JPH10324980A - 両面エッチング装置用電極装置 - Google Patents
両面エッチング装置用電極装置Info
- Publication number
- JPH10324980A JPH10324980A JP13704597A JP13704597A JPH10324980A JP H10324980 A JPH10324980 A JP H10324980A JP 13704597 A JP13704597 A JP 13704597A JP 13704597 A JP13704597 A JP 13704597A JP H10324980 A JPH10324980 A JP H10324980A
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- Japan
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- electrode
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Abstract
(57)【要約】
【課題】開口を有する基板を汚すことなく能率良く両面
エッチング処理できる電極装置を提供すること及びその
処理時に該基板を損傷せずに保持し得る電極装置を提供
すること 【解決手段】ハードディスク等の面内に開口１５を有す
る基板６を、その開口を上下１対の電極９、１０で挟持
して両面をエッチングする装置に於いて、該１対の電極
の該基板への電力導入に必要な表面以外でプラズマに晒
される表面を、アルミナ等のスパッタイールドの低い材
料で被覆２０した。上下１対の電極のうちの上部の電極
を、バネ１３により下部の電極の方向へ弾発して略一定
の力で基板を挟持した。
エッチング処理できる電極装置を提供すること及びその
処理時に該基板を損傷せずに保持し得る電極装置を提供
すること 【解決手段】ハードディスク等の面内に開口１５を有す
る基板６を、その開口を上下１対の電極９、１０で挟持
して両面をエッチングする装置に於いて、該１対の電極
の該基板への電力導入に必要な表面以外でプラズマに晒
される表面を、アルミナ等のスパッタイールドの低い材
料で被覆２０した。上下１対の電極のうちの上部の電極
を、バネ１３により下部の電極の方向へ弾発して略一定
の力で基板を挟持した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクの
ように面内に開口を有する基板の両面をエッチングする
ための電極装置に関する。
ように面内に開口を有する基板の両面をエッチングする
ための電極装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、図１に示したような面内に開口ａ
を有するハードディスクの基板ｂの両面にエッチングを
施す装置は、特開平７−２３３４８４号公報に於いて公
知である。この公報所載の装置は、図２に見られるよう
に、回転テーブルの搬送装置ｃを備えた真空室ｄと連通
させて上方にエッチング室ｅが設けられており、該エッ
チング室内で上下１対の電極ｆ、ｇにより基板ｂの開口
ａ部分を保持し、該電極を介して給電されるエッチング
電力により該基板の両面をエッチングするようになって
いる。これの上部の電極ｆは固定されており、下部の電
極ｇは下方から搬送装置ｃを挿通して昇降し、該電極ｇ
の台盤状の上端で基板ｂの中心部を支えて該搬送装置ｃ
上から上部の電極ｆに当接するまで昇降させる。基板ｂ
は、その開口ａ部分がエッチング室ｅ内で上下の電極
ｆ、ｇに挟持され、エッチングガス圧を調整しこれらの
電極に電力を供給すると、接地されたアース電極ｈとの
間で放電を生じ、該基板ｂの両面が同時にエッチングさ
れる。ｉ、ｉは電極ｆ、ｇ及び給電ロッドｋの周囲を覆
うアースシールドである。
を有するハードディスクの基板ｂの両面にエッチングを
施す装置は、特開平７−２３３４８４号公報に於いて公
知である。この公報所載の装置は、図２に見られるよう
に、回転テーブルの搬送装置ｃを備えた真空室ｄと連通
させて上方にエッチング室ｅが設けられており、該エッ
チング室内で上下１対の電極ｆ、ｇにより基板ｂの開口
ａ部分を保持し、該電極を介して給電されるエッチング
電力により該基板の両面をエッチングするようになって
いる。これの上部の電極ｆは固定されており、下部の電
極ｇは下方から搬送装置ｃを挿通して昇降し、該電極ｇ
の台盤状の上端で基板ｂの中心部を支えて該搬送装置ｃ
上から上部の電極ｆに当接するまで昇降させる。基板ｂ
は、その開口ａ部分がエッチング室ｅ内で上下の電極
ｆ、ｇに挟持され、エッチングガス圧を調整しこれらの
電極に電力を供給すると、接地されたアース電極ｈとの
間で放電を生じ、該基板ｂの両面が同時にエッチングさ
れる。ｉ、ｉは電極ｆ、ｇ及び給電ロッドｋの周囲を覆
うアースシールドである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の両面エッチ
ング装置に於ける電極ｆ、ｇは、導電性の良い銅等の材
料で製作されており、その先端部をテーブル状に形成し
てその前面を電力供給のために基板ｂに接触させている
が、それ以外の電極の露出部がエッチング時のプラズマ
に晒されると、該電極の材料がプラズマに叩かれて放出
され基板ｂの表面に付着し、基板ｂを汚す不都合が見ら
れた。これを防止すべく基板ｂに接触する部分以外をア
ースシールドすることを試みたが、効果はなかった。ま
た、該電極ｆ、ｇを、ステンレスやアルミナのスパッタ
イールドの低い材料で製作していたが、電力導入効率が
低下し、エッチング速度が遅くなって基板処理効率がダ
ウンする欠点があった。更に、上方の電極ｆは、固定状
態で設けられていたので、下方の電極ｇとの間の基板の
挟持力の制御が困難で、下方の電極ｇの上昇力で基板ｂ
を破損する不都合があった。
ング装置に於ける電極ｆ、ｇは、導電性の良い銅等の材
料で製作されており、その先端部をテーブル状に形成し
てその前面を電力供給のために基板ｂに接触させている
が、それ以外の電極の露出部がエッチング時のプラズマ
に晒されると、該電極の材料がプラズマに叩かれて放出
され基板ｂの表面に付着し、基板ｂを汚す不都合が見ら
れた。これを防止すべく基板ｂに接触する部分以外をア
ースシールドすることを試みたが、効果はなかった。ま
た、該電極ｆ、ｇを、ステンレスやアルミナのスパッタ
イールドの低い材料で製作していたが、電力導入効率が
低下し、エッチング速度が遅くなって基板処理効率がダ
ウンする欠点があった。更に、上方の電極ｆは、固定状
態で設けられていたので、下方の電極ｇとの間の基板の
挟持力の制御が困難で、下方の電極ｇの上昇力で基板ｂ
を破損する不都合があった。
【０００４】本発明は、開口を有する基板を汚すことな
く能率良く両面エッチング処理できる電極装置を提供す
ること及びその処理時に該基板を損傷せずに保持し得る
電極装置を提供することを目的とするものである。
く能率良く両面エッチング処理できる電極装置を提供す
ること及びその処理時に該基板を損傷せずに保持し得る
電極装置を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明では、ハードディ
スク等の面内に開口を有する基板を、その開口を上下１
対の電極で挟持して両面をエッチングする装置に於い
て、該１対の電極の該基板への電力導入に必要な表面以
外でプラズマに晒される表面を、アルミナ等のスパッタ
イールドの低い材料で被覆することにより、上記の目的
を達成するようにした。該上下１対の電極のうちの下部
の電極を、下部給電ロッドの上端に上記開口に進入して
基板を支える台盤を設けて構成し、上部の電極を、上部
ロッドの下端に逆皿型でその口縁が該開口の周囲に当接
して該台盤との間に基板を挟持する抑え盤を設けて構成
し、該台盤及び該抑え盤の各背面を上記スパッタイール
ドの低い材料で被覆すると、上記目的を的確に達成で
き、更に、該上部の電極を、バネにより下部の電極の方
向へ弾発して略一定の力で基板を挟持することにより、
基板を損傷させずに保持できる。
スク等の面内に開口を有する基板を、その開口を上下１
対の電極で挟持して両面をエッチングする装置に於い
て、該１対の電極の該基板への電力導入に必要な表面以
外でプラズマに晒される表面を、アルミナ等のスパッタ
イールドの低い材料で被覆することにより、上記の目的
を達成するようにした。該上下１対の電極のうちの下部
の電極を、下部給電ロッドの上端に上記開口に進入して
基板を支える台盤を設けて構成し、上部の電極を、上部
ロッドの下端に逆皿型でその口縁が該開口の周囲に当接
して該台盤との間に基板を挟持する抑え盤を設けて構成
し、該台盤及び該抑え盤の各背面を上記スパッタイール
ドの低い材料で被覆すると、上記目的を的確に達成で
き、更に、該上部の電極を、バネにより下部の電極の方
向へ弾発して略一定の力で基板を挟持することにより、
基板を損傷させずに保持できる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
き説明すると、図３に於いて、符号１は基板ホルダー２
を載せて回転する搬送装置３を内部に設けた真空室を示
し、該真空室１の上方に開閉するシャッター４を介して
エッチング室５が設けられる。該基板ホルダー２は２枚
の基板６の周縁を係止して保持する貫通孔７を備えてお
り、該搬送装置３の該貫通孔７と対応した位置に電極挿
通孔８を形成した。該基板６は、図１に示したものと同
様の面内に開口を有しており、該エッチング室５内に運
び込まれて上下１対の電極９、１０に挟持された状態で
両面にエッチングされる。
き説明すると、図３に於いて、符号１は基板ホルダー２
を載せて回転する搬送装置３を内部に設けた真空室を示
し、該真空室１の上方に開閉するシャッター４を介して
エッチング室５が設けられる。該基板ホルダー２は２枚
の基板６の周縁を係止して保持する貫通孔７を備えてお
り、該搬送装置３の該貫通孔７と対応した位置に電極挿
通孔８を形成した。該基板６は、図１に示したものと同
様の面内に開口を有しており、該エッチング室５内に運
び込まれて上下１対の電極９、１０に挟持された状態で
両面にエッチングされる。
【０００７】該上部の電極９は、上部ロッド９ａの下端
に図４に明示したように、良導体製の逆皿型の抑え盤９
ｂをネジ９ｃで取り付け、該ロッド９ａの周囲をアース
シールド９ｄで覆って構成され、支柱１１に固定した受
け金具１２にバネ１３を介して挿通した延長ロッド２１
に該ロッド９ａを取り付けした。該バネ１３により該電
極９は、下部の電極１０の方向へ弾発される。１４は絶
縁材である。
に図４に明示したように、良導体製の逆皿型の抑え盤９
ｂをネジ９ｃで取り付け、該ロッド９ａの周囲をアース
シールド９ｄで覆って構成され、支柱１１に固定した受
け金具１２にバネ１３を介して挿通した延長ロッド２１
に該ロッド９ａを取り付けした。該バネ１３により該電
極９は、下部の電極１０の方向へ弾発される。１４は絶
縁材である。
【０００８】該下部の電極１０は、銅等の良導体で形成
された下部給電ロッド１０ａの上端に基板６の開口１５
に進入する丘部を形成した台盤１０ｂをネジ１０ｃで取
り付け、該ロッド１０ａの周囲をアースシールド１０ｄ
で覆って構成され、該ロッド１０ａ及びアースシールド
１０ｄの下端を外部のシリンダ（図示してない）により
昇降される電力導入ロッド１６の上端に連結した。該電
力導入ロッド１６はフレキシブルメタル１７を介してエ
ッチング電源に接続され、該電力導入ロッド１６の内部
には冷却水が循環される。１８は絶縁材である。
された下部給電ロッド１０ａの上端に基板６の開口１５
に進入する丘部を形成した台盤１０ｂをネジ１０ｃで取
り付け、該ロッド１０ａの周囲をアースシールド１０ｄ
で覆って構成され、該ロッド１０ａ及びアースシールド
１０ｄの下端を外部のシリンダ（図示してない）により
昇降される電力導入ロッド１６の上端に連結した。該電
力導入ロッド１６はフレキシブルメタル１７を介してエ
ッチング電源に接続され、該電力導入ロッド１６の内部
には冷却水が循環される。１８は絶縁材である。
【０００９】これらの電極９、１０は、抑え盤９ｂ及び
台盤１０ｂが基板６と接触する面を介してエッチング電
力を供給し、該抑え盤９ｂ、台盤１０ｂの背面はプラズ
マに晒されることになるが、電力導入に必要でないこれ
らの背面にスパッタされにくい材料即ちアルミナ、石英
等のスパッタイールドの低い材料で被覆２０し、プラズ
マに晒されてもこれらの背面からのスパッタ物質の放出
が抑制されるようにした。その被覆の方法は、溶射、塗
布等任意である。１９はアース電極である。
台盤１０ｂが基板６と接触する面を介してエッチング電
力を供給し、該抑え盤９ｂ、台盤１０ｂの背面はプラズ
マに晒されることになるが、電力導入に必要でないこれ
らの背面にスパッタされにくい材料即ちアルミナ、石英
等のスパッタイールドの低い材料で被覆２０し、プラズ
マに晒されてもこれらの背面からのスパッタ物質の放出
が抑制されるようにした。その被覆の方法は、溶射、塗
布等任意である。１９はアース電極である。
【００１０】下部の電極１０は、搬送装置３の下方から
電極挿通孔８、貫通孔７及び開いたシャッター４を介し
て上昇し、その途中で台盤１０ｂ上に基板６を載せ、上
部の電極９の抑え盤９ｂとの間で基板６を挟持する。該
上部の電極９はバネ１３により支持されており、このバ
ネ１３の力を基板６を損傷しない程度に調整しておけ
ば、下部の電極１０の上昇停止位置を制御するだけで基
板６を損傷せずに両電極９、１０間に挟持できる。
電極挿通孔８、貫通孔７及び開いたシャッター４を介し
て上昇し、その途中で台盤１０ｂ上に基板６を載せ、上
部の電極９の抑え盤９ｂとの間で基板６を挟持する。該
上部の電極９はバネ１３により支持されており、このバ
ネ１３の力を基板６を損傷しない程度に調整しておけ
ば、下部の電極１０の上昇停止位置を制御するだけで基
板６を損傷せずに両電極９、１０間に挟持できる。
【００１１】図示の場合、下部の電極１０で開いたシャ
ッター４を介して基板６がエッチング室５に搬入され上
部の電極９との間に基板６が挟持されると、シャッター
４が閉じて該エッチング室５内のエッチング雰囲気を調
整し、エッチング電力が電極１０ａを介して基板６に供
給され、該基板６の両面付近には、上部アース電極２２
とシャッター４との放電によりプラズマが発生し、イオ
ンがその両面をエッチングする。両電極９、１０は、電
力導入に差し障りがなくプラズマに晒される表面をスパ
ッタイールドの低い材料で被覆２０されているから、プ
ラズマ中に両電極の物質が放出されることを抑制でき、
これに伴い両電極９、１０にスパッタイールドの低い材
料を使用する必要がなくなって銅などの良導体を使用で
きるから、基板６への電力の導入効率が向上し、エッチ
ング速度が早くなり、電源設備も安価になる。エッチン
グの終了後、電力の供給が止められ、シャッター４が開
き、下部の電極１０が降下して基板６を基板ホルダー２
上へ戻す。
ッター４を介して基板６がエッチング室５に搬入され上
部の電極９との間に基板６が挟持されると、シャッター
４が閉じて該エッチング室５内のエッチング雰囲気を調
整し、エッチング電力が電極１０ａを介して基板６に供
給され、該基板６の両面付近には、上部アース電極２２
とシャッター４との放電によりプラズマが発生し、イオ
ンがその両面をエッチングする。両電極９、１０は、電
力導入に差し障りがなくプラズマに晒される表面をスパ
ッタイールドの低い材料で被覆２０されているから、プ
ラズマ中に両電極の物質が放出されることを抑制でき、
これに伴い両電極９、１０にスパッタイールドの低い材
料を使用する必要がなくなって銅などの良導体を使用で
きるから、基板６への電力の導入効率が向上し、エッチ
ング速度が早くなり、電源設備も安価になる。エッチン
グの終了後、電力の供給が止められ、シャッター４が開
き、下部の電極１０が降下して基板６を基板ホルダー２
上へ戻す。
【００１２】
【発明の効果】以上のように本発明によるときは、面内
に開口を有する基板を挟持する上下１対の電極に、基板
への電力導入に必要な表面以外でプラズマに晒される表
面をスパッタイールドの低い材料で被覆したので、基板
が電極の構成物質で汚染されることがなく、電極を良導
体で製作できるから電力導入効率を向上させ得られ、電
源設備が安価になり、上部の電極をバネを介して支えた
ので、簡単な構成で基板を損傷することなく電極間に挟
持できる等の効果がある。
に開口を有する基板を挟持する上下１対の電極に、基板
への電力導入に必要な表面以外でプラズマに晒される表
面をスパッタイールドの低い材料で被覆したので、基板
が電極の構成物質で汚染されることがなく、電極を良導
体で製作できるから電力導入効率を向上させ得られ、電
源設備が安価になり、上部の電極をバネを介して支えた
ので、簡単な構成で基板を損傷することなく電極間に挟
持できる等の効果がある。
【図１】基板の斜視図
【図２】従来例の断面図
【図３】本発明の実施の形態を示す断面図
【図４】図３の要部の拡大断面図
５ エッチング電極、６ 基板、９・１０ 電極、９ａ
上部ロッド、９ｂ 抑え盤、１０ａ 下部給電ロッ
ド、１０ｂ 台盤、１３ バネ、１５ 開口、２０被
覆、
上部ロッド、９ｂ 抑え盤、１０ａ 下部給電ロッ
ド、１０ｂ 台盤、１３ バネ、１５ 開口、２０被
覆、
Claims (3)
- 【請求項１】ハードディスク等の面内に開口を有する基
板を、その開口を上下１対の電極で挟持して両面をエッ
チングする装置に於いて、該１対の電極の該基板への電
力導入に必要な表面以外でプラズマに晒される表面を、
アルミナ等のスパッタイールドの低い材料で被覆したこ
とを特徴とする両面エッチング装置用電極装置。 - 【請求項２】上記上下１対の電極のうちの下部の電極
を、下部給電ロッドの上端に上記開口に進入して基板を
支える台盤を設けて構成し、上部の電極を、上部給電ロ
ッドの下端に逆皿型でその口縁が該開口の周囲に当接し
て該台盤との間に基板を挟持する抑え盤を設けて構成
し、該台盤及び該抑え盤の各背面を上記スパッタイール
ドの低い材料で被覆したことを特徴とする請求項１に記
載の両面エッチング装置用電極装置。 - 【請求項３】上記上下１対の電極のうちの上部の電極
を、バネにより下部の電極の方向へ弾発して略一定の力
で基板を挟持したことを特徴とする請求項１に記載の両
面エッチング装置用電極装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13704597A JPH10324980A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | 両面エッチング装置用電極装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13704597A JPH10324980A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | 両面エッチング装置用電極装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10324980A true JPH10324980A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15189589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13704597A Withdrawn JPH10324980A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | 両面エッチング装置用電極装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10324980A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009102705A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Hitachi Ltd | プラズマエッチング装置及び磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 |
| US10026436B2 (en) | 2009-07-01 | 2018-07-17 | Nordson Corporation | Apparatus and methods for supporting workpieces during plasma processing |
-
1997
- 1997-05-27 JP JP13704597A patent/JPH10324980A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009102705A (ja) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Hitachi Ltd | プラズマエッチング装置及び磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 |
| US10026436B2 (en) | 2009-07-01 | 2018-07-17 | Nordson Corporation | Apparatus and methods for supporting workpieces during plasma processing |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040803 |