JP2010249884A - 光重合性樹脂組成物およびこれを用いた感光性フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(a)側鎖に、芳香族炭化水素基または/および脂環式炭化水素基を有し、酸価が80〜200mgKOH/gであり、かつ重量平均分子量が2万〜10万である熱可塑性樹脂、(b)少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有し、重量平均分子量が2万未満である化合物、(c)エチレン性不飽和結合を1個有するとともに、芳香族炭化水素基または/および脂環式炭化水素基を有し、重量平均分子量が2万未満である化合物、および(d)光重合開始剤を含有し、(a)成分、(b)成分および(c)成分の含有量の合計を100質量%とするとき、(c)成分の含有量の割合が1〜10質量%であることを特徴とする光重合性樹脂組成物。
【選択図】なし
Description
レーザー直接描画方式は、露光光としてi線(355nm)半導体レーザー光、h線(405nm)半導体レーザー光などの紫外線領域の特定波長を使用する上、露光エネルギー量がコンタクト露光方式に比べ少ないため、従来のコンタクト露光用レジスト材料をレーザー直接描画方式に適用すると、充分な特性が発現できない。
具体的には、ベンゾフェノン、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジアルキルケタール、アントラキノン、アリルイミダゾール等の光重合開始剤;チオキサントン、アミノクマリン化合物等の増感剤;フェニルグリシン化合物等の水素供与体を用いて高感度化したレーザー直接描画用レジスト材料が提案されているが、従来のコンタクト露光方式と比較すると解像度および密着性において不十分である。
前記(d)成分が9−フェニルアクリジンであることが好ましい。
(a)成分は、側鎖に、芳香族炭化水素基または/および脂環式炭化水素基を有し、酸価が80〜200mgKOH/gであり、かつ重量平均分子量が2万〜10万である熱可塑性樹脂である。
(a)成分を含有させることにより、相溶性、現像性、密着性を改善できるとともに、解像度を向上させることができる。(a)成分の側鎖に存在する芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基が、樹脂組成物の疎水性を高め、解像度の向上に寄与すると考えられる。
(a)成分の重量平均分子量は2万〜10万の範囲である。該重量平均分子量が2万以上であると、高分子化による密着性向上効果が充分に得られる。好ましくは4万以上である。また該重合平均分子量が10万以下であると、高い解像度が得られやすい。好ましくは8万以下である。
本明細書における酸価の値は、フェノールフタレインを指示薬とし、樹脂1gを0.2N水酸化カリウム溶液にて滴定したときの水酸化カリウムのmg数にて算出した値(単位:mgKOH/g)である。
本明細書における重量平均分子量の値は、ポリスチレンを標準物質として、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定される重量平均分子量(Mw)である。
側鎖としての芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ベンジル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基等が挙げられる。これらは置換基を有していてもよい。該置換基の例としては炭素数1〜10のアルキル基が挙げられる。
側鎖としての脂環式炭化水素基は、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を有するモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α―メチルスチレン等のスチレン誘導体、上記脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレート、および上記芳香族炭化水素基を有する(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる1種以上が好ましい。
これらの中でも、スチレン;シクロヘキシル基またはイソボルニル基を有する(メタ)アクリレートが、高解像度の点でより好ましい。
(a)成分を構成する全モノマーの仕込み量(100質量%)中における、該芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を含有するモノマーの合計の含有割合(単位:質量%。以下、環式炭化水素モノマー含有量ということもある。)は、5〜20質量%であることが好ましく、10 〜15質量%がより好ましい。この範囲内であると高い解像度が得られやすい。
(a)成分を構成する全モノマーの仕込み量(100質量%)中、該他のモノマーの合計の割合は80〜95質量%であることが好ましく、85〜90質量%がより好ましい。
溶液重合法による場合、有機溶剤および重合開始剤の存在下で上記モノマーの混合物を共重合させる。有機溶剤としては、メチルエチルケトン、メタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、トルエン、キシレン等の通常用いられる有機溶剤を使用できる。重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル、クメンヒドロペルオキシド等の通常用いられる重合開始剤を使用できる。また、必要に応じて2−メルカプトエタノール、n−オクチルメルカプタン等の連鎖移動剤を使用することができる。
(b)成分は、少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有し、重量平均分子量が2万未満の化合物である。該重量平均分子量は光反応性の点で10000以下が好ましく、5000以下がより好ましい。なお(b)成分が単分散系の化合物である場合は、重量平均分子量に代えて分子量を用いる。
(b)成分は2個以上のエチレン性不飽和結合を有し、露光によって分子鎖の橋かけ構造を形成するため、露光後のレジスト膜の強度、解像度、および基材との密着性に寄与する。
(b)成分は、光重合開始剤の作用により付加重合反応を生じるモノマー、オリゴマー、または、プレポリマーであればよく、より高い反応性が得られる点で、アクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有するものが好ましい。例えば、ポリアクリレートもしくはポリメタクリレート、ポリエーテルアクリレートもしくはポリエーテルメタクリレート;ポリエステルアクリレートもしくはポリエステルメタクリレート;ポリオールアクリレートもしくはポリオールメタクリレート;エポキシアクリレートもしくはエポキシメタクリレート;ウレタンアクリレートもしくはウレタンメタクリレート等のモノマー、オリゴマーが挙げられる。これらは置換基を有していてもよい。
1,2,6−ヘキサントリオール/プロピレンオキシド/(メタ)アクリル酸から合成されたポリエーテル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン/エチレンオキシド/(メタ)アクリル酸から合成されたポリエーテル(メタ)アクリレート、ビルフェノールA/エチレンオキシド/(メタ)アクリル酸から合成されたポリエーテル(メタ)アクリレート;
アジピン酸/1,6−ヘキサンジオール/(メタ)アクリル酸から合成されたポリエステル(メタ)アクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸等から合成されたポリエステル(メタ)アクリレート、;
ジグリシジルエーテル化ビスフェノールA/アクリル酸から合成されたエポキシ(メタ)アクリレート、ジグリシジルエーテル化ポリビスフェノールA/アクリル酸、トリグリシジルエーテル化グリセリン/アクリル酸等から合成されたエポキシ(メタ)アクリレート;
γ−ブチロラクトン/N−メチルエタノールアミン/ビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタン/2−ヒドロキシエチルアクリレートから合成されたアミドウレタン(メタ)アクリレート、γ−ブチロラクトン/N−メチルエタノールアミン/2,6−トリレンジイソシアネート/テトラエチレングリコール/2−ヒドロキシエチルアクリレート等から合成されたアミドウレタン(メタ)アクリレート;
2,6−トリレンジイソシアネートジアクリレート、イソホロンジイソシアネートジアクリレート、ヘキサメチレンジイソシアネートジアクリレート等のウレタンアクリレート;等が挙げられる。これらのモノマーまたはオリゴマーは単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
これらの中でも、光反応性、現像適性の点で、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ビルフェノールA/エチレンオキシド/メタクリル酸から合成されたビルフェノールAジタクリレート・エチレンオキシド付加物が特に好ましい。
(c)成分は、エチレン性不飽和結合を1個有するとともに、芳香族炭化水素基または/および脂環式炭化水素基を有し、重量平均分子量が2万未満の化合物である。該重量平均分子量は光反応性、レジスト膜強度の点で6000以下が好ましく、3000以下がより好ましい。なお(c)成分が単分散系の化合物である場合は、重量平均分子量に代えて分子量を用いる。
(c)成分は、1個のエチレン性不飽和結合以外には、光重合開始剤の作用により付加重合反応を生じる反応性基を有しないことが好ましい。
(c)成分は、エチレン性不飽和結合を1個有するため、露光によって形成される重合体の側鎖または主鎖末端に、芳香族炭化水素基または/および脂環式炭化水素基を導入することができる。これにより露光後のレジスト膜の疎水性が高まるため、現像耐性が向上し、密着性が良好となる。
芳香族炭化水素基としては、ベンジル基、フェノキシエチル基、フタル酸から誘導される残基、ヘキサヒドロフタル酸から誘導される残基、ビスフェノールAから誘導される残基、ノニルフェニル基、ノニルフェノキシ基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、シクロペンチル基、ノルボニル基等が挙げられる。
(d)成分は光重合開始剤である。(d)成分は露光に使用される光源の波長(露光波長)に感度を有し、該露光波長の光を吸収してラジカルを発生するものが用いられる。公知の光重合開始剤から適宜のものを選択して用いることができる。1種単独でもよく2種以上を併用してもよい。
特に、i線(355nm)およびh線(405nm)を含む紫外線領域において良好な感度が得られるようにするには、(d)成分として、ビスイミダゾール誘導体および/またはアクリジン誘導体を用いることが好ましい。
該他の光重合開始剤の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、4,4’ −ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、アントラキノン類、チオキサントン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルケタール類、トリアジン類、アシルホスフィンオキサイド類等が挙げられる。これらは露光波長に対して感度を有する1種又は2種以上を選択して用いることができる。
(d)成分として、ビスイミダゾール誘導体および/またはアクリジン誘導体を配合する場合、(d)成分の全量を100質量%とすると、ビスイミダゾール誘導体とアクリジン誘導体の配合量の合計は85〜100質量%を占めることが好ましく、90〜95質量%がより好ましい。
本発明の光重合性樹脂組成物には、増感剤、水素供与体、光酸発生剤、染料など、光重合性樹脂組成物において公知の添加剤を適宜含有させることができる。
増感剤の例としては、3−(4−メトキシフェニル)−7−フェニルクマリン、3−(4−N,N−ジメチルアミノフェニル)−7−フェニルクマリン、3−(4−ベンズイミダゾール−(2−イル)−フェニル)−7−フェニルクマリン、3−(4−(5−tert−ブチルベンズオキサゾール−(2−イル)−フェニル)−7−ジエチルアミノクマリン、3−(4−メトキシフェニル)−7−メトキシクマリン、3−(4−(5−メチルベンズトリアゾール−(2−イル)−フェニル)−7−ジエチルアミノクマリンが挙げられる。
これらのうちで、3−(4−メトキシフェニル)−7−フェニルクマリン、3−(4−N,N−ジメチルアミノフェニル)−7−フェニルクマリンが好ましい。
染料の例としては、マラカイトグリーン、ロイコクリスタルバイオレット等が挙げられる。
さらに必要に応じて熱重合禁止剤、着色剤、密着促進剤、充填剤、可塑剤等の種々の添加剤を配合できる。
本発明の感光性フィルムは、支持体上に、本発明の光重合性樹脂組成物からなる感光層が形成された積層体である。さらに感光層上に保護フィルムが積層されていてもよい。
支持体は露光波長において透明であることが好ましい。
支持体または保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン等からなるプラスチックフィルムが好適に用いられる。特に支持体としてはポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、保護フィルムとしてはポリエチレンフィルムが好ましい。
感光層の厚さは、特に制限されないが、10〜100μm程度が好ましく、20〜50μmがより好ましい。
本発明の感光性フィルムの製造は、光重合性樹脂組成物を含む塗布液を支持体上に塗布した後、乾燥し、その上に保護フィルムを被覆して積層体とする方法で行うことができる。
すなわち、まず光重合性樹脂組成物の(a)〜(d)成分、および必要に応じて配合される成分を有機溶剤に溶解して塗布液を調製する。
有機溶剤は、光重合性樹脂組成物を溶解できる溶剤であればよく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系溶剤;メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール系溶剤などが用いられる。これらの溶剤は1種又は2種以上を併用できる。
有機溶剤の使用量は特に限定されず、塗布に適した固形分濃度となるように設定される。
本発明の感光性フィルムを用いてプリント配線板の回路形成を行うには、例えば、まず、基板上に、銅などの金属層が積層された金属積層板を用意する。感光性フィルムの保護フィルムを剥がして、金属積層板上に、感光層と金属層とが密着するように積層し、加熱圧着させる。
次に感光性フィルムの支持体を介して、感光層の回路パターンに対応する領域に対して露光を行う。露光は、例えばレーザー直接描画方式により行う。光源としては、半導体レーザーが好適に用いられ、例えばポリゴンミラー方式、マイクロミラーアレイ方式などのレーザー走査方式が実用化されている。レーザー光源の波長(露光波長)は340〜420nmが好ましく、i線(355nm)半導体レーザー光、またはh線(405nm)半導体レーザー光が好適に用いられる。レーザー直接描画方式における露光エネルギー量は一般に10〜30mJ/cm2程度である。
この後、感光層パターンを剥離することによって、金属(例えば銅箔)からなる回路パターンが得られる。感光層パターンの剥離は、例えば、1〜5質量%程度の濃度の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等の水溶液からなるアルカリ剥離液を用いて行うことができる。
この後、上記と同様にして感光層パターンを剥離することによって、めっき層からなる回路パターンが得られる。
撹伴器、温度制御装置、コンデンサーを備えた容器に、メチルエチルケトン90%とメタノール10%からなる混合溶媒を53.3部仕込んだ。撹件しながら温度を85℃に上昇させ、下記表1に示す組成(単位:%)のモノマー混合物100部に対して、アゾビスイソブチロニトリル0.4〜0.8部を添加した溶液を、前記混合溶媒中に3時間で滴下した。滴下終了後の反応液に、アゾビスイソブチロニトリル0.1部を30分間隔で4回添加した。更に、85℃で2時間、加熱撹伴し反応率を上昇させた後、メチルエチルケトン90%とメタノール10%からなる混合溶媒を13.3部添加して反応を終了させた。
得られた熱可塑性樹脂の重量平均分子量、酸価、ならびに全モノマーの仕込み量中における、芳香族炭化水素基または脂環式炭化水素基を含有するモノマーの合計の含有割合(環式炭化水素モノマー含有量、単位:%)を表1に示す。
MMA:メタクリル酸メチル。
BMA:メタクリル酸ブチル。
BA:n−アクリル酸ブチル。
St:スチレン。
CHMA:メタクリル酸シクロヘキシル。
IBXMA:メタクリル酸イソボルニル。
MAA:メタクリル酸。
モノマー混合物の組成を下記表2に示す通りに変更したほかは、合成例1と同様にして比較の熱可塑性樹脂を合成した。
得られた熱可塑性樹脂の重量平均分子量と酸価と環式炭化水素モノマー含有量の値を表2に示す。
比較合成例1は、側鎖に芳香族炭化水素基および脂環式炭化水素基のいずれも有しない例、比較合成例2は重量平均分子量が2万未満である例、比較合成例3は重量平均分子量が10万を超える例、比較合成例4は酸価が80mgKOH/g未満である例、比較合成例5は酸価が200mgKOH/gを超える例である。
上記合成例および比較合成例で得られた熱可塑性樹脂(a)−1〜(a)−5および(z)−1〜(z)−5を用い、表3に示す組成(単位:部)からなる光重合性組成物を有機溶剤に完全に溶解し、塗布液を調合した。得られた塗布液を、ナイフコーターにより、20μm厚のポリエステルフィルム上に塗布した。次いで、30分放置した後、60℃の乾燥機中で30分乾燥して厚さ40μmの感光層を形成し、感光性フィルムを得た。その後、ポリエステルフィルムが外側となるように、銅張積層板上に加熱ラミネーションし、試験板とした。ラミネーション条件は、ロール温度100℃、速度1m/minとした。
露光後1時間放置した後、ポリエステルフィルムを剥離し、濃度1質量%の炭酸ナトリウム水溶液(現像液)を用いて現像することによって、未露光部分を溶解除し、光重合性樹脂組成物の硬化物からなる描画パターンを得た。現像は、現像液をスプレーする方法を用い、現像スプレー圧力1.5kg/cm2、現像液温度30℃の条件で行った。
現像後に得られたパターンについて、以下の方法で感度、解像度、および密着性を評価した。その結果を表3に示す。
(感度)25段リントンステップタブレットは光透過性が段階的に減少するネガフィルムであり、現像後に、25段のうちの何段に対応した硬化物パターンが形成されたかによって感度を評価した。この段数が多いほど感度が高いことを示す。段数に応じて下記の基準で評価した結果を表に併記する。
◎非常に良好:15段以上、25段以下。
○良好:6段以上、14段以下。
×不良:5段以下。
(密着性)密着性の評価は、現像後に、銅張積層板と密着している最も細い独立線パターンの線幅で示した。ただし、レジスト厚みと線幅が1:1以下であることを満たすものに限る。この線幅の値が小さいほど、密着性が高いことを示す。
解像度および密着性については、線幅に応じて下記の基準で評価した結果を表に併記する。
○良好:50μm未満。
△やや不良:50μm以上、60μm未満。
×不良:60μm以上。
化合物(b)−1:トリメチロールプロパントリメタクリレート、分子量338。
化合物(b)−2:エチレンオキサイドを17モル付加した、ビスフェノールAジメタクリレート(新中村化学社製、製品名:NKエステル BPE900)、分子量1112。
化合物(c)−1:プロピレンオキサイドを5モル付加した、ノニルフェニルアクリレート(新中村化学社製、製品名:NKエステル NPA5P)、分子量564。
化合物(c)−2:プロピレンオキサイド変性フタル酸メタクリレート(共栄社化学株式開社製、製品名:ライトエステルHOMPP)、分子量320。
化合物(d)−1:2,2’,5−トリス−(o−クロロフェニル)−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−4’,5’−ジフェニル−ビイミダゾール(「TCDM−HABI」と略記されることもある)。
化合物(d)−2:9−フェニルアクリジン。
化合物(d)−3:エチルミヒラーズケトン。
水素供与体:N−フェニルグリシン。
光酸発生剤:トリブロモメチルフェニルスルホン。
染料:マラカイトグリーン/ロイコクリスタルバイオレット=10/1(質量比)の混合物。
有機溶剤:メチルエチルケトン/メタノール=8/2(質量比)の混合物。
これに対して、比較例1〜7では、良好な解像性と良好な密着性を同時に達成することはできなかった。
Claims (3)
- (a)側鎖に、芳香族炭化水素基または/および脂環式炭化水素基を有し、酸価が80〜200mgKOH/gであり、かつ重量平均分子量が2万〜10万である熱可塑性樹脂、
(b)少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有し、重量平均分子量が2万未満である化合物、
(c)エチレン性不飽和結合を1個有するとともに、芳香族炭化水素基または/および脂環式炭化水素基を有し、重量平均分子量が2万未満である化合物、および
(d)光重合開始剤を含有し、(a)成分、(b)成分および(c)成分の含有量の合計を100質量%とするとき、(c)成分の含有量の割合が1〜10質量%であることを特徴とする光重合性樹脂組成物。 - 前記(d)成分が9−フェニルアクリジンである、請求項1記載の光重合性樹脂組成物。
- 支持体上に、請求項1または2に記載の光重合性樹脂組成物からなる感光層が形成されている、感光性フィルム。
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---|---|
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103064253A (zh) * | 2012-12-05 | 2013-04-24 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 一种含有吖啶类氧化物的感光性组合物 |
KR20160070801A (ko) | 2013-12-26 | 2016-06-20 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체 |
JP2017223993A (ja) * | 2014-05-21 | 2017-12-21 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物及び回路パターンの形成方法 |
KR20190035864A (ko) | 2016-12-07 | 2019-04-03 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체 |
KR20200139227A (ko) | 2018-06-22 | 2020-12-11 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 형성 방법 |
KR20200139768A (ko) | 2018-08-09 | 2020-12-14 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 형성 방법 |
KR20210013119A (ko) | 2018-06-22 | 2021-02-03 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 형성 방법 |
JPWO2022113829A1 (ja) * | 2020-11-24 | 2022-06-02 | ||
CN115524924A (zh) * | 2021-10-26 | 2022-12-27 | 昭和电工材料株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性元件及层叠体的制造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001272779A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-10-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
JP2006220864A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
JP2007122028A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-05-17 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびその積層体 |
JP2008076768A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Jsr Corp | ガラスエッチング用放射線硬化性レジスト樹脂組成物およびこれを用いたガラス基板の製造方法 |
JP2008276194A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
WO2010103918A1 (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
-
2009
- 2009-04-10 JP JP2009096385A patent/JP2010249884A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001272779A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-10-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
JP2006220864A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
JP2007122028A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-05-17 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびその積層体 |
JP2008076768A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Jsr Corp | ガラスエッチング用放射線硬化性レジスト樹脂組成物およびこれを用いたガラス基板の製造方法 |
JP2008276194A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
WO2010103918A1 (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103064253A (zh) * | 2012-12-05 | 2013-04-24 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 一种含有吖啶类氧化物的感光性组合物 |
KR20210049995A (ko) | 2013-12-26 | 2021-05-06 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체 |
KR20160070801A (ko) | 2013-12-26 | 2016-06-20 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체 |
KR20180021226A (ko) | 2013-12-26 | 2018-02-28 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체 |
JP2017223993A (ja) * | 2014-05-21 | 2017-12-21 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物及び回路パターンの形成方法 |
KR20190035864A (ko) | 2016-12-07 | 2019-04-03 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체 |
KR20210082545A (ko) | 2016-12-07 | 2021-07-05 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체 |
KR20210013119A (ko) | 2018-06-22 | 2021-02-03 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 형성 방법 |
KR20200139227A (ko) | 2018-06-22 | 2020-12-11 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 형성 방법 |
KR20240046924A (ko) | 2018-06-22 | 2024-04-11 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 형성 방법 |
KR20200139768A (ko) | 2018-08-09 | 2020-12-14 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 레지스트 패턴의 형성 방법 |
JPWO2022113829A1 (ja) * | 2020-11-24 | 2022-06-02 | ||
JP7425982B2 (ja) | 2020-11-24 | 2024-02-01 | 株式会社レゾナック | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
CN115524924A (zh) * | 2021-10-26 | 2022-12-27 | 昭和电工材料株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性元件及层叠体的制造方法 |
WO2023073799A1 (ja) * | 2021-10-26 | 2023-05-04 | 株式会社レゾナック | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び、積層体の製造方法 |
WO2023074630A1 (ja) * | 2021-10-26 | 2023-05-04 | 株式会社レゾナック | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び、積層体の製造方法 |
WO2023074629A1 (ja) * | 2021-10-26 | 2023-05-04 | 株式会社レゾナック | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び、積層体の製造方法 |
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