JPH11350134A - 扁平な基体をつかみかつ保持する装置 - Google Patents

扁平な基体をつかみかつ保持する装置

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JPH11350134A
JPH11350134A JP11092469A JP9246999A JPH11350134A JP H11350134 A JPH11350134 A JP H11350134A JP 11092469 A JP11092469 A JP 11092469A JP 9246999 A JP9246999 A JP 9246999A JP H11350134 A JPH11350134 A JP H11350134A
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JP
Japan
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casing
gripper
vertical axis
recesses
gripping
Prior art date
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Pending
Application number
JP11092469A
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English (en)
Inventor
Michael Koenig
ケーニッヒ ミヒャエル
Johannes Beul
ボイル ヨハネス
Stefan Bangert
バンゲルト シュテファン
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Leybold Systems GmbH
Original Assignee
Leybold Systems GmbH
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G47/00Article or material-handling devices associated with conveyors; Methods employing such devices
    • B65G47/74Feeding, transfer, or discharging devices of particular kinds or types
    • B65G47/90Devices for picking-up and depositing articles or materials

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Gripping On Spindles (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基体を真空室の内部及び外部で極めて迅速に
かつ特別に確実につかみかつ保持し得るようにする。 【解決手段】 ケーシング(3)が少なくとも部分的に
保持体(10)によって遊びをもって取り囲まれてい
る。保持体(10)と、それによって取り囲まれている
ケーシング部分(9)との間に、弾性材料から成る分配
して配置されたエレメント(13)が設けられている。
これらのエレメントは、一面ではその一方の半部をケー
シング部分(9)の凹所(11)内に位置させており、
他面ではその他方の半部を、これらの凹所(11)と向
き合う保持体(10)の凹所(12)内に位置させてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、中央の開口を有す
る扁平な、殊に円板形の基体、例えばコンパクトディス
クをつかみかつ保持する装置であって、ケーシング内に
支承されている複数のグリッパから成っており、その際
グリッパは、ケーシングの、ケーシングの垂直軸に対し
て横方向のグリッパの運動を許容する凹所内で、保持さ
れかつ案内されており、その際グリッパにはその都度磁
石が不動に配置されており、これらの磁石は、ケーシン
グ内の中央で磁石の上方に設けられている電磁石と協働
し、この電磁石の磁界軸線はケーシングの垂直軸と合致
しており、この電磁石は、磁石を備えたグリッパを電磁
石(16)の極性化に応じて2つのストッパの間で往復
に動かす形式のものに関する。
【0002】
【従来の技術】真空処理技術−特に薄層技術−において
は、磁気的なあるいは磁気光学的なデータ担体のための
円板形の基体、例えばガラス円板又はアルミニウム円板
を被覆することが公知である。これらの円板形の基体は
デジタル情報のための貯蔵媒体として広範囲に使用され
る。溶射プロセスにおいては、例えば圧刻されたプラス
チック円板がアルミニウム層で被覆される。このために
使用される溶射被覆装置は大抵は、真空室の前、中及び
後ろに基体を搬送するための自動化された取り扱い装置
を有している。
【0003】バッファーから、例えば取り扱い装置の旋
回アームが基体を真空室内に搬送する。真空室内では次
いで基体は回転皿の上に載せられ、回転皿と共に真空室
の個々のステーションを通して動かされる。回転皿に基
体を載せ、かつ回転皿から基体を取り外すために、従来
技術では、基体をつかみかつ保持する多数の装置が公知
である。
【0004】従来は真空室内では大抵は、真空内しゅう
動機構によって真空室の外部から操作されるグリッパが
使用された。
【0005】これらの公知の装置の欠点は、装置が大抵
は過度に多くの動かされる部分を有していて、しゅう動
機構内の滑り運動によって不都合な粒子が生ぜしめら
れ、これらの粒子は後で被覆室内に達して、被覆結果に
不都合な結果を及ぼすことである。更に、このようなし
ゅう動機構においては、大抵は特定の運転時間の後に、
シールの摩滅が確認され、この摩滅は常に真空室の漏え
いが生じ、ひいては時間及び費用がかかる修理を必要と
する。
【0006】したがって既に、扁平な、殊に円板形の基
体をつかみかつ保持する装置が提案されており(G 93 0
7 263.5)、この装置は大体において、複数のフィンガ
形のグリッパと、抗圧ケーシングに配置された開口を閉
鎖する弾性材料から成るダイヤフラムとから成ってお
り、その際ダイヤフラムの前側及び後ろ側に互いに異な
った圧力を生ぜしめることができ、かつダイヤフラムは
次のように、すなわち圧力差が作用せしめられた場合に
ダイヤフラムがその休止位置から変位しかつ圧力が同じ
場合には押しばねによって再びその休止位置にもどされ
るように、配置されており、その際グリッパはその都度
その一方の端部をダイヤフラムと機械的に結合されてい
て、グリッパはその他方の自由端部をもって、基体をつ
かみかつ保持し若しくは解放するためにダイヤフラムの
変位に対して比例的に旋回運動を行う。
【0007】また、コンパクトディスクをつかみかつ保
持する装置が公知であり(DE 195 29 945)、この装置
はケーシング内で傾動可能に支承されている複数のフィ
ンガ形のグリッパから成っており、その際グリッパはケ
ーシングの頭部部分の、ケーシングの縦軸線に対して横
方向の軸線を中心とするグリッパの傾動運動を可能にす
る開口又は貫通口内で保持されかつ案内されており、そ
の際すべてのグリッパの傾動軸線は1つの平面内で延び
ていて、一緒になってケーシング縦軸線を取り囲む四角
形を形成しており、その際グリッパの基体とは逆の側の
端部にはその都度磁石が配置されており、これらの磁石
は、ケーシング内で磁石の上方に設けられている電磁石
と協働し、この電磁石の磁界軸線はケーシングの縦軸線
と合致しており、この電磁石は、磁石を備えたグリッパ
端部を電磁石の極性化に応じて2つのストッパの間で往
復に動かす。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、基体
を真空室の内部及び外部で極めて迅速にかつ特別に確実
につかみかつ保持することが可能な装置を提供すること
である。更にこの装置が基体の供給の際のわずかな不均
一性及び不正確さを補償し、ひいては敏感な基体の損傷
を回避するように、保持されかつ案内されているように
する。
【0009】この課題を解決するために本発明の構成で
は、ケーシングが少なくとも部分的に、中央の開口を有
する保持体によって、遊びをもって取り囲まれており、
その際保持体と、保持体によって取り囲まれているケー
シング部分との間に、弾性材料から成る分配して配置さ
れたエレメントが設けられており、これらのエレメント
は、一面ではその都度その一方の半部をケーシング部分
の凹所内に位置させており、かつ他面ではその都度その
他方の半部を、これらの凹所と向き合う保持体の凹所内
に位置させており、グリッパのための凹所は、ケーシン
グ垂直軸に対して横方向の平面内で半径方向で外方に向
かって延びており、その際グリッパはそれぞれ2つの脚
部を有しており、これらの脚部のその都度一方は滑りシ
ューを形成して凹所内で保持されかつ半径方向にしゅう
動可能に案内されており、他方の脚部は一方の脚部に対
して直角にかつケーシング垂直軸に対して平行に下方に
向かって延びていて、その自由端部に、基体の中央の開
口の縁部をつかむためのノッチを備えているようにし
た。
【0010】
【発明の実施の形態】以下においては図面に基づいて本
発明の実施の形態を説明する。
【0011】装置のケーシング3は中央に開口を有して
おり、この開口内に円板形の部分7が挿入されており、
この円板形部分7には半径方向に延びる3つの溝又は凹
所4が形成されている。
【0012】凹所4内にはグリッパ5(5′,5″,
5″′)がしゅう動可能に支承されており、その際各グ
リッパ5は2つの脚部5a、5bを有しており、これら
の脚部のその都度一方5bは滑りシューとして構成され
ていて、その上面に磁石6を備えている。溝4はケーシ
ング3の垂直軸Hに対して横方向に、それも半径方向に
延びており、その際図示の実施例の場合には全部で3つ
のスリット形の溝又は凹所4が120°の角度間隔で設
けられている。溝4が形成されている円板形部分7は、
磁石コイル16を取り囲むコップ形のケーシング部分8
と一緒につば形のケーシング部分9内に保持されてお
り、その際円板形部分7とコップ形ケーシング部分8と
つば形ケーシング部分9とがケーシング3を形成してお
り、このケーシングは保持体10によって取り囲まれて
おり、この場合保持体10とつば形ケーシング部分9と
の間には遊びSが残されている。つば形ケーシング部分
9と保持体10との間には、保持体10の開口17の範
囲において円周に沿って分配されて球冠形の凹所11が
つば形ケーシング部分9に、またこれらの凹所11とそ
の都度向き合うようにやはり球冠形の凹所12が保持体
10に設けられている。それぞれ互いに向き合っている
各対の凹所11,12内には弾性材料から成る球形のエ
レメント13が挿入されており、その際すべてのエレメ
ント13が一緒になってケーシング3を保持体10に係
止しており、これによってケーシング3は保持体10に
対してわずかな旋回運動若しくは傾動運動を行うことが
できる。
【0013】ケーシング3の継鉄を形成するコップ形ケ
ーシング部分8内には、磁石コイル16が配置されてい
て、鉛直に延びるピン19に差しはめられており、その
際ピン19は1つのストッパaを形成しており、このス
トッパaに、装置が解離位置にある場合に、3つのグリ
ッパ5′,5″,5″′が接触する。図1の一部分を拡
大して示した図3においては、グリッパ5は締め付け位
置にあり、その際グリッパ5の鉛直の脚部5b若しくは
そのノッチ18は基体14若しくはCDの中央の開口1
5の縁部をつかんでおり、したがってCDを搬送装置の
保持体10のアーム状の部分によって持ち上げて搬送す
ることができる。締め付け位置においては、それぞれ水
平に延びている脚部5bと固く結合されている棒磁石6
は、円板形ケーシング部分7に形成されているストッパ
bに接触している。
【0014】図1に示すように、ケーシング3のつば形
ケーシング部分9は、つば形ケーシング部分9が真空室
壁21の開口20を閉鎖し若しくはこの開口20を解放
することによって、真空開閉機構を形成している。グリ
ッパ5は閉鎖位置では真空範囲内にあるのに対し、磁石
コイル16は大気側にとどまっている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による装置の、図2の断面線に沿った縦
断面図である。
【図2】図1に示した装置の下面図である。
【図3】図1の縦断面図の一部分の拡大図である。
【符号の説明】
3 ケーシング、 4 溝(凹所) 5,5′,5″,
5″′ グリッパ、5a及び5b 脚部、 6 磁石
(棒磁石)、 7 円板形部分、 8 コップ形ケーシ
ング部分、 9 つば形ケーシング部分、 10 保持
体、 11及び12 凹所、 13 球形のエレメン
ト、 14 基体、 15 開口、 16磁石コイル、
17 開口、 18 ノッチ、 19 ピン、 20
開口、21 真空室壁、 a及びb ストッパ、 H
垂直軸、 S 遊び
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シュテファン バンゲルト ドイツ連邦共和国 シュタイナウ ザイデ ンローター シュトラーセ 6

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中央の開口(15)を有する扁平な、殊
    に円板形の基体(14)、例えばコンパクトディスクを
    つかみかつ保持する装置であって、ケーシング内に支承
    されている複数のグリッパ(5)から成っており、その
    際グリッパ(5)は、ケーシング(3)の、ケーシング
    (3)の垂直軸(H)に対して横方向のグリッパ(5)
    の運動を許容する凹所(4)内で、保持されかつ案内さ
    れており、その際グリッパ(5)にはその都度磁石
    (6)が不動に配置されており、これらの磁石は、ケー
    シング(3)内の中央で磁石(6)の上方に設けられて
    いる電磁石(16)と協働し、この電磁石の磁界軸線は
    ケーシング(3)の垂直軸(H)と合致しており、この
    電磁石は、磁石(6)を備えたグリッパ(5)を電磁石
    (16)の極性化に応じて2つのストッパ(a、b)の
    間で往復に動かす形式のものにおいて、ケーシング
    (3)が少なくとも部分的に、中央の開口(17)を有
    する保持体(10)によって、遊びをもって取り囲まれ
    ており、その際保持体(10)と、保持体(10)によ
    って取り囲まれているケーシング部分(9)との間に、
    弾性材料から成る分配して配置されたエレメント(1
    3)が設けられており、これらのエレメントは、一面で
    はその都度その一方の半部をケーシング部分(9)の凹
    所(11)内に位置させており、かつ他面ではその都度
    その他方の半部を、これらの凹所(11)と向き合う保
    持体(10)の凹所(12)内に位置させており、グリ
    ッパ(5)のための凹所(4)は、ケーシング垂直軸
    (H)に対して横方向の平面内で半径方向で外方に向か
    って延びており、その際グリッパ(5)はそれぞれ2つ
    の脚部(5a、5b)を有しており、これらの脚部のそ
    の都度一方(5b)は滑りシューを形成して凹所(4)
    内で保持されかつ半径方向にしゅう動可能に案内されて
    おり、他方の脚部(5a)は一方の脚部(5b)に対し
    て直角にかつケーシング垂直軸(H)に対して平行に下
    方に向かって延びていて、その自由端部に、基体(1
    4)の中央の開口(15)の縁部をつかむためのノッチ
    (18)を備えていることを特徴とする、扁平な基体を
    つかみかつ保持する装置。
  2. 【請求項2】 中央の開口(15)を有する扁平な、殊
    に円板形の基体(14)、例えばコンパクトディスクを
    つかみかつ保持する装置であって、ケーシング内に支承
    されている複数のグリッパ(5)から成っており、その
    際グリッパ(5)は、ケーシング(3)の、ケーシング
    (3)の垂直軸(H)に対して横方向のグリッパ(5)
    の運動を許容する凹所(4)内で、保持されかつ案内さ
    れており、その際グリッパ(5)にはその都度磁石
    (6)が不動に配置されており、これらの磁石は、ケー
    シング(3)内の中央で磁石(6)の上方に設けられて
    いる電磁石(16)と協働し、この電磁石の磁界軸線は
    ケーシング(3)の垂直軸(H)と合致しており、この
    電磁石は、磁石(6)を備えたグリッパ(5)を電磁石
    (16)の極性化に応じて2つのストッパ(a、b)の
    間で往復に動かす形式のものにおいて、ケーシング
    (3)が少なくとも部分的に、中央の開口(17)を有
    する保持体(10)によって、遊びをもって取り囲まれ
    ており、その際保持体(10)と、保持体(10)によ
    って取り囲まれているケーシング部分(9)との間に、
    弾性材料から成る分配して配置されたエレメント(1
    3)が設けられており、これらのエレメントは、一面で
    はその都度その一方の半部をケーシング部分(9)の凹
    所(11)内に位置させており、かつ他面ではその都度
    その他方の半部を、これらの凹所(11)と向き合う保
    持体(10)の凹所(12)内に位置させていることを
    特徴とする、扁平な基体をつかみかつ保持する装置。
  3. 【請求項3】 中央の開口(15)を有する扁平な、殊
    に円板形の基体(14)、例えばコンパクトディスクを
    つかみかつ保持する装置であって、ケーシング内に支承
    されている複数のグリッパ(5)から成っており、その
    際グリッパ(5)は、ケーシング(3)の、ケーシング
    (3)の垂直軸(H)に対して横方向のグリッパ(5)
    の運動を許容する凹所(4)内で、保持されかつ案内さ
    れており、その際グリッパ(5)にはその都度磁石
    (6)が不動に配置されており、これらの磁石は、ケー
    シング(3)内の中央で磁石(6)の上方に設けられて
    いる電磁石(16)と協働し、この電磁石の磁界軸線は
    ケーシング(3)の垂直軸(H)と合致しており、この
    電磁石は、磁石(6)を備えたグリッパ(5)を電磁石
    (16)の極性化に応じて2つのストッパ(a、b)の
    間で往復に動かす形式のものにおいて、グリッパ(5)
    のための凹所(4)が、ケーシング垂直軸(H)に対し
    て横方向の平面内で半径方向で外方に向かって延びてお
    り、その際グリッパ(5)はそれぞれ2つの脚部(5
    a、5b)を有しており、これらの脚部のその都度一方
    (5b)は滑りシューを形成して凹所(4)内で保持さ
    れかつ半径方向にしゅう動可能に案内されており、他方
    の脚部(5a)は一方の脚部(5b)に対して直角にか
    つケーシング垂直軸(H)に対して平行に下方に向かっ
    て延びていて、その自由端部に、基体(14)の中央の
    開口(15)の縁部をつかむためのノッチ(18)を備
    えていることを特徴とする、扁平な基体をつかみかつ保
    持する装置。
JP11092469A 1998-04-02 1999-03-31 扁平な基体をつかみかつ保持する装置 Pending JPH11350134A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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DE19814834.8 1998-04-02
DE19814834A DE19814834A1 (de) 1998-04-02 1998-04-02 Vorrichtung zum Greifen und Halten eines flachen Substrats

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US (1) US6317406B1 (ja)
EP (1) EP0963930A3 (ja)
JP (1) JPH11350134A (ja)
CN (1) CN1239063A (ja)
DE (1) DE19814834A1 (ja)
TW (1) TW450928B (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4181703B2 (ja) * 1999-09-02 2008-11-19 キヤノン株式会社 光電変換装置
NL1015690C2 (nl) * 2000-07-12 2002-01-15 Otb Group Bv Sluis voor vacu³mkamer.
JP2002239850A (ja) * 2001-02-19 2002-08-28 Murata Mfg Co Ltd ハンドリング装置およびこのハンドリング装置を用いた部品組立装置
EP1630260B1 (en) * 2004-08-20 2011-07-13 JDS Uniphase Inc. Magnetic latch for a vapour deposition system
DE102004059342B4 (de) * 2004-11-27 2006-12-21 Schunk Gmbh & Co. Kg Fabrik Für Spann- Und Greifwerkzeuge Greif- oder Spannvorrichtung
DE102005005805B3 (de) * 2005-02-09 2006-08-24 Kuhnke Gmbh Greifvorrichtung
US7810109B2 (en) * 2006-08-09 2010-10-05 Primera Technology Inc. Compact disc picker
KR100829923B1 (ko) * 2006-08-30 2008-05-16 세메스 주식회사 스핀헤드 및 이를 이용하는 기판처리방법
CN106637141B (zh) * 2017-01-20 2019-08-27 广东爱康太阳能科技有限公司 一种太阳能电池镀膜石墨舟片及石墨舟

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE9307263U1 (ja) 1993-05-13 1993-07-22 Leybold Ag, 63450 Hanau, De
DE9309935U1 (de) * 1993-07-03 1993-09-02 Leybold Ag Vorrichtung zum Halten und Transportieren von Substraten
DE19529537A1 (de) * 1995-08-11 1997-02-13 Leybold Ag Vorrichtung zum Greifen und Halten eines flachen Substrats
DE19529945C2 (de) * 1995-08-16 1997-12-11 Leybold Ag Vorrichtung zum Greifen und Halten eines flachen Substrats
JPH09213772A (ja) * 1996-01-30 1997-08-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板保持装置
DE19605599C1 (de) * 1996-02-15 1996-10-31 Singulus Technologies Gmbh Vorrichtung zum Transport von Substraten
DE19606764C1 (de) * 1996-02-23 1997-04-03 Singulus Technologies Gmbh Vorrichtung zum Greifen, Halten und/oder Transportieren von Substraten
US6054029A (en) * 1996-02-23 2000-04-25 Singulus Technologies Gmbh Device for gripping, holdings and/or transporting substrates
DE19606763C1 (de) * 1996-02-23 1997-04-03 Singulus Technologies Gmbh Vorrichtung zum Greifen, Halten und/oder Transportieren von Substraten
DE19614596C1 (de) * 1996-04-13 1997-05-22 Singulus Technologies Gmbh Vorrichtung zum Transport von Substraten

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Publication number Publication date
DE19814834A1 (de) 1999-10-07
EP0963930A2 (de) 1999-12-15
EP0963930A3 (de) 2000-12-13
TW450928B (en) 2001-08-21
CN1239063A (zh) 1999-12-22
US6317406B1 (en) 2001-11-13

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