JP2011034814A5

JP2011034814A5 -

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Publication number: JP2011034814A5
Application number: JP2009180187A
Authority: JP
Filing date: 2009-07-31
Publication date: 2011-04-07

Claims

発光素子を有する少なくとも一つの画素を有する発光装置であって、
基板と、
前記基板上に、第１の方向に延在して形成された複数の第１隔壁と、
前記基板上に、前記第１の方向と直交する第２の方向に延在して形成され、前記複数の第１隔壁の前記第１の方向における端部同士を繋ぐ第２隔壁と、
前記基板と一対の前記第１隔壁と前記第２隔壁とによって形成される溝内に形成された前記発光素子の発光層と、
を備え、
前記第２隔壁の撥液度が、前記第１隔壁の前記第１の方向に沿った両端間の中央の領域の撥液度よりも低いことを特徴とする発光装置。
前記第１隔壁及び前記第２隔壁は、各々の表面に、その単位面積あたりの量が多い程前記撥液度が高くなる撥液物質を有し、
前記第２隔壁の表面に有する前記撥液物質の量は、前記第１隔壁の前記中央の領域の表面に有する前記撥液物質の量より少ないことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
前記撥液物質は、フッ素、又は、フッ素系化合物であることを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
１つの前記溝は、前記基板上に、隣接して形成された一対の前記第１の隔壁と、前記第２の隔壁と、によって仕切られて設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の発光装置。
前記基板上に形成された、前記発光素子を駆動する複数の駆動素子と、該複数の駆動素子を覆う絶縁膜を有し、
前記絶縁膜は前記各第１隔壁および前記第２隔壁に覆われて、前記溝内に露出されていないことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の発光装置。
前記隔壁は、絶縁材料により形成されている請求項１乃至５のいずれかに記載の発光装置。
請求項１乃至６のいずれかに記載の発光装置を表示部に使用した表示装置。
発光素子を有する少なくとも一つの画素を有する発光装置の製造方法であって、
基板上に、複数の第１隔壁を、第１の方向に延在し、前記発光素子の発光層の形成領域を仕切る位置に形成し、少なくとも１つの第２隔壁を、前記第１の方向と直交する第２の方向に延在し、前記複数の第１隔壁の前記第１の方向における端部同士を繋ぐ位置に形成する隔壁形成ステップと、
前記第２隔壁の撥液度を、前記第１隔壁の前記第１の方向に沿った両端間の中央の領域の撥液度よりも低くする撥液度調整ステップと、
を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
前記撥液度調整ステップは、前記各第１隔壁と前記第２隔壁の表面上に、その単位面積あたりの量が多い程前記撥液度が高くなる撥液物質を設け、前記第２隔壁の表面上の前記撥液物質の量を、前記各第１隔壁の前記中央の領域の表面上の前記撥液物質の量より少なくすることを特徴とする請求項８に記載の発光装置の製造方法。
前記撥液度調整ステップは、
前記発光層の形成領域の上面と、前記各第１隔壁と、前記第２隔壁と、を親液化する第１親液化ステップと、
前記第１隔壁と前記第２隔壁とを撥液化する第１撥液化ステップと、
前記第２隔壁を親液化する第２親液化ステップと、
を含むことを特徴とする請求項８又は９に記載の発光装置の製造方法。
前記第１親液化ステップは、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに酸素プラズマを照射して、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを親液化する第１プラズマ照射ステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の発光装置の製造方法。
前記第１撥液化ステップは、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とにのみＣＦ _４プラズマを照射して、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを撥液化する第２プラズマ照射ステップを含み、
前記第２親液化ステップは、前記第２隔壁にのみ酸素プラズマを照射して、前記第２隔壁を親液化する第３プラズマ照射ステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の発光装置の製造方法。
前記第２プラズマ照射ステップは、プラズマジェットを局所的に放出するスポット型のプラズマ照射装置から前記酸素プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに沿って移動させて、前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに前記酸素プラズマを照射するステップを含み、
前記第３プラズマ照射ステップは、前記プラズマ照射装置から前記ＣＦ _４プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記第２隔壁に沿って移動させて、前記第２隔壁に前記ＣＦ _４プラズマを照射することを特徴とする請求項１２に記載の発光装置の製造方法。
前記撥液度調整ステップは、
前記基板の上面と、前記各第１隔壁と、前記第２隔壁と、を親液化する第３親液化ステップと、
前記第１隔壁のすくなくとも一部を撥液化する第２撥液化ステップと、
を含むことを特徴とする請求項８又は９に記載の発光装置の製造方法。
前記第３親液化ステップは、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とに酸素プラズマを照射して、前記基板の上面と前記各第１隔壁と前記第２隔壁とを親液化する第４プラズマ照射ステップを含むことを特徴とする請求項１４に記載の発光装置の製造方法。
前記第２撥液化ステップは、前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域にのみＣＦ _４プラズマを照射して、前記各第１隔壁の少なくとも前記中央を含む領域を撥液化する第５プラズマ照射ステップを含むことを特徴とする請求項１４に記載の発光装置の製造方法。
前記第５プラズマ照射ステップは、プラズマジェットを局所的に放出するスポット型のプラズマ照射装置から前記ＣＦ _４プラズマを含む前記プラズマジェットを放出させながら、該プラズマ照射装置を前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域に沿って移動させて、前記各第１隔壁の少なくとも上記中央を含む領域に前記ＣＦ _４プラズマを照射することを特徴とする請求項１６に記載の発光装置の製造方法。