JP5872141B2 - 基板処理装置、その制御装置およびその制御方法 - Google Patents
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Description
21 反応容器
22 ヒータ
28 キャップ
30 0リング
31 ガス供給管
31a 制御弁
31b ガス供給孔
31A 処理ガス供給部
32A 処理ガス供給部
40 制御装置
41 設定値入力部
42 パターン演算部
43 比較部
44 アラーム部
45 記憶部
46 教育部
47 変更指示部
48 優先順位出力部
49 シミュレータ
50 ディスプレイ
B ボート
S サセプタ
W ウエハ
P1 処理ガス供給周期の演算結果
Claims (8)
- 基板を収納して処理する基板処理室と、
基板処理室内の基板を回転自在に保持する基板回転機構と、
基板処理室内の基板に対して処理ガスを断続的に供給する処理ガス供給部と、
基板回転機構および処理ガス供給部を制御する制御装置とを備え、
制御装置は基板回転機構の回転速度設定値P、処理ガス供給部からの処理ガスの供給サイクル設定値Q、供給時間設定値Rおよび供給回数設定値Sが入力される設定値入力部と、
設定値入力部からの情報に基づいて基板回転機構の回転周期と、処理ガスの供給周期、供給時間および供給回数とを含み、これにより基板全周に渡って均等にかつ均一に処理ガスを供給する処理ガス供給周期パターンの演算結果を求めるパターン演算部と、を有し、
制御装置は設定値入力部からの情報に基づいて、基板上に供給される処理ガスの供給領域の形状をシミュレーションするシミュレータを更に有し、シミュレータによるシミュレーション結果はディスプレイに表示されることを特徴とする基板処理装置。 - 制御装置は、
プロセス結果に悪影響を与える処理ガス供給周期パターンの参照結果が記憶された記憶部と、
パターン演算部で求めた処理ガス供給周期パターンの演算結果と、記憶部からの処理ガス供給周期パターンの参照結果とを比較する比較部と、
比較部において処理ガス供給周期パターンの演算結果と処理ガス供給周期パターンの参照結果とが一致した場合にアラームを発するアラーム部とを更に有することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 基板回転機構は一枚の基板を載置するサセプタを回転させることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 基板回転機構は複数枚の基板を載置するサセプタを回転させることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 基板回転機構は複数枚の基板を収納したボートを回転させるボート回転機構からなることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 処理ガス供給部は基板回転機構に保持された基板外周に離間して配置された一対の処理ガス供給装置からなり、
一方の処理ガス供給装置はAガスを供給し、他方の処理ガス供給装置はAガスと異なるBガスを供給することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 基板を収納して処理する基板処理室と、
基板処理室内の基板を回転自在に保持する基板回転機構と、
基板処理室内の基板に対して処理ガスを断続的に供給する処理ガス供給部と、
処理ガス供給部とを備えた基板処理装置に使用される制御装置において、
基板回転機構の回転速度設定値P、処理ガス供給部からの処理ガスの供給サイクル設定値Q、供給時間設定値Rおよび供給回数設定値Sが入力される設定値入力部と、
設定値入力部からの情報に基づいて基板回転機構の回転周期と、処理ガスの供給周期、供給時間および供給回数とを含み、これにより基板全周に渡って均等にかつ均一に処理ガスを供給する処理ガス供給周期パターンの演算結果を求めるパターン演算部と、を備え、 設定値入力部からの情報に基づいて、基板上に供給される処理ガスの供給領域の形状をシミュレーションするシミュレータを更に備えたことを特徴とする制御装置。 - 請求項1記載の基板処理装置の制御方法において、
設定値入力部により基板回転機構の回転速度設定値P、処理ガス供給部からの処理ガスの供給サイクル設定値Q、供給時間設定値Rおよび供給回数設定値Sを入力する工程と、 設定値入力部からの情報に基づいて、パターン演算部により基板回転機構の回転周期と、処理ガスの供給周期、供給時間および供給回数とを含む処理ガス供給周期パターンの演算値を求める工程と、
を備え、
設定値入力部からの情報に基づいて、基板上に供給される処理ガスの供給領域の形状をシミュレータによりシミュレーションするとともに、このシミュレーション結果をディスプレイに表示する工程を備えたことを特徴とする基板処理装置の制御方法。
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