JP2010199607A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010101431A JP5299347B2 (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010101431A JP5299347B2 (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004226583A Division JP4534651B2 (ja) | 2004-08-03 | 2004-08-03 | 露光装置、デバイス製造方法及び液体回収方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010199607A JP2010199607A (ja) | 2010-09-09 |
| JP2010199607A5 true JP2010199607A5 (enExample) | 2011-08-18 |
| JP5299347B2 JP5299347B2 (ja) | 2013-09-25 |
Family
ID=42823933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010101431A Expired - Fee Related JP5299347B2 (ja) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 露光装置、液体供給方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5299347B2 (enExample) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2747999A (en) * | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
| WO2004050266A1 (ja) * | 2002-12-03 | 2004-06-17 | Nikon Corporation | 汚染物質除去方法及び装置、並びに露光方法及び装置 |
| CN101872135B (zh) * | 2002-12-10 | 2013-07-31 | 株式会社尼康 | 曝光设备和器件制造法 |
| JP4029064B2 (ja) * | 2003-06-23 | 2008-01-09 | 松下電器産業株式会社 | パターン形成方法 |
| US20050231695A1 (en) * | 2004-04-15 | 2005-10-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and system for immersion lithography using high PH immersion fluid |
| JP2006005122A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Sony Corp | 露光方法および露光装置 |
-
2010
- 2010-04-26 JP JP2010101431A patent/JP5299347B2/ja not_active Expired - Fee Related
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