JP6695192B2 - プラズマ発生装置 - Google Patents
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Description
図1乃至図7に、本発明の実施例の大気圧プラズマ発生装置10を示す。大気圧プラズマ発生装置10は、大気圧下でプラズマを発生させるための装置であり、プラズマガス噴出装置12と加熱ガス供給装置14とを備えている。なお、図1は、大気圧プラズマ発生装置10を斜め上方からの視点において示す斜視図である。図2は、加熱ガス供給装置14の保護カバー16を取り外した状態の大気圧プラズマ発生装置10を斜め上方からの視点において示す斜視図である。図3は、加熱ガス供給装置14の保護カバー16を取り外した状態の大気圧プラズマ発生装置10を斜め下方からの視点において示す斜視図である。図4は、図3のAA線における断面図である。図5は、大気圧プラズマ発生装置10の下端部を斜め下方からの視点において示す斜視図である。図6は、プラズマガス噴出装置12の要部の透過図である。図7は、図6のBB線における断面図である。また、大気圧プラズマ発生装置10の幅方向をX方向と、大気圧プラズマ発生装置10の奥行方向をY方向と、X方向とY方向とに直行する方向、つまり、上下方向をZ方向と称する。
大気圧プラズマ発生装置10において、プラズマガス噴出装置12では、上述した構成により、反応室38の内部で処理ガスがプラズマ化され、ノズルブロック36の第4ガス流路66の下端からプラズマガスが噴出され、被処理体がプラズマ処理される。また、加熱ガス供給装置14により加熱されたガスが下部カバー22の内部に供給される。そして、下部カバー22の放出口206から、加熱されたガスが噴出される。大気圧プラズマ発生装置10において、上述した構成により、被処理体に対してプラズマ処理を行う。なお、大気圧プラズマ発生装置10では、プラズマガス噴出装置12によって水素プラズマが照射されるため、プラズマ処理によって被処理体の表面が還元され、被処理物の酸化膜が除去される。つまり、大気圧プラズマ発生装置10では、被処理物の酸化膜を除去する目的で、プラズマ処理が行われる。以下に、大気圧プラズマ発生装置10によるプラズマ処理について、詳しく説明する。
Claims (4)
- 処理ガスをプラズマ化させる反応室が形成された本体部と、
前記本体部に形成され、前記反応室においてプラズマ化されたプラズマガスを噴出させるための噴出部材と、
前記噴出部材に対して加熱ガスを噴出する加熱ガス噴出装置と、
前記プラズマガスが噴出する方向に対し垂直な平面に、前記プラズマガスが処理を行う被処理体に対向するように設けられた遮蔽板と、
前記噴出部材に設けられ前記噴出部材に噴出させた加熱ガスを放出する放出口と、
を備えることを特徴とするプラズマ発生装置。 - 前記遮蔽板の被処理体に対向する面とは反対側の面に少なくとも一つの冷却穴が設けられ、
前記冷却穴に冷却ガスを供給すること、
を特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。 - 前記噴出部材が、スリット状に形成され、前記噴出部材の長手方向の平面に前記加熱ガスが噴出されるように構成されたこと、
を特徴とする請求項1ないし請求項2のいずれか1つに記載のプラズマ発生装置。 - 前記プラズマ発生装置はクランク状に屈曲した流路を有し、
前記流路を通して前記プラズマガスを噴出させること、
を特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載のプラズマ発生装置。
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