JP7190491B2 - フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材及びフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材 - Google Patents
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- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 135
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims description 98
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 25
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 16
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 13
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 13
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 12
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 10
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 14
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 12
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 229910019018 Mg 2 Si Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 4
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 4
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 3
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000012438 extruded product Nutrition 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 230000002431 foraging effect Effects 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229910001094 6061 aluminium alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- -1 composed of Al oxide Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000000550 scanning electron microscopy energy dispersive X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/06—Alloys based on aluminium with magnesium as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/02—Alloys based on aluminium with silicon as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/04—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of aluminium or alloys based thereon
- C22F1/05—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of aluminium or alloys based thereon of alloys of the Al-Si-Mg type, i.e. containing silicon and magnesium in approximately equal proportions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/04—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of aluminium or alloys based thereon
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Description
前記アルミニウム合金部材中のFe系晶出物の平均長径を「D」(μm)とし、前記アルミニウム合金部材中の平均結晶粒径を「Y」(μm)としたとき、下記式(1)の関係式を満たしており、
log10Y < -0.320D + 4.60 … 式(1)
前記アルミニウム合金部材は、半導体製造装置用の部材として用いられるものであることを特徴とするフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材。
log10Y < -0.320D + 4.60 … 式(1)
上記式(1)の関係式を満たしていることを特徴とする。本発明に係るフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材1は、半導体製造装置用の部材として用いられる。
log10Y < -0.320D + 4.60 … 式(1)
上記式(1)の関係式を満たしている構成である。
Si:0.3質量%~0.8質量%、Mg:0.5質量%~5.0質量%、Fe:0.05質量%~0.5質量%を含有し、Cuの含有率が0.5質量%以下であり、Mnの含有率が0.30質量%以下であり、Crの含有率が0.30質量%以下であり、残部がAl及び不可避不純物からなる組成となるように溶解調製されたアルミニウム合金溶湯を得た後、該アルミニウム合金溶湯を鋳造加工することによって鋳造物(鋳造板材、ビレット等)を得る。鋳造方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を用いればよく、例えば、連続鋳造圧延法、ホットトップ鋳造法、フロート鋳造法、半連続鋳造法(DC鋳造法)等が挙げられる。
得られた鋳造物に対して均質化熱処理を行う。即ち、鋳造物を450℃~580℃の温度で5時間~10時間保持する均質化熱処理を行うのが好ましい。450℃未満では、鋳塊物の軟化が不十分となり、熱間加工時の圧力が高くなって、外観品質が低下するし、生産性も低下するので、好ましくない。一方、580℃を超えると、鋳塊物の内部に局部溶解が発生するので、好ましくない。
前記鋳塊物に対して熱間加工を行う。前記熱間加工としては、特に限定されるものではないが、例えば、圧延加工、押出加工、鍛造加工等が挙げられる。前記圧延加工時の加熱温度は450℃~550℃に設定するのが好ましい。また、前記押出加工時の加熱温度は450℃~550℃に設定するのが好ましい。また、前記鍛造加工時の加熱温度は450℃~550℃に設定するのが好ましい。
次に、前記熱間加工して得られた加工物(圧延物、押出物等)を加熱して溶体化処理を施す。前記溶体化処理は、520℃~550℃の温度で2時間~6時間行うのが好ましい。
次に、溶体化処理後の前記加工物(圧延物、押出物等)を170℃~210℃の温度で5時間~11時間加熱して時効処理を行う。
前記時効処理後のフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材1に対して陽極酸化処理を行うことによって、前記アルミニウム合金部材の表面に陽極酸化皮膜を形成する。陽極酸化処理の電解液としては、特に限定されるものではないが、例えば硫酸水溶液等が挙げられる。また、電解浴(電解液)の温度を10℃~40℃に制御して陽極酸化を行うのが好ましい。陽極酸化の際の電圧は、特に限定されるものではないが、10V~100Vの範囲に設定するのが好ましく、陽極酸化処理時間は、1分間~60分間に設定するのが好ましい。
次に、陽極酸化皮膜形成後のアルミニウム合金部材に対してフッ化処理を行う。例えば、前記陽極酸化皮膜形成後のアルミニウム合金部材をチャンバー内にセットして該チャンバー内を真空にした後、チャンバー内にフッ素ガス含有気体を導入し、このフッ素ガス雰囲気下で加熱を行うことによって、アルミニウム合金部材の表面にフッ化物皮膜2を形成する。フッ素ガス雰囲気下での加熱温度は、250℃~350℃に設定するのが好ましい。こうして上記フッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材10を得る。或いは、例えば用途が真空チャンバーの部品である場合には、前記アルミニウム合金部材を真空チャンバーの部品として使用を開始した後、真空チャンバー内を清掃するのにフッ素ガスが使用されるが、このフッ素ガスを使用して清掃するたび毎にアルミニウム合金部材の表面にフッ化物皮膜が再生産されて厚く形成されていく、という製法を採用してもよい。或いは、例えば、前記アルミニウム合金部材をシャワーヘッド形状に加工したものを半導体の生産設備にセットした状態で、フッ素ガス雰囲気下で加熱を行ってフッ化物皮膜2を形成してもよいし、プラズマを用いてフッ化物皮膜2を形成してもよく、こうしてフッ化物皮膜を形成した後、そのまま半導体生産に進むようにしてもよい。
Si:0.50質量%、Mg:1.15質量%、Cu:0.20質量%、Fe:0.07質量%、Mn:0.02質量%、Cr:0.05質量%を含有し、残部がAl及び不可避不純物からなるアルミニウム合金を加熱してアルミニウム合金溶湯を得た後、該アルミニウム合金溶湯を用いてDC鋳造法により厚さ200mmの板状鋳塊物を作製した。
アルミニウム合金溶湯を形成するためのアルミニウム合金として、表1に示す合金組成のアルミニウム合金(Si、Mg、Cu、Fe、Mn、Crをそれぞれ表1に示す割合で含有し、残部がAl及び不可避不純物からなるアルミニウム合金)を用いた以外は、実施例1と同様にして、図1に示すフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材1を得、次いで実施例1と同様にして、図2に示すフッ化物皮膜2を有するアルミニウム合金部材10を得た。
アルミニウム合金溶湯を形成するためのアルミニウム合金として、表1に示す合金組成のアルミニウム合金(Si、Mg、Cu、Fe、Mn、Crをそれぞれ表1に示す割合で含有し、残部がAl及び不可避不純物からなるアルミニウム合金)を用い、熱間圧延時の圧下率を77%に代えて99%に設定した以外は、実施例1と同様にして、図1に示すフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材1を得、次いで実施例1と同様にして、図2に示すフッ化物皮膜2を有するアルミニウム合金部材10を得た。
アルミニウム合金溶湯を形成するためのアルミニウム合金として、表1に示す合金組成のアルミニウム合金(Si、Mg、Cu、Fe、Mn、Crをそれぞれ表1に示す割合で含有し、残部がAl及び不可避不純物からなるアルミニウム合金)を用いた以外は、実施例1と同様にして、フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材を得、次いで実施例1と同様にして、フッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材を得た。
アルミニウム合金溶湯を形成するためのアルミニウム合金として、表1に示す合金組成のアルミニウム合金(Si、Mg、Cu、Fe、Mn、Crをそれぞれ表1に示す割合で含有し、残部がAl及び不可避不純物からなるアルミニウム合金)を用い、熱間圧延時の圧下率を77%に代えて99%に設定した以外は、実施例1と同様にして、フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材を得、次いで実施例1と同様にして、フッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材を得た。
フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材の表面をバフ研磨後、Barker法でエッチング処理した。水洗し、乾燥させた後に、エッチング処理面を光学顕微鏡で観察し、切断法により「平均結晶粒径(Y)」を測定した。これらの結果を表1に示す。
フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材の表面をバフ研磨後、SEM(走査電子顕微鏡)観察を行い、反射電子像で白く見える晶出物を抽出し、これら抽出した晶出物の絶対最大長を画像解析装置で測定した。Fe系晶出物の平均長径(D)は、315μm×215μmの長方形の視野領域から任意に抽出した晶出物から円相当直径が0.3μm以下のものを除外し、絶対最大長の大きなものから100個選んだ際のこれら100個のデータの平均値である。これらの結果を表1に示す。
(判定基準)
「○」…黒点部が認められない(存在しない)
「△」…黒点部が僅かに認められる
「×」…黒点部が顕著に存在する。
2…フッ化物皮膜
3…第1皮膜層
4…第2皮膜層
10…フッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材
Claims (4)
- Si:0.3質量%~0.8質量%、Mg:0.5質量%~5.0質量%、Fe:0.05質量%~0.5質量%を含有し、Cuの含有率が0.5質量%以下であり、Mnの含有率が0.30質量%以下であり、Crの含有率が0.30質量%以下であり、残部がAl及び不可避不純物からなる、フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材であって、
前記アルミニウム合金部材中のFe系晶出物の平均長径を「D」(μm)とし、前記アルミニウム合金部材中の平均結晶粒径を「Y」(μm)としたとき、下記式(1)の関係式を満たしており、
log10Y < -0.320D + 4.60 … 式(1)
前記アルミニウム合金部材は、半導体製造装置用の部材として用いられるものであることを特徴とするフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材。 - 請求項1に記載のフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材の表面の少なくとも一部にフッ化物皮膜が形成されていることを特徴とするフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材。
- 前記フッ化物皮膜の厚さが0.1μm~10μmである請求項2に記載のフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材。
- 前記フッ化物皮膜は、前記フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材の表面に形成された第1皮膜層と、さらに前記第1皮膜層の表面に形成された第2皮膜層とからなり、
前記第1皮膜層は、フッ化マグネシウムを含有する皮膜であり、前記第2皮膜層は、フッ化アルミニウムおよびアルミニウムの酸化物を含有する皮膜である請求項2または3に記載のフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018127378 | 2018-07-04 | ||
JP2018127378 | 2018-07-04 | ||
JP2018229556 | 2018-12-07 | ||
JP2018229556 | 2018-12-07 | ||
PCT/JP2019/016772 WO2020008704A1 (ja) | 2018-07-04 | 2019-04-19 | フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材及びフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020008704A1 JPWO2020008704A1 (ja) | 2021-08-02 |
JP7190491B2 true JP7190491B2 (ja) | 2022-12-15 |
Family
ID=69060784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020528694A Active JP7190491B2 (ja) | 2018-07-04 | 2019-04-19 | フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材及びフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210317551A1 (ja) |
JP (1) | JP7190491B2 (ja) |
CN (1) | CN112236536B (ja) |
TW (1) | TWI794488B (ja) |
WO (1) | WO2020008704A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113692455B (zh) * | 2019-04-16 | 2022-09-02 | 昭和电工株式会社 | 氟化物皮膜形成用铝合金构件和具有氟化物皮膜的铝合金构件 |
KR20220028070A (ko) * | 2019-10-07 | 2022-03-08 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 내식성 부재 |
JPWO2021182107A1 (ja) * | 2020-03-11 | 2021-09-16 | ||
CN113186255A (zh) * | 2021-05-12 | 2021-07-30 | 深圳思勤医疗科技有限公司 | 基于单分子测序检测核苷酸变异方法与装置 |
CN117677735A (zh) * | 2021-09-06 | 2024-03-08 | 株式会社Uacj | 半导体制造装置用铝构件及其制造方法 |
JP2023042772A (ja) * | 2021-09-15 | 2023-03-28 | 株式会社レゾナック | フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材及びフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996015295A1 (en) | 1994-11-16 | 1996-05-23 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Vacuum chamber made of aluminum or its alloy, and surface treatment and material for the vacuum chamber |
JP3871544B2 (ja) | 2001-10-12 | 2007-01-24 | 昭和電工株式会社 | 皮膜形成処理用アルミニウム合金、ならびに耐食性に優れたアルミニウム合金材およびその製造方法 |
WO2015060331A1 (ja) | 2013-10-23 | 2015-04-30 | 九州三井アルミニウム工業株式会社 | アルミニウム合金及びそれを用いた半導体製造装置、プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3691089B2 (ja) * | 1994-09-27 | 2005-08-31 | ステラケミファ株式会社 | フッ化処理用アルミニウム合金 |
CN102666894B (zh) * | 2009-12-22 | 2015-05-27 | 昭和电工株式会社 | 阳极氧化处理用铝合金和铝合金制部件 |
JPWO2015162911A1 (ja) * | 2014-04-22 | 2017-04-13 | 株式会社Uacj | アルミニウム製クラッド材及びその製造方法、熱交換器用アルミニウム製クラッド材及びその製造方法、ならびに、当該熱交換器用アルミニウム製クラッド材を用いたアルミニウム製熱交換器及びその製造方法 |
-
2019
- 2019-04-19 CN CN201980038108.0A patent/CN112236536B/zh active Active
- 2019-04-19 JP JP2020528694A patent/JP7190491B2/ja active Active
- 2019-04-19 US US17/257,677 patent/US20210317551A1/en active Pending
- 2019-04-19 WO PCT/JP2019/016772 patent/WO2020008704A1/ja active Application Filing
- 2019-05-03 TW TW108115341A patent/TWI794488B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996015295A1 (en) | 1994-11-16 | 1996-05-23 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Vacuum chamber made of aluminum or its alloy, and surface treatment and material for the vacuum chamber |
JP3871544B2 (ja) | 2001-10-12 | 2007-01-24 | 昭和電工株式会社 | 皮膜形成処理用アルミニウム合金、ならびに耐食性に優れたアルミニウム合金材およびその製造方法 |
WO2015060331A1 (ja) | 2013-10-23 | 2015-04-30 | 九州三井アルミニウム工業株式会社 | アルミニウム合金及びそれを用いた半導体製造装置、プラズマ処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI794488B (zh) | 2023-03-01 |
JPWO2020008704A1 (ja) | 2021-08-02 |
TW202006150A (zh) | 2020-02-01 |
CN112236536B (zh) | 2021-12-21 |
WO2020008704A1 (ja) | 2020-01-09 |
US20210317551A1 (en) | 2021-10-14 |
CN112236536A (zh) | 2021-01-15 |
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A621 | Written request for application examination |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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