JP2010261100A - 蒸着装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】蒸着装置を提供する。
【解決手段】被処理体に蒸着物質を蒸着させる蒸着装置において、蒸着物質を被処理体に蒸着させる蒸着源と、被処理体と離隔されて配され、一面上に蒸着源が配されるベースと、蒸着源と被処理体との間に位置する第1補正部及び第2補正部とを具備し、第1補正部及び第2補正部は、互いに対向するように、蒸着源の外郭部にそれぞれ配され、第1補正部及び第2補正部は、それぞれ回転しつつ、被処理体に蒸着される蒸着物質の厚さを調節することを特徴とする蒸着装置を提供する。
【選択図】図1

Description

本発明は、蒸着装置に係り、詳細には、被処理体に蒸着される薄膜の厚さ均一度を向上させることができる蒸着装置に関する。
有機発光表示装置のような平板表示装置で、有機物や、電極として使われる金属は、真空雰囲気で、当該物質を蒸着して平板上に薄膜を形成する。
このような薄膜形成において薄膜の厚さ均一度(uniformity)は、表示装置の特性、すなわち、効率分布及び色座標分布などに大きな影響を及ぼす。従って、蒸着時に、この薄膜の均一度を高めようとする試みが多かった。
その代表的な例として、特許文献1には、蒸着材料の飛散角度を有効に制御しつつ、膜厚分布の最適化を図った蒸着装置が開示されている。開示された蒸着装置によれば、線形蒸着源を使用し、大面積基板に蒸着を容易にし、蒸着源に、蒸着物質遮蔽用機構物を形成したものであるが、前記遮蔽用機構物は固定されており、基板の両側部に蒸着される膜の厚さが不均一になるという問題点がある。
特開2004−238663号公報
本発明の主な目的は、被処理体に蒸着される膜の厚さを均一に調節できる蒸着装置を提供することである。
本発明の一実施形態に係わる蒸着装置は、被処理体に蒸着物質を蒸着させる蒸着装置において、前記蒸着物質を前記被処理体に蒸着させる蒸着源と、前記被処理体と離隔されて配され、一面上に前記蒸着源が配されるベースと、前記蒸着源と前記被処理体との間に位置する第1補正部及び第2補正部とを具備し、前記第1補正部及び前記第2補正部は、互いに対向するように、前記蒸着源の外郭部にそれぞれ配され、前記第1補正部及び前記第2補正部は、それぞれ回転しつつ、前記被処理体に蒸着される前記蒸着物質の厚さを調節する。
本発明において、前記蒸着源は、少なくとも一つ以上の線形蒸着源からなりうる。
本発明において、前記第1補正部は、前記線形蒸着源の長手方向の一外側部一部を覆うように配されうる。
本発明において、前記第1補正部は、前記線形蒸着源と平行した状態で回転しうる。
本発明において、前記第1補正部は、前記線形蒸着源に対してパニング(panning)可能である。
本発明において、前記第2補正部は、前記線形蒸着源の長手方向の他の外側部一部を覆うように配されうる。
本発明において、前記第2補正部は、前記線形蒸着源と平行した状態で回転しうる。
本発明において、前記第2補正部は、前記線形蒸着源に対してパニング可能である。
本発明において、前記第1補正部及び前記第2補正部それぞれは、前記被処理体の両外郭部で蒸着される前記蒸着物質の厚さを均一に補正するために、前記被処理体と平行した状態でパニング可能である。
本発明において、前記被処理体に蒸着される蒸着物質の厚さを測定する膜厚測定部をさらに具備できる。
本発明において、前記第1補正部及び前記第2補正部それぞれは、前記蒸着源の長手方向に沿って配されうる。
本発明において、前記第1補正部は、前記線形蒸着源と前記被処理体との間に位置し、その長手方向の一側部が、前記線形蒸着源の長手方向の一外側部の一部を覆うように配される第1補正板と、一端が前記第1補正板と結合され、他端が前記ベースと結合されるように配され、前記第1補正板を回転させる第1回転棒と、前記第1回転棒をその長手方向の軸を中心に回転させる第1駆動部とを具備できる。
本発明において、前記第1補正板は、その一面が前記被処理体に向かうように配されうる。
本発明において、前記第1補正板は、前記線形蒸着源の長手方向に沿って配されうる。
本発明において、前記第1補正板は、前記第1回転棒がその中心軸を中心に、時計回り方向または逆時計回り方向に回転することによって、時計回り方向または逆時計回り方向にパニング可能である。
本発明において、前記第1補正板は、前記被処理体と平行した状態で、時計回り方向または逆時計回り方向にパニング可能である。
本発明において、前記第2補正部は、前記線形蒸着源と前記被処理体との間に位置し、その長手方向の一側部が前記線形蒸着源の長手方向の他の外側部の一部を覆うように配される第2補正板と、一端が前記第2補正板と結合され、他端が前記ベースと結合されるように配され、前記第2補正板を回転させる第2回転棒と、前記第2回転棒をその長手方向の軸を中心に回転させる第2駆動部とを具備できる。
本発明において、前記第2補正板は、その一面が前記被処理体に向かうように配されうる。
本発明において、前記第2補正板は、前記線形蒸着源の長手方向に沿って配されうる。
本発明において、前記第2補正板は、前記第2回転棒がその中心軸を中心に、時計回り方向または逆時計回り方向に回転することによって、時計回り方向または逆時計回り方向にパニング可能である。
本発明において、前記第2補正板は、前記被処理体と平行した状態で、時計回り方向または逆時計回り方向にパニング可能である。
本発明の蒸着装置によれば、被処理体に蒸着される膜厚の均一度を維持できる。
本発明の一実施形態による蒸着装置を概略的に示す斜視図である。 図1の蒸着装置を概略的に示す断面図である。 図1の蒸着装置を概略的に示す平面図である。 従来の蒸着装置を利用した場合、被処理体に蒸着された蒸着物質の厚さ均一度を示すグラフである。 本発明による蒸着装置を利用した場合、被処理体に蒸着された蒸着物質の厚さ均一度を示すグラフである。
以下、添付された図面に図示された本発明の実施形態を参照しつつ、本発明について詳細に説明する。図面での要素の形状及び大きさなどは、さらに明確な説明のために誇張され、図面上の同じ符号で表示される要素は、同じ要素である。
図1は、本発明の一実施形態による蒸着装置100を概略的に図示した斜視図であり、図2は、図1の蒸着装置100を概略的に示す断面図であり、図3は、図1の蒸着装置100を概略的に示す平面図である。
図1には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図1のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。チャンバ内には、不活性ガスによる不活性雰囲気が維持されていてもよい。
このようなチャンバ内には、被処理体である基板10が配される。詳細には基板10は、その一面が蒸着源120に向くように、蒸着源120上に配される。基板は、平板表示装置用基板でありうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラス(mother glass)のような大面積基板が適用されうる。
前記基板10に対向し、すなわち、図2で見るとき、基板10の下面から離隔され、対向した側に蒸着源120が配される。蒸着源120は、少なくとも一つ以上の線形蒸着源121,122,123からなりうる。線形蒸着源121,122,123は、ベース110上に配されうる。線形蒸着源121,122,123は、互いに平行に配されることが望ましい。線形蒸着源121,122,123は、その長手方向が、ベース110上でy軸方向と一致するように配されうる。蒸着源120は、被処理体である基板10の一面に蒸着物質を蒸着させる。
ただし、本発明の蒸着源120は、線形蒸着源121,122,123からなるものに限定されるものではなく、蒸着源120は、複数個の蒸着用ルツボ(crucible)が一列に配列されたものも含む。すなわち、蒸着源120は、図1で見るとき、y軸方向に配列された複数個の蒸着用ルツボからなりうる。
第1補正部130及び第2補正部140は、蒸着源120と基板10との間に配される。さらに詳細には、第1補正部130及び第2補正部140は、蒸着源120の互いに対向する第1外郭部120a及び第2外郭部120bの一部を覆うように配される。図1で見るとき、第1補正部130は、第1外郭部120aの外側一部を覆うように配され、第2補正部140は、第2外郭部120bの外側一部を覆うように配されうる。第1補正部130及び第2補正部140の長手方向は、蒸着源120の長手方向と一致することが望ましく、図1で見るとき、y軸方向である。
第1補正部130及び第2補正部140は、蒸着源120に対してパニング(panning)が可能である。すなわち、第1補正部130及び第2補正部140は、時計回り方向Aまたは逆時計回り方向Bに動きつつ、その長手方向が蒸着源120の長手方向と平行になったり、または斜(はす)になったりする。望ましくは、第1補正部130及び第2補正部140は、その一面が蒸着源120と平行を維持しつつ、パニングが可能である。第1補正部130及び第2補正部140がパニングしつつ、蒸着源120から噴出された蒸着物質が、基板10に蒸着される厚さを調節できる。特に、線形蒸着源の場合、基板10の左右外郭部で、蒸着物質の厚さが互いに異なる場合があるが、本発明は、前述のように、第1補正部130及び第2補正部140が、蒸着源120の第1外郭部120a及び第2外郭部120bでパニングされることによって、基板10の、第1外郭部120a及び第2外郭部120bのところから発生しうる蒸着物質の厚さ不均衡を調整することができる。
図2を参照すれば、第1補正部130は、第1補正板131、第1回転棒132及び第1駆動部133を具備でき、第2補正部140は、第2補正板141、第2回転棒142及び第2駆動部143を具備できる。
第1補正板131及び第2補正板141は、蒸着源120と基板10との間に位置する。第1補正板131及び第2補正板141の一面は、蒸着源120に向き、他面は、基板10に向く。第1補正板131及び第2補正板141それぞれは、蒸着源120の互いに対向する第1外郭部120a及び第2外郭部120bの一部を覆うように配される。図2で見るとき、第1補正板131は、第1外郭部120aの外側一部を覆うように配され、第2補正板141は、第2外郭部120bの外側一部を覆うように配されうる。第1補正板131及び第2補正板141の長手方向は、蒸着源120の長手方向と一致することが望ましく、図1で見るとき、y軸方向である。
第1補正板131及び第2補正板141それぞれは、第1回転棒132及び第2回転棒142によって支持される。すなわち、第1回転棒132は、その一端が第1補正板131と結合され、その他端がベース110と結合される。第2回転棒142は、その一端が第2補正板141と結合され、その他端がベース110と結合される。第1回転棒132及び第2回転棒142それぞれは、その軸方向に回転が可能である。第1回転棒132及び第2回転棒142は、その軸方向を中心に、時計回り方向Aまたは逆時計回り方向Bに回転が可能であり、これによって第1補正板131及び第2補正板141がパニングされる。前述のように、第1補正板131及び第2補正板141がパニングされることによって、基板10の左右外郭部に蒸着される蒸着物質の厚さを均一に調整することができる。
図4は、蒸着断面による蒸着物質の均一度を示すグラフであり、詳細には、図4Aは、従来の蒸着装置を利用した場合の蒸着物質の均一度を示し、図4Bは、本発明による蒸着装置を利用した場合の蒸着物質の均一度を示す。従来の蒸着装置の場合、線形蒸着源の外郭部に固定された補正板を具備した。固定された補正板の場合、左右蒸着物質の厚さ調節が不可能であり、図4Aから分かるように、基板の左側外郭部Lと基板の右側外郭部Rとでの蒸着物質の厚さに、互いに差が出ていることを確認することができる。特に、基板の中心部Cと基板の右側外郭部Rとの蒸着物質の厚さ程度に4ないし5%差が出るが、基板の中心部Cと基板の左側外郭部Rとの蒸着物質の厚さ差がこれには至っていないことが分かる。しかし、図4Bを参照すれば、基板の左右に蒸着される蒸着物質の厚さが互いに均一であり、特に、基板の左右に蒸着される蒸着物質の厚さが、基板の中心部Cに蒸着された蒸着物質の厚さに比べ、1ないし2%程度となっており、均一であること確認することができる。
第1駆動部133及び第2駆動部143それぞれは、ベース110内部に配され、第1回転棒132及び第2回転棒142と連結され、第1回転棒132及び第2回転棒142をその軸方向に回転させることができる駆動力を提供する。第1駆動部133及び第2駆動部143は、サーボモータでありうる。
本発明の一実施形態による蒸着装置100は、膜厚測定部をさらに具備できる。膜厚測定部は、基板10に蒸着される蒸着物質の厚さを測定し、基板10左右の膜厚にバラツキが出るときは、第1補正板131及び第2補正板141を回転させるように、第1駆動部133及び第2駆動部143を制御できる。
本発明は、前述の実施形態及び添付された図面によって限定されるものではなく、特許請求の範囲によって限定されるものであり、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想を外れない範囲内で、多様な形態の置換、変形及び変更が可能であるということは、当技術分野の当業者には自明であろう。
10 基板
100 蒸着装置
110 ベース
120 蒸着源
120a 第1外郭部
120b 第2外郭部
121,122,123 線形蒸着源
130 第1補正部
131 第1補正板
132 第1回転棒
133 第1駆動部
140 第2補正部
141 第2補正板
142 第2回転棒
143 第2駆動部
C 基板の中央部
L 基板の左外郭部
R 基板の右外郭部

Claims (21)

  1. 被処理体に蒸着物質を蒸着させる蒸着装置において、
    前記蒸着物質を前記被処理体に蒸着させる蒸着源と、
    前記被処理体と離隔されて配され、一面上に前記蒸着源が配されるベースと、
    前記蒸着源と前記被処理体との間に位置する第1補正部及び第2補正部とを具備し、
    前記第1補正部及び前記第2補正部は、互いに対向するように、前記蒸着源の外郭部にそれぞれ配され、
    前記第1補正部及び前記第2補正部は、それぞれ回転しつつ、前記被処理体に蒸着される前記蒸着物質の厚さを調節することを特徴とする蒸着装置。
  2. 前記蒸着源は、少なくとも一つ以上の線形蒸着源からなることを特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
  3. 前記第1補正部は、前記線形蒸着源の長手方向の一外側部一部を覆うように配されることを特徴とする請求項2に記載の蒸着装置。
  4. 前記第1補正部は、前記線形蒸着源と平行した状態で回転しうることを特徴とする請求項3に記載の蒸着装置。
  5. 前記第1補正部は、前記線形蒸着源に対してパニングされることを特徴とする請求項3に記載の蒸着装置。
  6. 前記第2補正部は、前記線形蒸着源の長手方向の他の外側部一部を覆うように配されることを特徴とする請求項3に記載の蒸着装置。
  7. 前記第2補正部は、前記線形蒸着源と平行した状態で回転しうることを特徴とする請求項6に記載の蒸着装置。
  8. 前記第2補正部は、前記線形蒸着源に対してパニングされることを特徴とする請求項6に記載の蒸着装置。
  9. 前記第1補正部及び前記第2補正部それぞれは、前記被処理体の両外郭部で蒸着される前記蒸着物質の厚さを均一に補正するために、前記被処理体と平行した状態でパニングされることを特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
  10. 前記被処理体に蒸着される蒸着物質の厚さを測定する膜厚測定部を、さらに具備することを特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
  11. 前記第1補正部及び前記第2補正部それぞれは、前記蒸着源の長手方向に沿って配されることを特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
  12. 前記第1補正部は、
    前記線形蒸着源と前記被処理体との間に位置し、その長手方向の一側部が前記線形蒸着源の長手方向の一外側部の一部を覆うように配される第1補正板と、
    一端が前記第1補正板と結合され、他端が前記ベースと結合されるように配され、前記第1補正板を回転させる第1回転棒と、
    前記第1回転棒をその長手方向の軸を中心に回転させる第1駆動部とを具備することを特徴とする請求項2に記載の蒸着装置。
  13. 前記第1補正板は、その一面が前記被処理体に向かうように配されることを特徴とする請求項12に記載の蒸着装置。
  14. 前記第1補正板は、前記線形蒸着源の長手方向に沿って配されることを特徴とする請求項13に記載の蒸着装置。
  15. 前記第1補正板は、前記第1回転棒がその中心軸を中心に、時計回り方向または逆時計回り方向に回転することによって、時計回り方向または逆時計回り方向にパニングされることを特徴とする請求項14に記載の蒸着装置。
  16. 前記第1補正板は、前記被処理体と平行した状態で、時計回り方向または逆時計回り方向にパニングされることを特徴とする請求項15に記載の蒸着装置。
  17. 前記第2補正部は、
    前記線形蒸着源と前記被処理体との間に位置し、その長手方向の一側部が前記線形蒸着源の長手方向の他の外側部の一部を覆うように配される第2補正板と、
    一端が前記第2補正板と結合され、他端が前記ベースと結合されるように配され、前記第2補正板を回転させる第2回転棒と、
    前記第2回転棒をその長手方向の軸を中心に回転させる第2駆動部とを具備することを特徴とする請求項12に記載の蒸着装置。
  18. 前記第2補正板は、その一面が前記被処理体に向かうように配されることを特徴とする請求項17に記載の蒸着装置。
  19. 前記第2補正板は、前記線形蒸着源の長手方向に沿って配されることを特徴とする請求項18に記載の蒸着装置。
  20. 前記第2補正板は、前記第2回転棒がその中心軸を中心に、時計回り方向または逆時計回り方向に回転することによって、時計回り方向または逆時計回り方向にパニングされることを特徴とする請求項19に記載の蒸着装置。
  21. 前記第2補正板は、前記被処理体と平行した状態で、時計回り方向または逆時計回り方向にパニングされることを特徴とする請求項20に記載の蒸着装置。
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