JP2011014229A - プラズマ処理中にワークピースを支持する装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ処理システムのプロセス空間の内側に、同時に複数のワークピースを支持する装置及び方法により解決する。装置は、プロセス空間の内部に支持されるべく構成されたキャリアプレートを有し、キャリアプレートの厚みを貫通する複数の第1の開口部を有する取付具である。キャリアプレートは、外側周辺縁部にて環状領域に載せてそれぞれのワークピースに接触すべく構成され、ワークピースの第1及び第2の面は、前記複数の第1の開口部のそれぞれ1つを通してプラズマに暴露される。
【選択図】図1
Description
Claims (15)
- プラズマチャンバの内側に複数のワークピースを支持して、該ワークピースの第1の面と第2の面とを同時にドライエッチングするために使用される装置であって、該装置は、
プロセス空間の中に支持されるように構成された取付具を備え、前記取付具は、キャリアプレートと、前記キャリアプレートの厚みを貫通する複数の第1の開口部とを具備し、
前記キャリアプレートは、それぞれのワークピースが外側周辺縁部にて環状領域に載って接触すべく構成され、それぞれのワークピースにおけるほぼすべての第1の面及び第2の面がプラズマに暴露されるようにすることを特徴とする装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記キャリアプレートは、前記キャリアプレートの厚みに沿って延在する一以上の第2の開口部を具備し、前記一以上の第2の開口部はプラズマを発生させるために使用されるプロセスガスを通過させるようになっていることを特徴とする装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記キャリアプレートは、平坦な第1の表面と、平坦な第2の表面と、前記平坦な第1の表面のまわりに延在し、前記平坦な第1の表面に対して持ち上げられた外側リムとを具備し、前記外側リムは一以上の外側縁部を有し、前記平坦な第2の表面に対して、90度を越える挟角をもつ斜面を具備していることを特徴とする装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記キャリアプレートは、平坦な表面を具備し、前記複数の第1の開口部によって打ち抜かれ、複数の環状表面は、前記複数の第1の開口部のうちそれぞれ1つのまわりにそれぞれ延び、それぞれの前記複数の環状表面は、前記平坦な表面に対して傾斜していることを特徴とする装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記キャリアプレートは、複数の環状唇部を具備し、それぞれが、それぞれ1つのワークピースにおける外側周辺縁部にて環状領域によって接触し、それぞれの前記複数の環状唇部は、前記複数の前記第1の開口部のそれぞれ1つの円周に延び、それぞれの前記環状唇部は、前記平坦な表面から、それぞれ1つの前記環状表面によって分離されていることを特徴とする装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
それぞれの前記第1の複数の開口部は、丸くて、ワークピースの直径に比べてわずかに小さい直径を有していることを特徴とする装置。 - プラズマチャンバの内側に複数のワークピースを支持して、ワークピースの第1の面と第2の面とを同時にドライエッチングするために使用される装置であって、該装置はプラズマチャンバの中に支持されるべく構成された取付具を具備し、前記取付具はキャリアプレートと、前記キャリアプレートから外方に突出した複数の支柱とを有し、それぞれの前記支柱は、前記キャリアプレートに取り付けられる第1の部分を有し、前記第1の部分は、それぞれ1つのワークピースを延通する中央開口部に接触することで、それぞれ1つのワークピースを支持すべく構成されていることを特徴とする装置。
- 請求項7に記載の装置であって、
前記第1の部分は、フランジを具備し、外側リムと、前記外側リムから半径方向内方へ延びる第1の環状表面とを備え、前記第1の環状表面に、それぞれのワークピースにおける環状部分が接触することを特徴とする装置。 - 請求項8に記載の装置であって、
前記第1の部分における前記フランジは、前記第1の環状表面から半径方向内方へ延びる第2の環状表面を具備し、前記第2の環状表面は、前記第1の環状表面に対して上昇し、ワークピースにおける中央開口部の直径とおおよそ等しい外径を有していることを特徴とする装置。 - 請求項8に記載の装置であって、
前記支柱は、前記キャリアプレートから係脱される第2の部分を具備し、前記第2の部分は前記第1の部分における前記フランジ上に配置されるようになっているフランジを有し、それぞれのワークピースにおける環状部分は、前記第1の部分における前記フランジと、前記第2の部分における前記フランジとの間に配置されることを特徴とする装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
それぞれの前記複数の支柱は、電気絶縁体から構成されていることを特徴とする装置。 - プラズマチャンバの内部において複数のワークピースの第1の面と第2の面とを同時にドライエッチングするための方法であって、該方法は、
プラズマチャンバの内部にて、第1の電極と第2の電極との間にワークピースを支持する工程であって、それぞれのワークピースにおける第1の面と第2の面とが実質的に被覆されていない、上記ワークピースを支持する工程と、
プラズマチャンバの内部にプラズマを発生させる工程と、
それぞれのワークピースにおける被覆されていない第1の面と第2の面とを同時にプラズマに暴露させて、ドライエッチングを実行する工程と、
を備えていることを特徴とする方法。 - 請求項12に記載の方法であって、
前記方法において、ワークピースを第1の電極と第2の電極との間に支持する工程が、
ワークピースを、キャリアプレートにおける複数の第1の開口部の中に装填する工程であって、一方、それぞれのワークピースの環状領域を外側周辺縁部のまわりに接触させる、上記装填する工程と、
キャリアプレートとワークピースとを組立体として、プラズマチャンバの中へ移動させる段階であって、プラズマチャンバは、プラズマをプロセス空間内に発生させて閉じ込めるように構成されている、上記移動する工程と、
第1の電極と第2の電極との間のプロセス空間内に、キャリアプレートとワークピースとを支持する工程と、
を備えていることを特徴とする方法。 - 請求項13に記載の方法であって、
前記方法において、プラズマがプロセスガスから発生し、さらに、
キャリアプレートの厚みを貫通する一以上の第2の開口部に通してプロセスガスを輸送する工程、
を備えていることを特徴とする方法。 - 請求項12に記載の方法であって、前記方法において、それぞれのワークピースが、第1の面と第2の面との間に延びる中央開口部を具備し、第1の電極と第2の電極との間にワークピースを支持する方法であって、
それぞれのワークピースにおける中央開口部のまわりの周囲に延びる環状領域を、第1の電極から外方へ延びる支柱に接触させる工程、
を備えていることを特徴とする方法。
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