JP2010245344A - 薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置 - Google Patents

薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 薄膜太陽電池パネルに一定間隔で設けられた多数のスクライブ内に付着するパーティクルを確実に除去でき、しかも表面の成膜面に傷を付けたり成膜を剥離したりするおそれがない高圧液噴射洗浄装置を提供する。
【解決手段】 薄膜太陽電池パネルＸの各スクライブＸ２の位置に対応して噴射ノズル３をノズルホルダー２の長手方向に沿って一定の間隔をあけて配列し、ノズルホルダー２をその両側の支持部１３・１４でノズルホルダーの長手方向に移動自在に支持し、太陽電池パネルＸをスクライブＸ２に平行に相対的に搬送しながら、ノズルホルダー２の各噴射ノズル３から一本の直線状に噴射する高圧液を太陽電池パネルＸの多数のスクライブＸ２に対し平行に噴射させて洗浄する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、主に、薄膜太陽電池パネルの幅方向に一定間隔で設けられたスクライブ（浅い縦溝）内に付着するパーティクル（太陽電池パネルの製造工程で生じるガラス基板表面の微小な粒子や有機物や金属不純物）を高圧液を噴射して除去するために使用できる、薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置に関する。
上記の薄膜太陽電池パネルの製造では、ガラス板上に透明電極膜（ＴＣＯ膜）が形成されたガラス板の受け入れ、透明電極膜にレーザでスクライブを形成、透明電極膜上にＣＶＤにてシリコンなどからなる半導体光電変換層を形成、半導体光電変換層にレーザでスクライブを形成、半導体光電変換層上に導体膜を形成、導体膜および半導体光電変換層にレーザでスクライブを形成などの製造工程を経た後、裏面側にガラス板を貼り合わせる工程の前に、パーティクルを除去するための洗浄作業を行わねばならない。図６（ｃ）に示すように、スクライブＸ２内にパーティクルｐが付着していると、直列に接続された光電変換素子層(光電変換セル）Ｘ１間で絶縁不良が生じ、目的の発電量が得られなくなるからである。そこで、従来はブラシを回転させ、このブラシに洗浄液をかけながらブラシを前記スクライブ内に押し当て、洗浄対象物を相対的に移動させてスクライブ内に付着するパーティクルを擦り取るロールブラシが使用されている（例えば、非特許文献１参照）。
このようなロールブラシを用いた洗浄装置に関する先行技術に、「洗浄対象物としての薄膜太陽電池パネルがその分割ラインであるスクライブを走行方向と平行にした状態でコンベア上に載置され、コンベアの走行に伴って太陽電池パネルが水洗チャンバ内に導入される。そして、水洗チャンバ内においては、コンベア上面に向けて導電ブラシが設置され、噴射ノズル機構のノズル孔から洗浄水が噴射している。したがって、太陽電池パネルは走行中に噴射される洗浄水によって洗浄されるとともに、導電ブラシの先端は太陽電池パネルの光電変換セル集積領域および周縁領域と摺擦し、電気的に導通状態となって同電位に保たれる。」ところの洗浄装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
２００７年１月発行「エレクトロニクスを支える洗浄技術（発行所：(株)東レリサーチセンター調査研究部門）」（２７〜２８頁）
特開２００１−０４４４６７号公報（段落００２８〜００３１および図１〜図３）
しかしながら、上記したロールブラシにより、太陽電池パネルのスクライブ内のパーティクルを除去する洗浄方法では、つぎのような点で課題がある。
・図６（ａ）に示すように、スクライブＸ２の幅は５０〜８０μｍであるのに対し、ロールブラシのブラシ径は１００μｍ以上であるから、図６（ｂ）のようにスクライブＸ２内の隅角部に付着するパーティクルｐを除去しにくい。また、ロールブラシのブラシ線径が太いことも、スクライブＸ２内のパーティクルｐの除去を難しくしている。
・ロールブラシの先端をスクライブ内の透明電極膜面に押し付けて回転しながらパーティクルを擦り取るから、ブラシ内に混入した異物により成膜後の薄膜を傷つけるおそれがある。また、ブラシが摩耗するのに伴う高さ調整、ブラシ交換などのメンテナンスが必要になり、手間がかかる。
・２０〜２００ｋｇ／ｃｍ2 に加圧した洗浄液をノズル孔から噴射させてウェハやマスク表面に当て、パーティクルを除去する高圧液噴射洗浄装置が提案されているが、通常、太陽電池パネルの全面に高圧液を噴射させて洗浄する構造である。このため、スクライブ内にだけ高圧液を集中的に噴射させてパーティクルを確実に除去することが困難である。一方、パーティクルの除去能力を向上するために、ノズル孔から噴射させる高圧液の加圧力を上げ過ぎると、太陽電池パネル表面の成膜が剥離するおそれがある。
本発明は上述の点に鑑みなされたもので、薄膜太陽電池パネルに一定間隔で設けられた多数のスクライブ内に付着するパーティクルを確実に除去でき、しかも表面の成膜面に傷を付けたり成膜を剥離したりするおそれがない、薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置を提供することを目的としている。
上記の目的を達成するために本発明に係る薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置は、薄膜太陽電池パネルの幅方向に一定間隔で、かつ前記幅方向に直交する方向に連続して設けられた各スクライブに対し、高圧液を（拡散しない）一本の直線状に噴射して洗浄する高圧液噴射ノズルを備えた高圧液噴射洗浄装置であって、
前記太陽電池パネルの前記各スクライブの位置に対応して前記噴射ノズルをノズルホルダーの長手方向に沿って一定の間隔(前記スクライブの間隔）をあけて配列し、前記ノズルホルダーをその両側の支持部で（固定または前記ノズルホルダーの長手方向に移動自在に）支持し、前記太陽電池パネルを前記ノズルホルダーの長手方向に直交する方向で、かつ前記太陽電池パネルの前記スクライブに平行に相対的に搬送しながら、前記ノズルホルダーの前記各噴射ノズルから高圧液を前記太陽電池パネルの多数のスクライブに対し平行に噴射させて洗浄することを特徴としている。
上記の構成を有する高圧液噴射洗浄装置によれば、多数の噴射ノズルから高圧液が一直線状に噴射されるから、高い洗浄強度が得られる。また、各噴射ノズルから高圧液が太陽電池パネルのスクライブに向けて平行にかつ一直線状に噴射され、太陽電池パネルの各スクライブ内に当たるので、各パーティクル内のパーティクルが擦り取られるように除去される。この状態で、ノズルホルダーに対し太陽電池パネルがスクライブと平行な方向に相対的に搬送されるので、各スクライブ内に高圧液が一直線状に噴射され、スクライブ内のパーティクルが除去される。なお、一の前記噴射ノズルから一直線状に噴射される高圧液の外径（実施例の場合）は、図６（ｂ）に示すように太陽電池パネルＸの表面に当たった状態で例えば約１４０μｍであり、スクライブＸ２の幅よりやや大きく設定している。
請求項２に記載のように、前記ノズルホルダーをその両側の支持部でノズルホルダーの長手方向に移動自在に支持するとともに、前記支持部の少なくとも一方に、前記ノズルホルダーを微小移動させて位置決め可能な微小位置決め装置を設けることが好ましい。
このようにすれば、前記ノズルホルダーの噴射ノズルから噴射される高圧液が太陽電池パネルに当たる位置が太陽電池パネルの搬送などによりスクライブからずれる場合には、微小位置決め装置によって高圧液の当たる位置を調整してスクライブの位置に正確に合わせることができる。また、ノズルホルダーの一つの噴射ノズルから噴射される高圧液が当たる位置と太陽電池パネルの一つのスクライブの位置とを合わせることによって、太陽電池パネルの全てのスクライブに対しノズルホルダーから噴射される高圧液が正確に当たるようになる。
請求項３に記載のように、前記各噴射ノズルから噴射させる高圧液の噴射圧を可変にすることができる。
このようにすれば、太陽電池パネルの各スクライブ内の表面に露呈する透明電極などの成膜の硬度に応じて高圧液の噴射圧を調整できるので、高圧液が当たっても成膜が剥離しない圧力に設定できる。
請求項４に記載のように、両側の前記支持部に前記ノズルホルダーをその長手方向の軸回りに回転可能に支持して、前記噴射ノズルから噴射される高圧液の向きを調節できるようにすることができる。
このようにすれば、太陽電池パネルのスクライブ内の露呈面に対し垂直方向に真上からだけでなく、ある程度（露呈面に対し４５°あるいは３０°以下に）傾斜させた角度で高圧液を当てるように調整することができるので、スクライブ内からのパーティクルの掻き出しを効率よく行える。
請求項５に記載のように、前記ノズルホルダーの下面に前記各噴射ノズルを長手方向に沿って等間隔に配列するとともに、前記ノズルホルダーの長手方向に沿って高圧液供給路を前記各噴射ノズルに連通させて設け、前記高圧液供給路の端部に可撓性の高圧液供給管の一端を接続することができる。
このようにすれば、ノズルホルダーを両側の前記支持部に対し長手方向に移動させても、ノズルホルダーの移動時に可撓性の高圧液供給管が屈曲変形してノズルホルダー端部の変位を吸収する。そして、高圧液供給管を通じて高圧液供給路内に供給される高圧液は高圧液供給路内に臨む（連通する）各噴射ノズルからほぼ均等に洗浄液が高圧下で噴射される。
本発明に係る高圧液噴射洗浄装置は上記の構成を有するから、下記のような優れた効果を奏する。すなわち、
・太陽電池パネルの各スクライブ内に付着した導電性や半導電性のパーティクルを確実に除去して、光電変換素子間が短絡するなど太陽電池パネルの品質低下の原因になることを防止する。
・太陽電池パネルの各スクライブの位置およびその周辺にだけ的確に高圧液を噴射して洗浄するので、太陽電池パネルの外表面などスクライブ内以外の成膜を剥離したり傷を付けたりするおそれがない。
・太陽電池パネルの各スクライブ内にだけ集中的に高圧液を噴射させてパーティクルを除去するので、パーティクル内の隅角部に付着したパーティクルも確実に除去でき、効率的に洗浄できる。
・太陽電池パネルのスクライブ内の成膜だけでなく外表面の成膜に対しても、高圧液の圧力が強すぎて剥離するなど品質に悪影響を及ぼすおそれがない。
本発明の実施例１に係る薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置を示す正面図である。 図２（ａ）は本発明の洗浄装置１に使用されている高圧液噴射ノズルｎを示す正面図、図２（ｂ）は同Ａ−Ａ断面図である。図２（ｃ）はノズルホルダーの実施例を示すもので、図２（ｄ）のｃ−ｃ断面図、図２（ｄ）は図２（ｃ）のｄ−ｄ断面図である。 図３（ａ）は洗浄液供給管９をホルダー２の一端に接続した状態の正面を示す説明図、図３（ｂ）は洗浄液供給管９の他の実施例を示すもので、図３（ｂ）は高圧ホースからなる洗浄液供給管９’を接続した状態の正面を示す説明図である。 薄膜太陽電池パネルの一部を拡大して示す断面図である。 本発明の実施例１に係る高圧液噴射洗浄装置を概略的に示す前方上方より見た斜視図である。 図６（ａ）は薄膜太陽電池パネルの一部を拡大して概略的に示す一部を断面で表した斜視図、図６（ｂ）（ｃ）は薄膜太陽電池パネルの一部をさらに拡大して詳細に示す一部を断面で表した斜視図で、図６（ｂ）は太陽電池パネルに当たる高圧液の外径とスクライブの幅との関係について示している。 本発明の実施例３に係る高圧液噴射洗浄装置を示す前方上方より見た斜視図である。 本発明の実施例４に係る高圧液噴射洗浄装置を示す前方上方より見た斜視図である。 本発明の実施例５に係る高圧液噴射洗浄装置を示す前方上方より見た斜視図である。 本発明の実施例６に係る高圧液噴射洗浄装置を示す前方上方より見た斜視図である。
以下に、本発明に係る高圧液噴射洗浄装置の実施の形態について説明する。
図１に示すように、本実施例の高圧液噴射洗浄装置１は固定式の洗浄装置で、多数の高圧液噴射ノズル３を一定間隔（スクライブＸ２間の距離、以下スクライブ幅という）をあけて下面に配列したノズルホルダー２を備えている。ノズルホルダー２の本体２ａは、上方より見て長方形状の角筒状体からなり、その下面の長手方向に等間隔に多数の高圧液噴射ノズル３を配列している。ノズルホルダー本体２ａの長さは洗浄対象物である太陽電池パネルＸの幅よりやや長く、また太陽電池パネルＸの幅を十分にカバーできるように噴射ノズル３がノズルホルダー本体２ａの下面に装着されている。
本例の高圧液噴射洗浄装置１で洗浄する太陽電池パネルＸは、図４に示すように、板ガラスＸ４上に幅１０ｍｍ前後の光電変換素子層Ｘ１が幅５０〜８０μｍ程度のスクライブＸ２を挟んで直列に接続されている。太陽電池パネルＸの幅は例えば２２００ｍｍ前後のものがあり、多数(例えば１００〜２００個程度）のスクライブＸ２が図５に示すように、幅方向に直交する方向(長さ方向という）に連続して設けられている。
一方、高圧液噴射洗浄装置１のノズルホルダー本体２ａの長手方向に一定間隔で設けられる噴射ノズル３は、太陽電池パネルＸの各スクライブＸ２に対応する位置にスクライブ幅と一致するように配置されている。図２（ａ）は本発明の洗浄装置１に使用されている高圧液噴射ノズルｎを示す正面図、図２（ｂ）は同Ａ−Ａ断面図で、図２（ａ）に示すように、ステンレス製のノズル本体ｎ１の中心部に設けられたチップ孔ｎ２に、ダイヤモンドやサファイヤなどの宝石の中心位置に噴射孔ｎ４を穿設したノズルチップｎ３が埋設され、ノズル本体ｎ１の１つの高圧液噴射孔ｎｋから高圧液が一本の一直線状に噴射される。噴射ノズルｎの形状は本例に示すチップ方式の他、プレートに直接にノズル孔を加工した方式でもよい。なお、ｎ５はストレート孔、ｎ６は先方に向けて円錐状に拡径したテーパー孔である。各噴射ノズル３から噴射される高圧液WJは、図６（ｂ）に示すように太陽電池パネルＸに当たる位置で高圧液WJの外径がスクライブＸ２の溝幅より大きくなるように調整されている。
図５に示すように、本例の高圧液噴射洗浄装置１は、太陽電池パネルＸをノズルホルダー２に対し直交する方向に、いいかえればスクライブＸ２と平行な方向に一定速度で搬送しながら洗浄する。図１に示すように、太陽電池パネルＸの洗浄室１０の両側方に主支持台１１と副支持台１２が洗浄室１０を挟むように設置されている。ノズルホルダー２は両側の支持台１１・１２間に跨って配置され、各支持台１１・１２上に設置されたＬＭガイド１３・１４に対しノズルホルダー２が長手方向に移動可能に支持されている。ノズルホルダー２は本体２ａの両側方に断面四角形の支持杆２ｂ・２ｃが張り出して連接されている。一方(主支持台１１側）の支持杆２ｃの外端部には、ボールネジのナット部１５側が一体に固定され、ナット部１５にボールネジ軸１６の先端部が螺合している。
ボールネジ軸１６は、主支持台１１上に設置された一対の軸受装置１７により回転可能に支持されている。主支持台１１上にステッピングモータまたはサーボモータ１８がＬ形ステー１９により支持され、ステッピングモータまたはサーボモータ１８の駆動軸１８ａ の先端にボールネジ軸１６の基端側が一体回転可能に連結されている。そして、ステッピングモータまたはサーボモータ１８によりボールネジ軸１６を特定方向に所定回転させることにより、ノズルホルダー２が長手方向に微小距離移動し、位置決めされる。本実施例では、図５に示すようにノズルホルダー２の左端の噴射ノズル３から噴射される高圧液が当たる、太陽電池パネルＸのスクライブＸ２の位置において、その延長線上にスクライブ位置センサー２０が、図示を省略した洗浄室１０のフレームに取り付けられている。この位置センサー２０が太陽電池パネルＸの左端のスクライブＸ２の位置を事前に検知し、位置センサー２０に接続されたステッピングモータまたはサーボモータ１８によりノズルホルダー２の左端の噴射ノズル３から噴射される高圧液が左端のスクライブＸ２に当たるように位置決めする。この結果、ノズルホルダー２の残りの噴射ノズルから噴射される高圧液が当たる位置も、太陽電池パネルＸの各スクライブＸ２の位置に一致するようになる。したがって、太陽電池パネルＸをノズルホルダー２に対し直交する方向に搬送する装置に、後述する直動用キャリッジ２１のような高精度の搬送装置を使用する代わりに、例えばベルトコンベアを用いて太陽電池パネルＸを搬送することができる。
また、図５に示すように太陽電池パネルＸは直動用キャリッジ２１上に載置され、各スクライブＸ２の長手方向と平行に移動する。このため、本実施例では、洗浄室１０の一方の傍において、レール２２が支持台１１・１２間に跨って配置されたノズルホルダー２の長手方向に直交する方向に敷設されており、レール２２に沿って搬送台車２３が走行する。搬送台車２３は一対の連結部材２４・２４で直動用キャリッジ２１に連結され、搬送台車２３の走行に伴って直動用キャリッジ２１がレール２４と平行に搬送される。なお、太陽電池パネルＸは直動用キャリッジ２１上に吸盤２５を介して固定され、直動用キャリッジ２１により搬送される。
図２（ｃ）（ｄ）は多数の噴射ノズル３を下面に配列したノズルホルダー本体２ａの実施例を示す図面で、本例のノズルホルダー本体２ａは、図２（ｃ）・図２（ｄ）に示すように、断面四角形状の長尺なホルダー本体２ａの上部に高圧液供給路３２が長手方向に沿って設けられている。また、多数の噴射ノズル３を一定ピッチで装着したノズル部４がホルダー本体２ａの下部に設けられ、ノズル部４には各噴射ノズル３の下方に臨む下端を開放した開口４ｃが形成されている。さらに、ノズルホルダー本体２ａの下部の一端部には、高圧液供給路３２に連通する接続孔４ｄが設けられ、この接続孔４ｄに高圧液供給路３２の一端が接続されている。なお、本例の場合、金属製またはゴム製で外周面に金属ブレード（ワイヤー）を巻装して強化した高圧ホースからなる可撓性を有する高圧液供給管９（図３（ａ）参照）を高圧液供給路３２の一端部に接続する。
金属製供給管９の他端は、高圧液供給ポンプ（図示せず）に接続され、この高圧液供給ポンプから金属製供給管９を介してノズルホルダー本体２ａの高圧液供給路３２の一端に接続され、その高圧液供給路３２から各噴射ノズル３へ高圧液が供給され、各噴射ノズル３から一直線状に高圧液が噴射される。なお、金属製の高圧液供給管９は、図１に示すように螺旋状に複数回巻装した部分を横向きに設けて高圧液供給路３２の一端部の上端に接続しているが、高圧液供給管３２が可撓性を備えていれば螺旋状にしなくてもよく、例えば直線状にして供給管９の全体が湾曲するようにしてもよい。また、図３（ｂ）は高圧ホースからなる高圧液供給管９’の他の実施例を示している。
図示は省略するが、図１に示す高圧液噴射洗浄装置１において、ノズルホルダー２の本体２ａを両側方から張り出して設けられる支持杆２ｂ・２ｃに対しそれらの軸回りに所定の角度を回転させられるように構成している。
本実施例２に係る高圧液噴射洗浄装置１では、太陽電池パネルＸのスクライブＸ２内のパーティクルｐを真上から高圧液を垂直に当てただけでは除去しにくい場合に、例えばノズルホルダー２に向かって搬送されてくる太陽電池パネルＸに対し対向するように、高圧液を鋭角に当てて除去することができる。本実施例２の高圧液噴射洗浄装置１では、噴射ノズル３から噴射される高圧液の圧力を調整すると同時に、図６に示す太陽電池パネルＸに対し高圧液が当たる角度を調整することにより、スクライブＸ２内のパーティクルｐを確実に除去し、パーティクルｐも掻き出しを効率よく行うことができる。
図７は本発明の別の実施例に係る高圧液噴射洗浄装置を示す前方上方より見た斜視図である。図７に示すように、本実施例３に係る高圧液噴射洗浄装置１−３'が上記実施例１の高圧液噴射洗浄装置１と相違する点は、以下のとおりである。太陽電池パネルＸを洗浄台１０ａ上に載置して定位置に固定した状態で、ノズルホルダー２を太陽電池パネルＸのスクライブＸ２に沿って移動するようにしている。
このため、洗浄台１０ａの両側方にレール２２を敷設し、各レール２２に沿って走行する搬送台車２３上にノズルホルダー２を支持台１１・１２ごと搭載している。スクライブ位置センサー２０はノズルホルダー２に、図示を省略した支持具で支持し、ノズルホルダー２と一体で移動するようにしている。その他の構成および使用態様については上記実施例１と共通するので、共通する部材には同一の符号を付けて説明を省略する。
図８は本発明のさらに別の実施例に係る高圧液噴射洗浄装置を示す前方上方より見た斜視図である。図８に示すように、本実施例４に係る高圧液噴射洗浄装置１−４'が上記実施例１の高圧液噴射洗浄装置１と相違する点は、以下のとおりである。コストダウンを図るために、サーボモータ１８やＬＭガイド１３・１４などの微動位置決め機構を省くとともに、スクライブ位置センサー２０も省いている。一方、ノズルホルダー２の噴射ノズル３から噴射される高圧液の噴流形状を下方へ向けやや拡散するようにするか、高圧液の噴流径を大きくするかして、太陽電池パネルＸのスクライブＸ２に当たる位置が多少ずれても、スクライブＸ２内のパーティクルｐを除去できるようにしている。なお、ノズルホルダー２に対し太陽電池パネルＸを相対的に移動させる機構としては、上記実施例１および上記実施例３のいずれでも可能であるが、機構的には上記実施例１の方が簡単である。その他の構成および使用態様については上記実施例１と共通するので、共通する部材には同一の符号を付けて説明を省略する。
図９は本発明のさらに別の実施例に係る高圧液噴射洗浄装置を示す前方上方より見た斜視図である。図９に示すように、本実施例５に係る高圧液噴射洗浄装置１−５は上記実施例４の高圧液噴射洗浄装置１−４と同様にコストダウンを図るために構造を簡略したもので、上記実施例５のように噴射される高圧液WJの噴流形状を下方へ向けやや拡散させる代わりに、ノズルホルダー２の一端を電磁発振機２６に取り付けて、ノズルホルダー２を長手方向に微振動させるようにしている。これにより、太陽電池パネルＸのスクライブＸ２に当たる位置が多少ずれても、スクライブＸ２内のパーティクルｐ（図６）を除去できるようにしている。なお、ノズルホルダー２に対し太陽電池パネルＸを相対的に移動させる機構としては、上記実施例１および上記実施例３のいずれの場合も適用可能であるが、機構的には上記実施例１の方が簡単であることから、太陽電池パネルＸを移動させるようにしている。その他の構成および使用態様については上記実施例１と共通するので、共通する部材には同一の符号を付けて説明を省略する。
図１０は本発明のさらに別の実施例に係る高圧液噴射洗浄装置を示す前方上方より見た斜視図である。図１０に示すように、本実施例６に係る高圧液噴射洗浄装置１−６は上記実施例１の高圧液噴射洗浄装置１において、太陽電池パネルＸの全表面を扇状に拡散した加圧力の弱い洗浄液により、均一に洗浄するノズルホルダー２’を組み合わせた洗浄装置からなる。ノズルホルダー２’は太陽電池パネルＸの幅方向に対し傾斜させて配置している。なお、洗浄液が扇状に拡散する噴射ノズル３'を設ける代わりに、加圧力の弱い洗浄液を一本の直線状に噴射させながら、ノズルホルダー２’を長手方向の軸回りに所定の回転角度（例えば３０°）の範囲内で例えばモータとピストンクランク機構などを用いて往復回転させるようにしてもよい。本例の高圧液噴射洗浄装置１−６により、ノズルホルダー２にて太陽電池パネルＸのスクライブＸ２内を強力に洗浄し、ノズルホルダー２’では洗浄液の加圧力を調整して成膜部に損傷を与えないようにして全体的に均一に洗浄することが可能になる。
１・１−３・１−４・１−５・１−６ 高圧液噴射洗浄装置
２ ノズルホルダー
２ａノズルホルダー本体
２ｂ・２ｃ支持杆
３ 噴射ノズル
４ ノズル部
４ｃ開口
４ｄ接続孔
９・９’高圧液供給管
１０ 洗浄室
１０ａ洗浄台
１１ 主支持台
１２ 副支持台
１３・１４ ＬＭガイド
１５ ナット部
１６ ボールネジ軸
１７ 軸受装置
１８ サーボモータ
１９ Ｌ形ステー
２０ スクライブ位置センサー
２１ 直動用キャリッジ
２２ レール
２３ 搬送台車
２４ 連結部材
２５ 吸盤
２６ 電磁発振機
３２ 高圧液供給路
Ｘ 太陽電池パネル
Ｘ２スクライブ
Ｘ３光電変換素子層
Ｘ４板ガラス

Claims (5)

  1. 薄膜太陽電池パネルの幅方向に一定間隔で、かつ前記幅方向に直交する方向に連続して設けられた各スクライブに対し、高圧液を一本の直線状に噴射して洗浄する高圧液噴射ノズルを備えた薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置であって、
    前記太陽電池パネルの前記各スクライブの位置に対応して前記噴射ノズルをノズルホルダーの長手方向に沿って一定の間隔をあけて配列し、
    前記ノズルホルダーをその両側の支持部で支持し、
    前記太陽電池パネルを前記ノズルホルダーの長手方向に直交する方向で、かつ前記太陽電池パネルの前記スクライブに平行に相対的に搬送しながら、前記ノズルホルダーの前記各噴射ノズルから高圧液を前記太陽電池パネルの多数のスクライブに対し平行に噴射させて洗浄することを特徴とする薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置。
  2. 前記ノズルホルダーをその両側の支持部でノズルホルダーの長手方向に移動自在に支持するとともに、前記支持部の少なくとも一方に、前記ノズルホルダーを微小移動させて位置決め可能な微小位置決め装置を設けたことを特徴とする請求項１記載の薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置。
  3. 前記各噴射ノズルから噴射させる高圧液の噴射圧を可変にしたことを特徴とする請求項１または２記載の薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置。
  4. 両側の前記支持部に前記ノズルホルダーをその長手方向の軸回りに回転可能に支持して、前記噴射ノズルから噴射される高圧液の向きを調節できるようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置。
  5. 前記ノズルホルダーの下面に前記各噴射ノズルを長手方向に沿って等間隔に配列するとともに、前記ノズルホルダーの長手方向に沿って高圧液供給路を前記各噴射ノズルに連通させて設け、前記高圧液供給路の端部に可撓性の高圧液供給管の一端を接続したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載の薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置。
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CN201080012131.1A CN102355960B (zh) 2009-04-07 2010-03-31 薄膜太阳能电池板的高压液体喷射清洗装置及方法
PCT/JP2010/002385 WO2010116691A1 (ja) 2009-04-07 2010-03-31 薄膜太陽電池パネルの高圧液噴射洗浄装置および方法
US13/263,625 US9079226B2 (en) 2009-04-07 2010-03-31 High-pressure liquid jet cleaner and high-pressure liquid jet cleaning method for cleaning thin film solar cell panel
KR1020117023133A KR101317060B1 (ko) 2009-04-07 2010-03-31 박막 태양전지 패널의 고압액 분사 세정장치 및 방법
EP10761397.8A EP2418022B1 (en) 2009-04-07 2010-03-31 Apparatus and method for cleaning thin film solar cell panel by jetting high-pressure liquid
TW99110066A TWI459578B (zh) 2009-04-07 2010-04-01 Thin film solar cell panel high pressure liquid jet cleaning device and method

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014097679A1 (ja) * 2012-12-21 2014-06-26 シャープ株式会社 洗浄装置
WO2016143929A1 (ko) * 2015-03-12 2016-09-15 ㈜하이레벤 이상 유동 발생 노즐이 구비된 태양광 발전설비의 효율 향상 장치
JP6013557B1 (ja) * 2015-06-02 2016-10-25 株式会社Ｎｓｃ スプレイエッチング装置
JP2017005264A (ja) * 2016-08-30 2017-01-05 株式会社Ｎｓｃ スプレイエッチング装置
KR20190019509A (ko) * 2017-08-18 2019-02-27 (주) 엔피홀딩스 이동형 기판 세정장치 및 이를 이용한 세정방법

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ23998U1 (cs) * 2011-04-21 2012-06-21 Kasíková@Gabriela Mechanické zarízení pro zvýšení výkonu fotovoltaických panelu
US9299593B2 (en) * 2011-08-16 2016-03-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Semiconductor device cleaning method and apparatus
ES2439805B1 (es) * 2011-11-23 2014-11-14 Jonás VILLARRUBIA RUIZ Armadura para multiples heliostatos o paneles fotovoltaicos con ajuste independiente y arrastre automatico
JP2013118209A (ja) * 2011-12-01 2013-06-13 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 基板洗浄装置
CN103831261A (zh) * 2012-11-21 2014-06-04 浚丰太阳能(江苏)有限公司 一种光伏组件自动清洁器
KR101373069B1 (ko) * 2012-11-29 2014-03-12 주식회사 한국에너지 태양광 모듈 효율 향상 시스템
JP6329380B2 (ja) * 2014-02-07 2018-05-23 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置の製造方法および製造装置
US20150349706A1 (en) 2014-06-03 2015-12-03 Sunpower Corporation Solar module cleaner
CN104191538B (zh) * 2014-08-28 2016-04-13 北京京仪集团涿鹿光伏材料有限公司 一种切片机断线后晶片的冲洗处理装置
CN104201980B (zh) * 2014-08-28 2016-09-07 齐鲁工业大学 一种太阳能电池板的清洗装置及清洗方法
US10112344B2 (en) * 2015-06-16 2018-10-30 Audubon Machinery Corporation Machine for removing substrate material, for washing, and for drying parts produced by a 3-D printer
CN106531843B (zh) * 2016-11-22 2017-12-01 郭冰冰 一种太阳能光伏电池板制作用硅片高效清洗设备
CN106694426A (zh) * 2016-12-02 2017-05-24 哈密天诚新能源设备维护有限公司 一体式无触高压光伏板清洗机
JP6487469B2 (ja) * 2017-01-16 2019-03-20 株式会社Ｇｏｌｄｅｎ Ｌｅａｆ−Ｗｏｒｋｓ 太陽光パネル洗浄装置および太陽光パネル洗浄方法
US10771008B2 (en) 2017-08-04 2020-09-08 Saudi Arabian Oil Company Robotic solar panel cleaning system
KR102586367B1 (ko) 2017-12-05 2023-10-11 포스트프로세스 테크놀로지스 인코포레이티드 표면 마감 및 서포트 재료 제거를 위한 방법 및 장치(deci duo)
US11524464B2 (en) 2017-12-31 2022-12-13 Postprocess Technologies, Inc. Method and apparatus for support removal using directed atomized and semi-atomized fluid
KR20200101366A (ko) 2017-12-31 2020-08-27 포스트프로세스 테크놀로지스 인코포레이티드 유도된 원자화 및 반원자화 유체를 사용한 서포트 제거 방법 및 장치
CN110841941B (zh) * 2019-10-10 2021-01-19 西安交通大学 一种自动换向的光伏电池清扫机器人及使用方法
CN111900508A (zh) * 2020-07-30 2020-11-06 安徽绿沃循环能源科技有限公司 一种退役三元电池的回收方法
CN112845282B (zh) * 2020-12-26 2022-05-06 烟台恒邦泵业有限公司 一种对水泵内多级叶片进行清洁的结构
CN113037184B (zh) * 2021-02-25 2023-03-28 深圳市名洋能源科技有限公司 一种基于角度调节和清洁功能的太阳能电池板装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001000336A1 (fr) * 1999-06-24 2001-01-04 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Procede et dispositif de lavage par pulverisation d'un fluide
JP2001044466A (ja) * 1999-07-29 2001-02-16 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 集積型薄膜太陽電池の洗浄方法及びその装置
JP2002148818A (ja) * 2000-11-15 2002-05-22 Fuji Photo Film Co Ltd 薬液処理装置及び方法
JP2006122784A (ja) * 2004-10-27 2006-05-18 Sharp Corp 基板洗浄方法および基板洗浄装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8502656U1 (de) * 1985-02-01 1985-05-02 Gebr. Bellmer GmbH + Co KG Maschinenfabrik, 7532 Niefern Reinigungsvorrichtung fuer ein endlosband
US6365531B1 (en) * 1999-06-02 2002-04-02 Kaneka Corporation Cleaning and drying method and apparatus for manufacturing semiconductor devices
JP2000349059A (ja) * 1999-06-02 2000-12-15 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法及び製造装置
AU772539B2 (en) * 1999-07-29 2004-04-29 Kaneka Corporation Method for cleaning photovoltaic module and cleaning apparatus
JP2001044467A (ja) 1999-07-29 2001-02-16 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 集積型薄膜太陽電池の洗浄装置
JP2002014881A (ja) * 2000-06-30 2002-01-18 Fujitsu Ltd ネットワーク運用装置及びその方法
JP4849199B2 (ja) 2000-08-02 2012-01-11 永田醸造機械株式会社 円弧状に移動するノズルを備えた洗浄装置
KR100894647B1 (ko) * 2001-10-06 2009-04-24 엘지디스플레이 주식회사 세정 장치
JP2004335838A (ja) * 2003-05-09 2004-11-25 Shin Etsu Handotai Co Ltd 洗浄装置、洗浄システム及び洗浄方法
KR200344321Y1 (ko) 2003-12-22 2004-03-09 주식회사 젯텍 디플래시장치용 초고압 액상 세척매체의 분사노즐
KR101049926B1 (ko) * 2004-02-18 2011-07-15 코닝 제팬 가부시끼 가이샤 판재의 종형 가공 라인
US20060048800A1 (en) * 2004-09-09 2006-03-09 Rast Rodger H Automated building exterior cleaning apparatus
JP2009093207A (ja) 2007-10-03 2009-04-30 Sharp Corp 表示システム
CN101195116A (zh) * 2007-12-18 2008-06-11 上海本通实业有限公司 一种太阳能电池板自动除尘装置
JP5058100B2 (ja) * 2008-08-22 2012-10-24 川崎重工業株式会社 高圧洗浄液噴射式洗浄装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001000336A1 (fr) * 1999-06-24 2001-01-04 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Procede et dispositif de lavage par pulverisation d'un fluide
JP2001044466A (ja) * 1999-07-29 2001-02-16 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 集積型薄膜太陽電池の洗浄方法及びその装置
JP2002148818A (ja) * 2000-11-15 2002-05-22 Fuji Photo Film Co Ltd 薬液処理装置及び方法
JP2006122784A (ja) * 2004-10-27 2006-05-18 Sharp Corp 基板洗浄方法および基板洗浄装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014097679A1 (ja) * 2012-12-21 2014-06-26 シャープ株式会社 洗浄装置
JP2014138922A (ja) * 2012-12-21 2014-07-31 Sharp Corp 洗浄装置
WO2016143929A1 (ko) * 2015-03-12 2016-09-15 ㈜하이레벤 이상 유동 발생 노즐이 구비된 태양광 발전설비의 효율 향상 장치
JP6013557B1 (ja) * 2015-06-02 2016-10-25 株式会社Ｎｓｃ スプレイエッチング装置
WO2016194647A1 (ja) * 2015-06-02 2016-12-08 株式会社Ｎｓｃ スプレイエッチング装置
JP2017005264A (ja) * 2016-08-30 2017-01-05 株式会社Ｎｓｃ スプレイエッチング装置
KR20190019509A (ko) * 2017-08-18 2019-02-27 (주) 엔피홀딩스 이동형 기판 세정장치 및 이를 이용한 세정방법
KR102011568B1 (ko) * 2017-08-18 2019-10-21 주식회사 뉴파워 프라즈마 이동형 기판 세정장치 및 이를 이용한 세정방법

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