JPS6185628A - ディスクキャリアとデータ記憶用ディスクの製造方法 - Google Patents

ディスクキャリアとデータ記憶用ディスクの製造方法

Info

Publication number
JPS6185628A
JPS6185628A JP60168481A JP16848185A JPS6185628A JP S6185628 A JPS6185628 A JP S6185628A JP 60168481 A JP60168481 A JP 60168481A JP 16848185 A JP16848185 A JP 16848185A JP S6185628 A JPS6185628 A JP S6185628A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
disk
opening
carrier
disc
center
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60168481A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0551970B2 (ja
Inventor
ロナルド・アレン
ツ・チエン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
WD Media LLC
Original Assignee
Komag Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Komag Inc filed Critical Komag Inc
Publication of JPS6185628A publication Critical patent/JPS6185628A/ja
Publication of JPH0551970B2 publication Critical patent/JPH0551970B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本弁明はディスクドライブ等の記憶H置のために使用さ
れるディスクの製造技術に関し、持にディスクの両面に
磁性体を被るする工程の際、一方の面がら他プjの面に
向cノで磁11体が通過することなくディスクの両面に
磁性体を同時に被着し得るような、ディスクの製′)^
に用いられるディスクキャリアに関する。
〈従来の技術〉 ディスクドライブ等の装置に用いられる記憶ディスクの
製)4は周知の技術である。そのようなディスクを製造
するに際して、アルミニウム等からなる適当なH) +
、iの両面に、情報を記憶するための磁気媒体を被着す
る。この被着工程は通常スパッタリングにより行われる
。スパッタリングを行うに際して、ディスクの両面の側
に垂直電極を設置し、ディスクの両面に対して同時に被
着を行うことが知られている。
このような被着工程に於ては、2つのことが起きる。第
1に、一方の電極からスパッタされた祠利が、ディスク
を通過して他方の電(セを汚染する場合かある。その結
果、ターゲット(即ら電極)上に粒子か形成され、該粒
子が後に剥離してディスクにイ」看することとなり、磁
気媒体の組成を変化さけ、ディスクの表面に不純物の領
域を形成する。第2に、一方の電極から発生したプラズ
マが、他方の電4セから発生したプラズマと干渉するこ
とにより、磁気媒体かディスクの各面に均一に被着8れ
るのを妨げる場合がある。ディスクの両面に磁気媒体を
同11.1に被着する際に発生するこれらの2つの現象
を防止するためには、一方の電極が他りの電(伽から完
全に遮蔽されていなければならない。
磁気媒体をディスクの表面に被着する際には、テ゛イス
クキVリアか一般的に用いられている。ディスクキャリ
アは、磁気媒体等かスパッタされることとなるディスク
の表面に苅して影を形成り°るらのてあってはなら4f
い。また、キャリアは、大またはロボットにより、ディ
スクを容易に装着しjnるもの°Cなければならない。
従来技術に基づくデ、(スクキ髪lす)7ににれば、1
(・リアの」二面とディスクとの間に空隙が形成される
ため、被着工程の際に相互汚染やプラズマの干渉が発生
するのを完全には回避することかできなかった。
〈問題点を解決するための手段〉 本発明によれば、大またはロボットにより容易にディス
クを装着1−ることができ、しかもディスクの一方の面
に磁性体を被着するための一方の電極から発生したプラ
ズマの一部か他)jの電極に対して干渉したり、ディス
クの表面に影を形成したり、或いはディスクの両面間の
相互汚染が発生ずるのを防止し得るようなディスクキャ
リアが提供される。
本発明に基づくディスクキャリアは、ディスクを受容す
るだめの少なくとも一つの開口をイラしている。この開
口は、ディスクを装着した時に、ディスクの上側の外周
面と開口の上側の内周面とか互いに一致匁るように形成
されている。一般に、ディスクの外周面の端縁には面取
りかなされている。ディスクキャリアの開口の下側内周
面には、V )(’t ′Sか形成8”れてJ3す、プ
゛イスクかぞの面取りされた端縁をもって支承されるこ
ととなる。
本発明によれば、■溝は他の形状を右するチャンネルか
らなるものであって良く、また面取りされたディスクの
外周面を支承し得るように開口の下側部分に間隔をおい
て設りられた三つのピン等からなるピン構造であっても
良い。
キ(・リアの開口の上側の内周面に隣接づる部分か窪ん
でJ′3つ、ディスクを開口に装着する際に、ディスク
の表面がキャリアに接触することのないようにされてい
る。窪みの深さは、キャリアの中心面からディスクの厚
さの約半分に、装着装置の精度に依存する所定の公差(
或る実施例に於ては+0.005インチ〜0.010イ
ンチ、即ち十0.127mm〜0.254mm)を加え
たものからなっている。
窪みの背部のキャリアの部分は、ディスクが開口に装着
された時に、ディスクの端縁に略接する状態に市る。デ
ィスクの上側端縁に隣接するキャリアの部分にシシリら
れたiTみ(、J、、一方の電(へを他ブjの電(〜か
ら分団1し、しかし、ディスクの表面かキャリアに接触
りることなく、ディスクをキレリ)7に装るし得るよう
にするためのものである。
〈作用〉 本発明に基づくディスクキャリアは、一体面な部材から
なり、何等の可動部品を4=iシていない。
可動部品を不要としたために、ディスクをキャリアに整
合させる8貧かなく、異物の発生を防止しかつセットア
ツプ時間を短縮することが可能となる。
本発明の一部として、ディスクの中心部の開口に装着さ
れるべき特殊なプラグが提供される。このプラグは、粒
子を発生さけることのなくディスクを強固に保持すると
共に、スパッタリング過程の間にディスクが行う熱膨圧
を吸収する動きを有している。スパッタリング過程に際
して、プラグはディスク上でぐらつくことがなく、ディ
スクが膨圧した場合でも脱落することがない。
〈実施例〉 以下、本発明の好適実施例を添付の図面について詳しく
説明する。
第1図は、本発明に基づくキャリア100の全体を、キ
(・リア本体101の開口102にディスク110@装
着した状態にて示す斜視図である。
スパッタリングのターゲット、即ら電4々131.13
2が、キャリア100に装着されたディスク110の両
面に対向する位置に公知のようにして設置されている。
第1図に示されているように、キャリア100は開口1
02を有するキャリア本体101を有しており、開口1
02は中心線106を中心とする円形をなしている。デ
ィスク110は、UD口102内にその内周面に接触す
るように装着される。
開口102の上側部分の周囲には、キャリア本体101
の一部か除去されることにより窪み104か形成され、
該窪みの外周部103は円形をなりとJ(に、ディスク
102の而と中心線107の交点を中心とりる部分円形
をなしている。窪み104は、キャリア本体101を貫
通することなく部分的に堀下げられているのみてあって
、ディスク110は、その両面が本体キャリア101に
接触することなく、垂直な姿勢にてキャリア100内に
保持されるようになっている。
本発明の一つの!18徴として、ディスク110のいず
れの面もキャリア本体101に接触することなく、人手
またはロボットによりディスク110をキャリア100
に装着しくqるように、窪み104が形成されている。
ディスク110がキャリア本体101に接触すると微粒
子が形成され、ディスクの表面が汚染される。このよう
な粒子は、ディスク110の両面に形成された磁気媒体
中の欠陥部分となる(第1図)。本発明に基づくディス
クキャリア本体101は、このような粒子や引掻き傷等
の発生を防止するように32.TIされており、製造さ
れるディスクの品質を向上させることができる。窪み1
04の深さは、開口102に挿入されるディスク110
の外周面がかろうじてディスクキ℃・リアに当接づるよ
うに定められている。
第2a図及び第2b図は、本発明に基づくデイスフキャ
リアの一実施例の正面図及び背面図を示づ。
第2a図に示されているように、キャリア本体101の
開口102は、中心106の廻りに半径R1をfJTる
ように設(プられでいる。第2a図及び第2b図に於い
て破線により示されるように、満108が、開口102
の内周端面の底部を中心とづる150’の範囲(開口1
02の底部109bの両方向に各75°の範囲)に亘っ
て設(ブられでいる。溝108の長さは重要でなく、デ
ィスクを保持づるために充分な長さであれば良い。
開口102の周縁部の残りの部分には、窪み104か8
2けられている。図示された実施例に於ては、窪み10
4は、中心106を通過する垂直な?l’径R1の両側
に各105°の範囲に口って、開口102の上側の周縁
部に設けられている。キャリアの中心面は、ディスク1
10をキ髪・リアに垂直に装着した時に、ディスクの両
面に対して平行をなす面として定められる。窪み104
の外周103は、中心107を中心として半径R2の円
弧により定められる。中心107は、中心106に対し
てオフレットされており、そのオフセット早は、51/
4インヂデイクを製造する本実施例に於ては、例えば5
.0#(0,1969インヂ)であって良い。
このように、窪み104を形成するために2つのオフセ
ットされた中心を有する円弧を用いることは、本発明の
キャリアの製造を容易にする。窪み104は、キャリア
本体101の開口102の周縁部103のうちの上側部
分109aを、キャリア本体101の前面から所定の深
さで除去することにより形成される。一般に、この深さ
は、キャリアに装着されたディスクの中心面から窪み1
04の底面までの距離が、ディスクの厚さの半分に0.
127mm(0,005インチ)の公差を加えた値に等
しくなるように定めると良く、このように定めることに
より、ディスクをキ!・リアに装着し或いは取外すとき
にディスクの背面がディスクキャリアに接触することが
ない。またこの深さは、窪み104の底面が、所定の公
差内でディスクの背面と整合するように定められている
本発明の或る実施例によれば、開口102の底部109
bに、60’の角度を有するV溝108(第3a図)が
、約1.53m(0,060インチ)の深さにて設けら
れている。■溝108の底部、即ち頂点とキャリア本体
101の前面101fとの距離は約1.53mm(0,
060インチ)である。
第3a図は端縁部の実施例を詳細に示す断面図でおる。
第3a図に於て、■溝301は周端縁部102から約1
.53mm(0,060インチ)の深さに設りられてお
り、■溝300の中心301どキ(・リア本体の前面3
01fとの間の間隔は約1.53mm(0,060イン
チ)である。V+S300 LL (:30 ’の角度
をなす二つの面302a、302bを(Iし、これらの
各面は垂直方向に対してそれぞれ30’の角度をなして
いる。開口102の表側端縁301 fは約1.53m
m(0,060インI−)の幅に亘って垂直方向に対し
て10度の面取りかなされ−cd′3つ、開口102の
裏側端縁3O1bは約0.25インチに口って垂直方向
に対して10度の面取りがなされている。
ディスクの下端部をキ【7リア内に保持するための手段
としては、上記以外のものも用い得ることは云うまでも
ない。例えば第3C図に示されているように、ディスク
の底部をキャリア内に適切に保持するために、キ(・リ
アの前面に装着された2本もしくはそれ以上の数のピン
を用いることもできる。
ディスクに対するキャリア本体101の位置関係が第3
b図の側面図に一層詳しく示されている。
第3b図は、少なくとも二枚のディスク110−1.1
10−2を保持し得るキャリア301の2つの開口を示
す断面図である。ディスク110−1.110−2の面
取りされた端縁部が、それぞれ対応する開口102−1
.102−2の底部のViM300−1.300−2に
支承される。
窪み104−1.104−2も明瞭に図示されており、
各ディスク110−1.110−2の中心か対応Jる中
心線106−1,106−2よりヤ゛艷F側に位回ツる
ようにして、各ディスク110・−1,110−2が、
対応する開口102−1.102−2にH−iされ、次
いて各ディスクか対応’R51HIrl 102−1.
102−2のItL部(1) V Ws 300−1,
300−2内に下される。窪み104−1及び窪み10
4−2の底面10/4−1b、104−2bは、それぞ
れディスクの厚さの半分に所定の公差を加えた深さを有
している。ディスクの中心面とは、ディスクの二つの面
がら等距離に位置づる点の集合として与えられる面であ
る。窪み104−1.104−2の深さは、ディスクが
第3b図に示されたように、キャリア内に垂直に保持さ
れた時にこの中心面から測定される。
第3a図に示されたV溝に代えて、第3C図に示された
ようなピン4M造を用いることもできる。
ディスク110−1は、その面取りされた端縁320−
1か/7ランプ312のステップ状の窪み311に支承
されることにより保持されている。クランプ312は、
ねじ313等の締結手段によりキ(・リア本体314に
取着され°Cいる。クランプ312の四角形の突出部3
15は、ディスク110−1の一方の而と同一面上の面
を右してa3す、キャリア本体314の上端部はディス
クの他方の面と同一な而を有し、これら両面の間にディ
スク110か保持される。
第4図は、6枚のディスクを保持しくqるように6つの
開口102−1〜102−6を有ツるキャリアを示して
いる。第4図に示されたキャリアは、6枚の磁気ディス
クの両面を同時にスパッタするために用いることができ
る。キャリア本体101に設りられた開口102−1〜
102−6は、それぞれ第1図、第2a図、第2b図、
第3a図或いは第3b図に示されたものであって良い。
本発明によれば、各開口102の上端には、例えばディ
スク110の表面がキャリア301に接触することのな
いようにキャリア本体に凹J2された窪み104を有し
ている。ロボットは表面から100マイクロインチの位
置で停止し1qるものであるために、このようなキャリ
アがロボツi〜を用いる装着工程のために好適である。
これにより、ディスクの表面の品質をj[1うような粒
子の発生を防止づることかできる。
また、ディスクに隣接するキャリアの表面は、ぞの表面
に対して10’以下の面取りがなされているため、キャ
リアの開口の周縁部の表面かディスクの表面に対する影
を形成することかない。
各開口102の上側に設けられた窪み104は二つの機
能を右している。第1に、ディスクの両面を相互に汚染
することなく、かつ互いに干渉を起こすことなく磁気媒
体を被着するために必要な分離作用を発揮し、第2に、
ディスクの表面がキャリアに接触することなくディスク
をキ(・リアに装着し得る働きを覆る。
公スロ技術によれば、ディスクを装着するための開口は
、ディスクよりも大さな直径をわしていた。
(のため、ディスクの周端縁と開口の内周面との間に形
成される環状の空隙により、プラズマが相互に干渉し、
相互汚染か発生ずるという問題があった。そこで、ディ
スクがキャリアに装着された後に、ディスクの上部に形
成される環状の空隙を閉じ得るように可動ゲートを設け
ることが提案されたが、二つの部材を相対的に運動させ
ることにより、ディスクの表面に被るされる磁気媒体を
汚染するような粒子が発生するという問題があった。
またこの種の形式のキャリアは製造が困難であり、当然
コストが高Hをするという問題があった。
そこで本発明に基づくディスクキャリアは、可動部材を
有しない単一の部材からなり、ディスクを容易に装着す
ることができ、しかも相互汚染やプラズマの干渉を起こ
さないように、ディスクをキャリア内に自動的に整合さ
ゼることかできる。
また、本発明に基づくディスクキャリアは、可動部材を
有する従来形式のキャリアに比べて、fBINコストか
低いという利点がある。単一の部材からなるキャリアを
用いることによりディスクをキ17リアに対して整合す
る必要性を解消し、キャリアの製造コスト及びディスク
に磁気媒体を被着する工程のコストを低減し、可動部材
の必要性を解消する口とができる。
第5a図から第5d図までは、ブラズンがデイスフの中
心孔を一方の側から他プjの側に向LJ T通過りるの
を防]lするために、ディスクの中心にに右方るための
中心プラグ500の一実施例を示しでいる1、7ラグは
、ディスクの開1]を閉塞するぽかりでなく、ディスク
を取扱い、運搬し、キャリア本体101に装着する際の
ノブ叩らハンドルとして機能Jることかてきる(第」図
)。
第5a図に示されたように、中心1ラグ500の第1の
部分501は、ばねワイア503からなる三角形のばね
手段を内部に有している。ばねワイア503は、該ばね
ワイア503を保持すると共にディスク110の内周面
の外側ストッパとして機能する環状突部509の内面に
保持されている。プラグ500の第1の部分501の内
面の中心部には、円筒形のノブ505aか突設され、該
ノブ505aのJ!!2端面が環状突部509の遊端面
と同一平面上に位置している。
第5b図に示されているように、プラグ500の第2の
部分502に設けられた中心突部504は、ばねワイア
503により形成される三角形内に1■?3され、ぽね
ワイア503が突部504の外周面506に向Cノで圧
接される。突部504の中心部に穿設された円筒形孔5
05bは、円筒形のノブ505aを受容するための6の
である。
第5C図に示されているように、中心突部504はテー
パーの(=Jけられた外周面506を有し、第1の部分
502の本体部に隣接する突部504の基端部の直径d
1が、突部50’lのVi端部の直径d2よりも小さく
定められでいる。従って、ばねワイア503は、プラグ
の第1の部分502をプラグの第2の部分501に向け
て付勢する動きをする。
しかしながら、スパッタリング過程の際に温度上昇によ
りディスク110(第5d図)の厚さがが、熱膨張によ
り増大するに伴い、プラグ500は、ディスク110に
従って膨服しなければならない。従って、両部会501
.502は互いに離反する向きに付勢されるが、ばねワ
イア503はプラグ504の外周面506に沿って小径
部から大径部に向けてIg動することとなる。しかしな
がら1ラク500は、ディスク110の中心孔内に緊密
に1■合し続け、ディスク110の熱膨張に従って変位
りるにし拘らず、汚染の原因となる粒子を発生すること
かない。ばねワイア503が表面506に)(1つて摺
動するに伴い発生する粒子は、ディスクの中心孔に隣接
するディスクの両面に緊密にクランプされたプラグ50
0により、ディスク110の中心孔内に密閉されること
となる。従って、プラグはディスク上でがたつくことが
なく、ディスクが膨IQシた場合でもディスクから11
1(落覆ることかない1゜ 第5d図に示されているように部分502,501の外
側に外向突設されたノブ状の突部508a、508bは
、プラグが装着されたディスクを大またはロボットによ
りキャリアに装着し或いはキVす7/から取外まための
しのである。
第6a図から第6d図は、本発明に基づきスパッタリン
グ過程の間に各記憶ディスクの中心部に)4(’i す
るための中心プラグ500の第2の実施例を示している
第6a図に示されているように、中心プラグ500の第
1の部分601は、プラグの内部にて、円形の環状突部
609を形成しでいる。突部609は、ばね手段604
を保持すると共に、ディスク110の内周面のための外
側ストッパの動きをする。ばね手段604は、環状突部
609内に於て、部分601の直径六向に長い長円形を
なしている。
また、第6b図に示されたプラグ500の第2の部分6
02に突設されlこ中心突部605が、ばね手段603
にJ、り形成される長円形の内部に10;合するように
、ばね手段604の形状が定められてJ5す、第6C図
に示されているようにワイア603が、突部605の外
周面607に圧接されるように’c>つている。突部6
05の中間部分は、テーバのイ償プられlこ外周面60
7をなしてdプリ、突部605の基端部606の直径d
4が、突部605のj#:部の1径d3よりも小さく定
められている。
従って、ばね手段604は、プラグの第2の部分602
をプラグの第1の部分601に向()てイ」勢する(へ
)さをづる。第6d図に示されたノブ状の突部608及
び608bは、両部会602及び601のそれぞれ外側
に向けて突出していることから、プラグにクランプされ
たディスクを、人手またはロホットにより、キ1ノリア
100に装−?j?し或いはキャリアから取外すために
用いることかできる。
実用に際して4J、第4図に示されたJ、うに複数の開
口を有するキャリアに、複数のディスクを同口信こ装着
し、ディスクに装召されたこれらのディスクのすべての
表面に磁気媒体を同時にスパッタすることができる。
以上、本発明の好適実施例について説明したが、上記の
説明から本発明の他の実施例・し自ずと明らかになると
思う。特に、ばね503及び突部504の上記した形状
に代えて他の形状を用いたプラグの実施例も上記の説明
から自ずと明らかであると思う。
【図面の簡単な説明】
第1図は記憶ディスクの両面に磁気媒体を同時にスパッ
タするために用いられる本発明に基づくディスクキ1ノ
リアの斜視図でおる。 第2a図及び第2b図は、ディスクが装着された状態で
あってその開口部に偏心的に形成された窪みを右づる本
発明に基づくディスクキ!・リアの正面図及び背面図で
ある。 第3a図及び第3b図は、−1−X・リアの聞(」の底
部にて、各ディスクの面取りされた端縁部を支承するた
めに、対向するキャリア本体の内周面に凹設されたV溝
と、キャリアの各開口の上部に設けられた窪みとを有づ
る、少なくとも2枚のディスクを装着可能なキャリアの
実施例を示g断面図である。 第3C図は、キャリアの開[1部の底面にディスクの面
取りされた端縁部を支承するための別の実施例としての
ピン構造を示す断面図である。 第4図は、各ディスクの両面に磁気媒体を同時にスパッ
タするために、複数のディスクを保持し得る大型のキャ
リアに形成された複数の開口を示づ。 第5a図〜第5d図は、本発明に基づきスパッタ過程を
行う際に、各記憶ディスクの中心部に装着づるための中
心プラグの一実施例を示す。 第6a図〜第6d図は、本発明に基づきスパッタ過程を
行う際に、各記憶ディスクの中心部に装るするための中
心プラグの別の実施例を示す。 ”+00・・・キャリア  101・・・キ(lリア本
体102・・・開口    103・・・外周面104
・・・窪み    106・・・中心108・・・満 
    109b・・・底部1′10・・・ノイスク 
 こ311・・・窪み312・・・クランプ  313
・・・ねじ314・・・キャリア  315・・・突部
320・・・端縁    500・・・プラグ501.
502・・・部分503・・・は゛ねワイア505 a
・・・ノブ   506・・・外周面509・・・環状
突部  508a、508 b・・・突部600・・・
プラグ   601.602・・・部分604・・・ば
ね手段  605・・・突部606・・・基端部   
6Q7・・・外周面608・・・突部    609・
・・環状突部特許出願人  コマラグ・インコーホレイ
テッド代 理 人  弁理士 大  島  陽  −口
面の、召1ニー白、・、−二変更なし)FIG−1 FIG、−イ FIG、−2o。 FIG、+ 2b。 FIG、、5a         FIG、−5b。 FIG、−5c、         FIG、−5dF
IG、−6σ        hυ−6ムFIG−6c
        FIG、−6d(方式・自 発) 手続補正用 昭和60年10月2月」 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 昏 1、事件の表示 昭和60年特許願第168481号 2、発明の名称 ディスクキャリツノ 3、補正をする者 事イ1−との関係  特許出願人 名 称     コマラグ・インコーホレイテッド4、
代理人

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)磁性体等の材料を被着するための2つの平坦な表
    面を有するディスクを、該ディスクの前記表面に接触す
    ることなく保持するためのキャリアであって、 平板と、前記ディスクの直径よりも僅かに小さい直径を
    有しかつ前記平板の第1の中心の廻りに形成された第1
    の開口と、前記第1の開口の周縁部の一部のみに沿つて
    前記第1の開口よりも僅かに大さな直径をもって前記平
    板に該平板を貫通することなく形成された第2の開口と
    を備え、前記第2の開口が、前記第1の中心に対して或
    る距離オフセットした第2の中心の廻りに形成され、か
    つ前記第1の開口の周縁部の一部に沿って形成された窪
    みをなすことにより、 前記第1の開口と概ね等しい直径を有するディスクを、
    その面が前記キャリアに接触することなく前記第1の開
    口内に設置し得るようにし、同時に、前記ディスクの表
    面に磁性体等を被着するときに、前記ディスクの各面に
    対向する位置に設けられた電極間の相互汚染及び相互干
    渉を防止し得るように前記ディスクの周縁部に直接的に
    隣接する部材を残すようにしてなることを特徴とするデ
    ィスクキャリア。
  2. (2)前記第2の開口により窪まされていない第1の開
    口の周端部に、前記ディスクの端縁を保持するための手
    段を備えていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    に記載のディスクキャリア。
  3. (3)前記第1の開口の窪まされていない部分に隣接す
    る端縁が面取りされていることにより、磁性体等を被着
    する際に影となる領域を形成しないようにしてなること
    を特徴とする特許請求の範囲第2項に記載のディスクキ
    ャリア。
  4. (4)前記窪みが、前記第1の開口の周縁部の第1の選
    択された部分に設けられ、ディスクを保持するための前
    記手段が、前記第1の開口の周端部の残りの領域の一部
    に形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第3
    項に記載のディスクキャリア。
  5. (5)一つのキャリアに複数の第1及び第2の開口が設
    けられていることにより、複数のディスクの両面に同時
    に磁性体等を被着し得るようにしてなることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項乃至第4項のいずれかに記載の
    ディスクキャリア。
  6. (6)ディスクの中心部に係着するためのプラグであっ
    て、 第1の部分と第2の部分とを有し、前記第1の部分が、
    前記第2の部分に形成された突出部を把持するためのば
    ね手段を有し、前記第2の部分が面取りされた面を有し
    、前記ばね手段が前記面取り面に圧接されることにより
    、前記第2の部分を前記第1の部分に向けて接近する向
    きに付勢可能であることを特徴とするプラグ。 (7〉人またはロボットにより把持されるべき突出部が
    、前記第1及び第2の部分の外面から突出していること
    を特徴とする特許請求の範囲第5項に記憶のプラグ。
JP60168481A 1984-08-21 1985-07-30 ディスクキャリアとデータ記憶用ディスクの製造方法 Granted JPS6185628A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/642,853 US4595481A (en) 1984-08-21 1984-08-21 Disk carrier
US642853 1984-08-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6185628A true JPS6185628A (ja) 1986-05-01
JPH0551970B2 JPH0551970B2 (ja) 1993-08-04

Family

ID=24578318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60168481A Granted JPS6185628A (ja) 1984-08-21 1985-07-30 ディスクキャリアとデータ記憶用ディスクの製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4595481A (ja)
EP (1) EP0177073B1 (ja)
JP (1) JPS6185628A (ja)
DE (1) DE3579880D1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011014229A (ja) * 2009-07-01 2011-01-20 Nordson Corp プラズマ処理中にワークピースを支持する装置及び方法

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4634512A (en) * 1984-08-21 1987-01-06 Komag, Inc. Disk and plug
US4790921A (en) * 1984-10-12 1988-12-13 Hewlett-Packard Company Planetary substrate carrier method and apparatus
US4735540A (en) * 1985-11-15 1988-04-05 Komag, Inc. Robotic disk handler system
EP0222459A3 (en) * 1985-11-15 1989-08-23 Komag, Inc. Robotic disk handler system and method
US5042423A (en) * 1988-12-20 1991-08-27 Texas Instruments Incorporated Semiconductor wafer carrier design
US4880518A (en) * 1989-03-27 1989-11-14 Intelmatec Corporation Disk carrier
JPH0449523A (ja) * 1990-06-18 1992-02-18 Denki Kagaku Kogyo Kk 磁気記録媒体の製造法及びその装置
US5089110A (en) * 1990-07-30 1992-02-18 Komag, Incorporated Data storage disk and plug
US5244555A (en) * 1991-11-27 1993-09-14 Komag, Inc. Floating pocket memory disk carrier, memory disk and method
US5891311A (en) * 1997-06-25 1999-04-06 Intevac, Inc. Sputter coating system and method using substrate electrode
JP4059549B2 (ja) * 1997-09-20 2008-03-12 キヤノンアネルバ株式会社 基板支持装置
US6147960A (en) * 1998-03-06 2000-11-14 Wolfer; Dave Rotatable handling system and method for handling memory storage disks
US6135316A (en) * 1998-03-06 2000-10-24 Wolfer; Dave Memory storage media disk duplication system having a reciprocating disk dispenser
US6123020A (en) * 1998-03-13 2000-09-26 Wolfer; David Printer and disk dispenser combination
US6782544B2 (en) 1998-06-01 2004-08-24 Microboards Technology, Llc Memory storage disk handling system having a servo-driven elevator pin
US6337842B1 (en) 1998-06-01 2002-01-08 Microboards Technology, L.L.C. Disk handling system having a telescoping elevator pin
US7032232B2 (en) * 1998-06-01 2006-04-18 Microboards Technology, Llc Memory storage disk handling system
US6528124B1 (en) * 2000-12-01 2003-03-04 Komag, Inc. Disk carrier
US6843892B1 (en) 2002-02-19 2005-01-18 Seagate Technology Llc Apparatus and method for selectively and controllably electrically biasing a plurality of substrates on a pallet
US6886244B1 (en) 2002-02-25 2005-05-03 Seagate Technology Llc Segmented pallet for disk-shaped substrate electrical biassing and apparatus comprising same
US6793302B2 (en) 2002-03-22 2004-09-21 Microboards Technology, Llc In-line marking system
US7052739B2 (en) 2002-05-09 2006-05-30 Maxtor Corporation Method of lubricating multiple magnetic storage disks in close proximity
US7027246B2 (en) 2002-05-09 2006-04-11 Maxtor Corporation Method for servo pattern application on single-side processed disks in a merged state
TWI229324B (en) * 2002-05-09 2005-03-11 Maxtor Corp Method of simultaneous two-disk processing of single-sided magnetic recording disks
US7600359B2 (en) 2002-05-09 2009-10-13 Seagate Technology Llc Method of merging two disks concentrically without gap between disks
US7083871B2 (en) 2002-05-09 2006-08-01 Maxtor Corporation Single-sided sputtered magnetic recording disks
US7367773B2 (en) 2002-05-09 2008-05-06 Maxtor Corporation Apparatus for combining or separating disk pairs simultaneously
US7165308B2 (en) 2002-05-09 2007-01-23 Maxtor Corporation Dual disk transport mechanism processing two disks tilted toward each other
US7748532B2 (en) 2002-10-10 2010-07-06 Seagate Technology Llc Cassette for holding disks of different diameters
US7168153B2 (en) 2002-10-10 2007-01-30 Maxtor Corporation Method for manufacturing single-sided hard memory disks
US8172954B2 (en) 2002-10-10 2012-05-08 Seagate Technology Llc Apparatus for simultaneous two-disk scrubbing and washing
US7083502B2 (en) 2002-10-10 2006-08-01 Maxtor Corporation Method for simultaneous two-disk texturing
US7083376B2 (en) 2002-10-10 2006-08-01 Maxtor Corporation Automated merge nest for pairs of magnetic storage disks
US7390362B2 (en) * 2002-10-15 2008-06-24 Microboards Llc Thermal printer
US7063746B2 (en) * 2002-10-15 2006-06-20 Microbroads Technology, Llc In-line marking system
US6887313B2 (en) 2002-10-15 2005-05-03 Microboards Technology, Llc In-line marking system
US7150790B2 (en) * 2002-10-15 2006-12-19 Microboards Technology, Llc In-line marking system
US7682653B1 (en) 2004-06-17 2010-03-23 Seagate Technology Llc Magnetic disk with uniform lubricant thickness distribution
US7882616B1 (en) 2004-09-02 2011-02-08 Seagate Technology Llc Manufacturing single-sided storage media
CN111833473B (zh) * 2020-07-27 2022-04-29 江苏电子信息职业学院 一种企业管理用考勤管理机

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2527184C3 (de) * 1975-06-18 1981-07-02 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Vorrichtung zur Herstellung von Targets für Kathodenzerstäubung
US4141811A (en) * 1978-04-24 1979-02-27 Atlantic Richfield Company Plasma etching process for the manufacture of solar cells
US4222839A (en) * 1978-09-21 1980-09-16 Motorola, Inc. Workpiece holder and method for plasma reactor apparatus
US4247781A (en) * 1979-06-29 1981-01-27 International Business Machines Corporation Cooled target disc for high current ion implantation method and apparatus
JPS5643158U (ja) * 1979-09-11 1981-04-20
US4473455A (en) * 1981-12-21 1984-09-25 At&T Bell Laboratories Wafer holding apparatus and method
GB2119236A (en) * 1982-03-26 1983-11-16 Philips Electronic Associated Magazine and disc holders for supporting discs in the magazine
JPS58169762A (ja) * 1982-03-30 1983-10-06 Internatl Precision Inc 電子線装置
US4424096A (en) * 1982-12-23 1984-01-03 Western Electric Co., Inc. R-F Electrode type workholder and methods of supporting workpieces during R-F powered reactive treatment
US4500407A (en) * 1983-07-19 1985-02-19 Varian Associates, Inc. Disk or wafer handling and coating system
DE3411208A1 (de) * 1984-03-27 1985-10-10 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Haltevorrichtung fuer substrate, insbesondere in vakuum-beschichtungsanlagen

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011014229A (ja) * 2009-07-01 2011-01-20 Nordson Corp プラズマ処理中にワークピースを支持する装置及び方法

Also Published As

Publication number Publication date
US4595481A (en) 1986-06-17
JPH0551970B2 (ja) 1993-08-04
DE3579880D1 (de) 1990-10-31
EP0177073A3 (en) 1987-03-25
EP0177073B1 (en) 1990-09-26
EP0177073A2 (en) 1986-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6185628A (ja) ディスクキャリアとデータ記憶用ディスクの製造方法
US4634512A (en) Disk and plug
US6528124B1 (en) Disk carrier
EP1630261B1 (en) Substrate holder for a vapour deposition system
US4735701A (en) Disk carrier
JPH04276071A (ja) 陰極スパッタリング装置で基板を被覆するためのスパッタカソード
JPH033744B2 (ja)
JPH0731811B2 (ja) フロート式メモリディスクキャリアプレートとメモリディスクの製造方法
JPH03101206A (ja) スパッタ装置
JPH11350134A (ja) 扁平な基体をつかみかつ保持する装置
TW200905000A (en) Sputtering system and method for depositing thin film
JPH04324176A (ja) ディスクカートリッジ
TWI221288B (en) Substrate exchanging method of film formation apparatus for circular plate shape, substrate exchanging mechanism and shielding mask used in the method, and manufacturing method of disc-shaped recording medium using the method
TW588349B (en) Disk-like substrate sputtering device, substrate chucking method in the device, method of producing disk-like recording medium using the device
JP3024625B2 (ja) ディスクカートリッジ
JP4082566B2 (ja) 円板状部材保持装置
EP1496135A1 (en) Spattering device, method of forming thin film by spattering, and method of manufacturing disk-like recording medium using the device
JPS61235562A (ja) マグネトロンスパツタ装置
JP2564984Y2 (ja) 円板状記録媒体製造用マスク装置
JP3080320B2 (ja) 光ディスク用ハブ
JPH10144028A (ja) ディスク状記録媒体
JP2758210B2 (ja) ディスクカートリッジ
JPH10309757A (ja) ディスク成形品の反り防止保持構造
JP2682117B2 (ja) 情報記録装置
JPH07278806A (ja) スパッタ用ターゲット