したはんだを成形する。
【0018】
尚、はんだ付け母材は接触位置から外れた把持位置で把持される。この位置ではまた、既にはんだ付けの終了したはんだ付け母材が開放される。また、表面に電子部品が実装された基板はベルトコンベアに載置され、はんだ付け前にプリヒート等の前処理がなされ、はんだ付け後に冷却等の後処理がなされる。
【0019】
【実施例】
以下、本発明の実施例を添付図面を参照しつつ説明する。
(構成)
図1に示すように、はんだ付け装置は噴流はんだ槽10と、母材供給機構30とから成る。このうち、噴流はんだ槽10は図2に示すように、本体11、噴流ノズル13、固定カバー21及び移動カバー24を含む。本体11は上方が開口した容器形状を持ち、その内部に溶融したはんだSを貯えている。本体11内に配置された噴流ノズル13の一端14が上方に開口し、その他端には供給部16、駆動部17及び制御部18が接続されている。制御部18で駆動部17を駆動すると、供給部16に収容された溶融はんだSが噴流ノズル13に供給される。
【0020】
固定カバー21はL字形状断面で一定幅を持ち、噴流ノズル13の開口14の上方空間20の一部を覆うように本体11に固定されている。開口14の上方空間20に窒素ガスを吹き出す吹出し口22を持つ。
【0021】
移動カバー24はL字形状断面で一定幅を持ち、駆動機構により前進位置と後退位置との間で移動され、窒素ガスを吹き出す吹出し口27を持つ。図3に示すように、駆動機構は、案内ロッド25と、移動カバー24に取り付けられ案内ロッド25に案内されて移動する移動部材26とを含む。移動カバー24は、図3に二点鎖線で示す前進位置では、開口14の上方空間20の残部を覆い、実線で示す後退位置では上方空間20から外れる。
【0022】
母材供給機構30は、図4、図5及び図6に示すように、互いに直交して配置された二組のチャック機構32及び37と、チャック機構を移動させる移動部材42とを含む。一方のチャック機構32は二つのチャック爪33及び34を持ち、矩形状の基板47の対向する一対の縁部48a及び48bを把持する。他方のチャック機構37は二つのチャック爪38及び39を持ち、対向する他方の縁部49a及び49bを把持する。
【0023】
基板47の接触時前方側となるチャック爪33は前方に伸びるガス案内部35を持ち、その幅は基板47の幅(約50mm)とほぼ等しい。チャック爪33に隣接するチャック爪39はガス案内部35と直交する方向に伸びるガス案内部40を持っている。図1から明らかなように、移動部材42はチャック機構32及び37に結合され伸縮可能な伸縮部材43と、該伸縮部材43を揺動可能に支持する支持部材44とを有する。
(作用)
前回の噴流はんだ付けの終了時、噴流はんだ付け装置は図2に示す状態にある。移動カバー24が前進位置にあり、固定カバー21と共同して噴流はんだTの上方空間20を覆っている。小さな上方空間内20に吹出し口22及び27から窒素ガスが噴出されている。これにより、非はんだ付け時において、噴流はんだTの表面が酸化することが防止される。
【0024】
次に、移動カバー24を後退位置に後退させるとともに、制御部18で駆動部17を制御して、噴流はんだTの噴出量を通常状態(基板47を噴流はんだTに接触させるとき)よりも増加させる。これにより、たとえ噴流はんだTの表面に多少の酸化被膜が形成されていても、その酸化被膜は噴出量が増加した噴流はんだTにより周辺に流出し、除去される。
【0025】
次に、噴流はんだTの噴出量を通常状態に戻し、図4に示すように、把持・開放位置で基板47を把持したチャック機構32及び37を接触位置に前進させる。すると、噴流はんだTが基板47の裏面の所定場所に接触し、付着する。このとき、固定カバー21とチャック爪33のガス案内部35とで噴流はんだTの上方に上方開口20が形成され、この上方空間20内に固定カバー21の吹出し口22から窒素ガスが吹き出される。これにより、噴流はんだTの表面の酸化が防止される。
(効果)
第1に、非はんだ付け時もはんだ付け時も噴流はんだTの酸化が防止される。非はんだ付け時は固定カバー21及び移動カバー24が噴流はんだTの上方空間20を覆い、大気が噴流はんだTに接触するのを防止する。また、はんだ付け時は、固定カバー21とチャック機構32及び37のガス案内部35及び40とが上方空間20を覆い、大気が噴流はんだTに接触するのを防止する。
【0026】
特に、チャック爪33の移動方向前方側にガス案内部35を設けたので、移動カバー24が後退しているはんだ付け時でも、固定カバー21とガス案内部35とにより噴流はんだTの上方空間20が形成される。これに関連して、ガス案内部35の長さと基板47の先端での酸素ガス濃度との関係を調べ、その結果を図7に示す。
【0027】
図7は上記はんだ付け装置において、窒素ガスを小空間に80l/分供給したときの、ガス案内部35の長さと基板47の先端48aにおける酸素ガス濃度との関係を示す。直線xは限界ガス濃度を示し、酸素ガスの濃度がこれよりも高くなると、噴流はんだTの表面が酸化する虞がある。
【0028】
これから分かるように、ガス案内部35の長さが約52mmよりも広いときは酸素ガス濃度が限界ガス濃度xよりも低く、噴流はんだTの酸化が防止される。これは、ガス案内部35により噴流はんだTの上方空間20内に窒素ガスが確実に供給されたからと考えられる。
【0029】
第2に、非はんだ付け時もはんだ付け時も、上方空間20への窒素ガスの吹出し量が少なくできる。窒素ガスは、非はんだ付け時は固定カバー21と移動カバー24とで形成される噴流はんだTの上方空間20内に吹き出され、はんだ付け時は固定カバー21とチャック爪33のガス案内部35とで形成される上方空間20内に吹き出されるに過ぎないからである。
【0030】
第3に、非はんだ付け時に噴流はんだTの表面に形成される酸化被膜が破壊し難く、溶融はんだSの更なる酸化が防止される。基板47が噴流ノズル13の上方から後退し、移動カバー24が噴流ノズル13の上方を覆っているとき、噴流はんだTの量を減少させ、はんだ付けしないときの噴流はんだTの量を少なくするためである。
【0031】
【発明の効果】
以上述べてきたように、第1発明の噴流はんだ槽によれば、固定カバーと前進した移動カバーとで形成される小さな空間に窒素ガスを吹き出すに過ぎないので、窒素ガスの吹き出し量が少なくて済むとともに、噴流はんだ槽を小型化できる。請求項2によれば、固定カバーと移動カバーとにより噴流ノズルの上方空間が確実に覆われる。
【0032】
第2発明の噴流はんだ付け装置及び第3発明の噴流はんだ付け方法によれば、非はんだ付け時は固定カバーと移動カバーとにより噴流ノズルの上方空間が覆われ、噴流はんだの酸化が防止される。また、はんだ付け時は固定カバーとチャック機構の一部により噴流ノズルの上方空間が覆われ噴流はんだの酸化が防止されると共に、はんだ付け母材に噴流する溶融はんだが確実に付着する。
【0033】
請求項4によれば、はんだ付け母材がチャック機構により確実に把持される。。請求項5によれば、はんだ付け時に噴流する溶融はんだの酸化がより確実に防止される。請求項7によれば、噴流する溶融はんだの量を抑制しつつその酸化が防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による噴流はんだ付け装置の実施例を示す正面説明図である。
【図2】図1の要部拡大図であり、本発明による噴流はんだ槽の実施例を示す正面説明図である。
【図3】図2の作動を示す斜視説明図である。
【図4】図1の作動説明図であり、本発明による噴流はんだ付け方法の実施例を示す正面説明図である。
【図5】図4の要部平面図である。
【図6】チャック機構の斜視図である。
【図7】基板の先端での酸素ガス濃度とガス案内部の長さとの関係を示すグラフである。
【図8】従来例を示す要部正面図である。
【図9】同じく縦断面図である。
【符号の説明】
10:噴流はんだ槽 11:本体
13:ノズル 14:開口
20:上方空間 21:固定カバー
22:吹出し口 24:移動カバー
27:吹出し口 30:母材供給機構
32、37:チャック機構 33,34,38,39:チャック爪
35、40:ガス案内部 42:移動部材
47:基板 S:溶融はんだ
T:噴流はんだ
Claims (3)
- 上方に開口し溶融はんだを貯えた本体と、
前記本体内に配置され、溶融はんだを上方に噴流する噴流ノズルと、
前記本体に固定され、前記噴流ノズルの上方空間の一部を覆い、窒素ガスを吹き出す吹出し口を有する固定カバーと、
前記本体に取り付けられ、前記噴流ノズルの上方空間の残部を覆う前進位置と覆わない後退位置との間で移動し、前進位置で窒素ガスを吹き出す吹出し口を有する移動カバーと、
はんだ付け母材を把持及び開放する把持・開放位置と把持したはんだ付け母材を前記噴流ノズルから噴流する溶融はんだに接触させる接触位置との間で移動可能な把持機構と、該把持機構を把持・開放位置と接触位置との間で移動させる移動部材とを含む母材供給機構と、を備え、
前記把持機構は、基板を把持するチャック爪を持ち、
前記チャック爪は、前記噴流ノズルの上方に位置し前記固定カバーから吹き出す窒素ガスを噴流する溶融はんだに向けて案内するガス案内部を持つことを特徴とする噴流はんだ付け装置。 - 溶融はんだを上方に噴流する噴流ノズルの上方空間を覆う位置に固定された固定カバーから窒素ガスを吹き出し、上方空間を覆う位置に前進した移動カバーから窒素ガスを吹き出すガス吹き出し工程と、
前記移動カバーを前記噴流ノズルの上方空間から外れた位置に後退させ、代わりにはんだ付け母材を把持した把持機構を噴流する溶融はんだに接触する接触位置に前進させるはんだ付着工程と、
から成ることを特徴とする噴流はんだ付け方法。 - 前記はんだ付着工程において、前記移動カバーがノズルの上方空間から外れ前記把持機構が接触位置に前進する前は溶融はんだの噴流量を多く、該把持機構が接触位置に前進した後は少なくする請求項2に記載の噴流はんだ付け方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002370005A JP4078599B2 (ja) | 2002-12-20 | 2002-12-20 | 噴流はんだ槽、噴流はんだ付け装置及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002370005A JP4078599B2 (ja) | 2002-12-20 | 2002-12-20 | 噴流はんだ槽、噴流はんだ付け装置及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004200575A JP2004200575A (ja) | 2004-07-15 |
JP4078599B2 true JP4078599B2 (ja) | 2008-04-23 |
Family
ID=32766067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4078599B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005046563B3 (de) * | 2005-09-28 | 2007-02-08 | Messer Group Gmbh | Lötvorrichtung zum Löten von Flachbaugruppen |
DE102012022669B4 (de) * | 2012-11-21 | 2022-10-13 | Illinois Tool Works Inc. | Selektiv-Lötanlage |
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---|---|
JP2004200575A (ja) | 2004-07-15 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070727 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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