JP2010282636A5 - - Google Patents
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- プラズマプロセスシーケンスを支配する少なくとも1つの入力変数のプロセス値を決定する方法であって、
数学的な表面プロファイルモデルを用いて、基板の所望の表面プロファイルの定量的な予測概略値を生成するステップであって、該定量的な予測概略値は、前記プラズマプロセスシーケンスに関する少なくとも1つの入力パラメータを有する、ステップと、
前記プラズマプロセスシーケンスに関する前記少なくとも1つの入力パラメータを用いて試験基板を準備するステップと、
前記試験基板上で測定された表面プロファイルと前記所望の表面プロファイルとの相異を比較するステップと、
前記相異の比較に基づいて該相異の誤差を生成するステップと、
前記少なくとも1つの入力パラメータの更新値を決定するステップであって、該更新値は前記誤差を小さくするように決定される、ステップと、
前記少なくとも1つの更新値を含むように前記数学的な表面プロファイルモデルを変更するステップ
を含む方法。 - 前記試験基板の表面プロファイルが複数のスナップショットからなり、前記数学的な表面プロファイルモデルは、前記複数のスナップショットの各々に対応するフレームを含み、前記試験基板の表面プロファイルと前記数学的な表面プロファイルモデルとの相異の誤差を生成する前記ステップが、前記複数のスナップショットの各々と対応する前記フレームの各々との比較を含む、請求項1の方法。
- 前記相異の誤差は多元的非線形最小自乗法によって生成される、請求項1の方法。
- プラズマプロセスシーケンスを支配する少なくとも1つの入力変数のプロセス値を決定する半実験的方法であって、
数学的な表面プロファイルモデルを用いて、基板の所望の表面プロファイルの定量的な予測概略値を生成するステップであって、該定量的な予測概略値は、前記プラズマプロセスシーケンスに関する少なくとも1つの入力パラメータのそれぞれに関連する少なくとも1つの未知の係数変数を有する、ステップと、
前記プラズマプロセスシーケンスに関する前記少なくとも1つの入力パラメータを用いて生成された試験基板上で測定された表面プロファイルと、前記所望の表面プロファイルとの間の相異に基づいて誤差を生成するステップと、
前記誤差と基準値を比較するステップと、
前記誤差が前記基準値より小さいか否かを判定するステップと、
前記誤差が前記基準値より大きいという判定に基づいて、
i)前記少なくとも1つの入力パラメータの更新値を決定するステップであって、該更新値は、前記誤差を小さくするように決定される、ステップと、
ii)前記少なくとも1つの更新値を含むように前記数学的な表面プロファイルモデルを変更するステップ
を実施するステップ
を含む方法。 - 前記定量的な予測概略値を生成するステップは、前記少なくとも1つの未知の係数変数の粗い予備値を使用することを含む、請求項4の方法。
- 前記少なくとも1つの未知の係数変数の最適値を生成するステップをさらに含む、請求項5の方法。
- 前記最適値を生成するステップは、
前記少なくとも1つの未知の係数変数の前記少なくとも1つの粗い予備値のうちの少なくとも1つを変更するステップと、
前記試験基板上で測定された表面プロファイルと、前記更新値が組み込まれた所望の表面プロファイルの定量的な予測概略値とを比較するステップ
を含む、請求項6の方法。 - 前記誤差は多元的非線形最小自乗法によって生成される、請求項4の方法。
- プラズマプロセスシーケンスを支配する少なくとも1つの入力変数のプロセス値を決定するための装置であって、
数学的な表面プロファイルモデルを用いて基板の所望の表面プロファイルの定量的な予測概略値を生成するための手段であって、該定量的な予測概略値は、前記プラズマプロセスシーケンスに関する少なくとも1つの入力パラメータのそれぞれに関連する少なくとも1つの未知の係数変数を有する、手段と、
前記プラズマプロセスシーケンスに関する前記少なくとも1つの入力パラメータを用いて生成された試験基板上で測定された表面プロファイルと前記所望の表面プロファイルとの相異に基づいて誤差を生成するための手段と、
前記所望の表面プロファイル、及び前記試験基板の表面プロファイルの測定値を格納するためのコンピュータメモリと、
前記少なくとも1つの入力パラメータの更新値を決定するための手段であって、該更新値は、前記誤差を小さくするように決定される、手段と、
前記少なくとも1つの更新値を含むように前記数学的な表面プロファイルモデルを変更するための手段
を備える装置。 - 前記表面プロファイルは、前記試験基板を、前記プラズマプロセスシーケンスの前記少なくとも1つの入力変数の試験値によって画定される試験プロセスに曝すことによって生成される、請求項9の装置。
- 前記試験基板の表面プロファイルが複数のスナップショットからなり、前記数学的な表面プロファイルモデルは、前記複数のスナップショットの各々に対応するフレームを含み、試験基板の表面プロファイルと前記数学的な表面プロファイルモデルとの間の誤差の生成には、前記複数のスナップショットの各々と対応する前記フレームの各々との比較が含まれることからなる、請求項9の装置。
- 前記誤差は多元的非線形最小自乗法によって生成される、請求項9の装置。
- 前記定量的な予測概略値を生成するための手段は、前記少なくとも1つの未知の係数変数の粗い予備値を使用することを含む、請求項9の装置。
- 前記少なくとも1つの未知の係数変数の最適値を生成するための手段をさらに備える、請求項13の装置。
- 前記最適値の生成が、
前記少なくとも1つの未知の係数変数の前記少なくとも1つの粗い予備値の少なくとも1つを変更することと、
前記試験基板上で測定された表面プロファイルと、前記更新値が組み込まれた所望の表面プロファイルの定量的な予測概略値とを比較すること
を含むことからなる、請求項14の装置。
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