JP2010209411A - 半導体液晶製造装置用アルミニウム合金部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】硬質粒子が分散された陽極酸化皮膜が表面に形成された半導体液晶製造装置用アルミニウム合金部材であって、前記硬質粒子は、αAl2O3、SiO2、SiC、Si3N4、BN、ダイヤモンドから選択される1種または2種以上からなる硬質粒子であると共に、前記硬質粒子の粒径は100nm〜1μmであり、且つ、前記陽極酸化皮膜の表面には、1000〜3500個/mm2の割合で前記硬質粒子が分散している
【選択図】なし
Description
本発明の半導体液晶製造装置用のアルミニウム合金部材は、アルミニウム合金でなる基材の表面に陽極酸化皮膜が形成されており、その陽極酸化皮膜には硬質粒子が分散されている。本明細書において、この硬質粒子とは、αAl2O3、SiO2、SiC、Si3N4、BN、ダイヤモンドから選択される1種または2種以上からなる硬質粒子のことをいう。
本発明では、まず、陽極酸化皮膜に分散させる硬質粒子の粒径を規定する。尚、本発明でいう硬質粒子の粒径とは、粒の平均径のことをいう。硬質粒子の粒径が0.1μmより小さい場合は、陽極酸化皮膜の硬質化が不十分になってしまう。これに対し、硬質粒子の粒径が1μmより大きい場合は、陽極酸化皮膜中に取り込まれる硬質粒子の量が十分な量ではなくなり、この場合も陽極酸化皮膜の硬質化が不十分になってしまう。従って、陽極酸化皮膜に分散させる硬質粒子の粒径は、0.1μm以上、1μm以下とする。
本発明では、陽極酸化皮膜に分散させる硬質粒子の、陽極酸化皮膜表面における単位面積当たりの分散状態(割合)も規定する。陽極酸化皮膜に分散した硬質粒子の割合が、1000個/mm2より少ない場合は、陽極酸化皮膜の硬質化が不十分になってしまう。これに対し、陽極酸化皮膜に分散した硬質粒子の割合が、3500個/mm2より多い場合は、陽極酸化皮膜は高硬度となるものの、耐クラック性が逆に劣化してしまう。陽極酸化皮膜に分散した硬質粒子の割合のより好ましい下限は、1500個/mm2である。一方、陽極酸化皮膜に分散した硬質粒子の割合のより好ましい上限は、3300個/mm2である。
αAl2O3、SiO2、SiC、Si3N4、BN、ダイヤモンドから選択される1種または2種以上からなる硬質粒子を陽極酸化皮膜に分散させる場合に、その硬質粒子の粒径を100nm〜1μmの範囲とし、その硬質粒子を陽極酸化皮膜の表面に1000〜3500個/mm2の割合で分散させるための製造方法は以下の通りである。
陽極酸化皮膜のビッカース硬度がHv.400以上のことをいう。
Claims (2)
- 硬質粒子が分散された陽極酸化皮膜が表面に形成されてなる半導体液晶製造装置用アルミニウム合金部材であって、
前記硬質粒子は、αAl2O3、SiO2、SiC、Si3N4、BN、ダイヤモンドから選択される1種または2種以上からなる硬質粒子であると共に、
前記硬質粒子の粒径は0.1〜1μmであり、
且つ、前記陽極酸化皮膜の表面には、1000〜3500個/mm2の割合で前記硬質粒子が分散していることを特徴とする半導体液晶製造装置用アルミニウム合金部材。 - 少なくとも前記硬質粒子には、αAl2O3が含まれていることを特徴とする請求項1記載の半導体液晶製造装置用アルミニウム合金部材。
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