JP2010186535A - メモリ回路、およびメモリ回路にアクセスする方法 - Google Patents

メモリ回路、およびメモリ回路にアクセスする方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010186535A
JP2010186535A JP2010026699A JP2010026699A JP2010186535A JP 2010186535 A JP2010186535 A JP 2010186535A JP 2010026699 A JP2010026699 A JP 2010026699A JP 2010026699 A JP2010026699 A JP 2010026699A JP 2010186535 A JP2010186535 A JP 2010186535A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
circuit
power supply
supply voltage
transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010026699A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5423457B2 (ja
Inventor
Kuoyuan Hsu
スウ・クオユアン
Taehyung Jung
ジュン・テヒョン
Douk Hyoun Ryu
リュ・ドゥク・ヒョン
Young Suk Kim
キム・ヨン・スク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Original Assignee
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd filed Critical Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Publication of JP2010186535A publication Critical patent/JP2010186535A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5423457B2 publication Critical patent/JP5423457B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4094Bit-line management or control circuits
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47JKITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
    • A47J36/00Parts, details or accessories of cooking-vessels
    • A47J36/24Warming devices
    • A47J36/28Warming devices generating the heat by exothermic reactions, e.g. heat released by the contact of unslaked lime with water
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47JKITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
    • A47J27/00Cooking-vessels
    • A47J27/08Pressure-cookers; Lids or locking devices specially adapted therefor
    • A47J27/0804Locking devices
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47JKITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
    • A47J27/00Cooking-vessels
    • A47J27/08Pressure-cookers; Lids or locking devices specially adapted therefor
    • A47J27/086Pressure-cookers; Lids or locking devices specially adapted therefor with built-in heating means
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47JKITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
    • A47J33/00Camp cooking devices without integral heating means
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4076Timing circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

【課題】半導体回路に関するメモリ回路、システム、およびビット線イコライズ電圧の提供方法を提供する。
【解決手段】メモリ回路であって、データを表す電荷を蓄え、ワード線およびビット線対の第1のビット線に接続される少なくとも1つのメモリセルと、ビット線対の第1のビット線と第2のビット線との間に接続された少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタと、ビット線イコライズトランジスタに接続され、メモリセルのアクセスサイクル前の待機期間中、第1のビット線および第2のビット線の電圧を実質的に均等化するためにパルスをビット線イコライズトランジスタに提供するように構成されるビット線イコライズ回路とを含む、メモリ回路。
【選択図】図1

Description

関連出願との相互参照
本願は、2009年2月10日に出願された米国仮番号61/151,230に基づいており、その優先権を主張し、米国仮番号61/151,230の開示はここで引用によって全文が本明細書に援用される。
本願は、また、2009年2月10日に出願された「メモリ回路、システム、およびその動作方法(MEMORY CIRCUITS, SYSTEMS, AND OPERATING METHODS THEREOF)」と題される米国出願番号第61/151,364号(代理人整理番号T5057−B009(TSMC2008−0766))に関連し、米国出願番号61/151,364は引用によって全文が本明細書に援用される。
技術分野
本発明は、一般に半導体回路の分野に関し、特に、メモリ回路、システム、およびビット線イコライズ電圧(bit line equalization voltages; BLEQs)の提供方法に関するものである。
背景
メモリ回路は各種のアプリケーションに用いられている。メモリ回路はDRAM回路とSRAM回路とを含むことができる。DRAM回路は、複数のメモリセルを含む。容量性保存(capacitive storage)メモリセルのアレイが設けられるダイナミックメモリセルでは、各メモリセルがアクセストランジスタを有する。このようなメモリセルに保存されるデータは、実際には、小型コンデンサに蓄えられる電荷である。データが出力される時、アクセストランジスタは、トランジスタのゲートまたは制御端子に接続されるワード線(WL)によって起動される。続いてアクセストランジスタは、コンデンサをビット線(BL)に接続し、センスアンプに接続されてコンデンサの電圧(電荷)を検知する。
概要
半導体回路に関するメモリ回路、システム、及びビット線イコライズ電圧の提供方法を提供する。
1つまたは1つ以上の実施例では、メモリ回路は、データを表す電荷を蓄えるための少なくとも1つのメモリセルを含む。メモリセルは、ワード線およびビット線対の第1のビット線に接続される。少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタは、ビット線対の第1のビット線と第2のビット線との間に接続される。ビット線イコライズ回路は、ビット線イコライズトランジスタに接続される。ビット線イコライズ回路は、メモリセルのアクセスサイクル前の待機期間中、第1のビット線および第2のビット線の電圧を実質的に均等化するためにパルスをビット線イコライズトランジスタに提供するように構成される。
他の実施例では、データを表す電荷を蓄えるための少なくとも1つのメモリセルを有するメモリ回路にアクセスする方法が提供される。前記方法は、メモリセルのアクセスサイクル前の待機期間中、ビット線対の電圧を実質的に均等化するために、ビット線対間に接続された少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタにパルスを提供するステップを含む。
これらのおよび他の実施例、ならびにそれらの特徴について、添付の図面を参照して以下でさらに詳細に説明する。
本発明は、添付の図面とともに読むと、以下の詳細な説明から最もよく理解される。業界での標準的慣行に従って、各種の特徴は、一定の比例に応じて描かれておらず、説明の目的でのみ用いられることが強調される。実際、各種の特徴の数および寸法は、説明を明確にするために、任意に増やされたり減らされたりしてもよい。
例示的なメモリ回路を示す概略図である。 メモリセルのデータへの連続アクセスを示す概略的なタイミング図である。 メモリセルのデータへの非連続アクセスを示す概略的なタイミング図である。 例示的なビット線イコライズ回路を示す概略図である。 メモリセルのデータへの連続アクセスを示す例示的なBLEQのタイミング図である。 メモリセルのデータへの非連続アクセスを示す例示的なBLEQのタイミング図である。 例示的なメモリ回路を含むシステムを示す概略図である。
詳細な説明
VPPに等しいビット線イコライズ電圧BLEQが提供され、ビット線対の間に接続されたビット線イコライズトランジスタをオンにする。技術が40nmまたはそれ以下に縮小した時、電源電圧VPP(例えば、内部電源電圧VDD+0.7V)は、ビット線イコライズトランジスタのゲートと基板との間の漏れ電流を招く可能性があることが知られている。漏れ電流は、メモリ回路の電力を消耗する。漏れ電流を減少させるために、内部電源電圧VDDがビット線イコライズ電圧BLEQとして用いられ、ビット線イコライズトランジスタをオンにする。プロセス−電圧−温度(Process-Voltage-Temperature)(PVT)変動の最悪の場合では、内部電源電圧VDDは、ビット線イコライズトランジスタを完全にオンにするのに低過ぎる可能性があることが知られている。ビット線イコライズトランジスタの不完全なオンによって、ビット線対の電圧が実質的に均等化されなくなる。ビット線対の電圧差によって、アクセスサイクル中、メモリセルに保存されたデータをセンスアンプが検知することができなくなる可能性がある。
上述に基づいてメモリ回路とその動作方法が説明される。
下記は、異なる特徴を実現するための多くの異なる実施例または例を提供していると理解される。以下に示す素子と配置の具体例は、本発明を簡易化するものである。これらは、例示のためのものでこれを限定するものではない。例えば、以下の説明の中の第1の特徴が第2の特徴の上に形成されるというのは、第1および第2の特徴が直接接触して形成された実施例を含んでもよく、その他の特徴が第1の特徴と第2の特徴との間に形成されることで第1および第2の特徴が直接接触しなくなる実施例も含んでもよい。また、本発明は各種の例において参照番号および/または文字を繰返し用いることができる。この繰返しは、簡易化と明確化を目的とするもので、この繰返し自体が、記載される各種実施例および/または構成間の関係を決定づけるものではない。
例示的な実施例は、メモリ回路、システム、およびビット線イコライズ電圧(BLEQs)を提供する方法に関している。1つまたは1つ以上の実施例では、メモリ回路は、待機期間中、パルスを提供して、メモリセルと接続されたビット線対を実質的に均等化することができるビット線イコライズ回路を含むことができる。例えば、パルスは、内部電源電圧VDDから電源電圧VPPに上昇することができる。待機期間中、ビット線イコライズ電圧BLEQとして内部電源電圧VDDを加えることで、ゲートから基板への漏れ電流が望ましく減少されることができる。待機期間中、内部電源電圧VDDから電源電圧VPPに上昇するパルスは、ビット線対の電圧を実質的に均等化することができる。ビット線対に接続されたセンスアンプは、メモリセルに保存されたデータを望ましく検出し、検知ミスを減少させることができる。
図1は、例示的なメモリ回路を示す概略図である。図1では、メモリ回路100は、複数のワード線と複数のビット線とを含むメモリアレイ101を含むことができる。メモリ回路100は、ダイナミックランダムアクセスメモリ(dynamic random access memory)(DRAM)回路、埋め込み型DRAM回路、スタティックランダムアクセスメモリ(static random access memory)(SRAM)回路、埋め込み型SRAM回路、または他のメモリ回路であることができる。メモリアレイ101は、少なくとも1つのメモリセル101aを含むことができる。メモリセル101aは、メモリアレイ101のビット線(BL)およびワード線(WL)に接続されることができる。DRAMセルを用いる実施例では、メモリセル101aは、メモリトランジスタ(Tc)とコンデンサ(Cc)とを含むことができる。コンデンサCcは、例えば、“0”または“1”のデータを表す電荷を蓄えることができる。
なお、1つのメモリセル101aのみが表されているが、他のセル(図示せず)が複数のワード線およびビット線のそれぞれの交差点に配置されることができる。メモリ回路100の一部は、ワード幅に配置されることができる8、16、32、64、128またはそれ以上の列を有していてもよい。1つまたは1つ以上の実施例では、ワード線は、ビット線に実質的に直交して配置されることができる。他の実施例では、ワード線およびビット線の他の配置が提供されることができる。
図1を参照して、メモリ回路100は、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cなどの少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタを含むことができる。ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cは、ビット線BLとビット線バーBLBとの間に接続されることができる。ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cは、ビット線BLおよびビット線バーBLBのビット線イコライズを制御するように構成される。1つまたは1つ以上の実施例では、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cのゲートは、ビット線イコライズ回路110と接続されることができる。ビット線イコライズトランジスタ120bと120cとの間のノードは、ビット線基準電圧VBLrefと接続されることができる。1つまたは1つ以上の実施例では、ビット線基準電圧VBLrefは、例えば1/2の固定されたVBLref/VDD比、または調整可能なVBLref/VDD比を有することができる。調整可能なVBLref/VDD比の適用例は、2009年2月10日に出願された米国特許出願第61/151,364号(代理人整理番号T5057−B009(TSMC2008−0766))に掲載されており、その内容全体を本明細書に引用によって援用する。なお、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cの数は、単に例である。各種の数のビット線イコライズトランジスタが用いられてもよい。
1つまたは1つ以上の実施例では、センスアンプ(図示せず)は、ビット線BLおよびビット線バーBLBに接続されることができる。ビット線BLおよびビット線バーBLBは、列選択制御線(図示せず)および列選択接続トランジスタ(図示せず)を用いることによって、それぞれグローバルビット線GBL(図示せず)およびグローバルビット線バーGBLB(図示せず)にそれぞれ更に接続されることができる。このように、メモリセルの多数の列は、サブアレイの状態で配置され、グローバルビット線に選択的に接続されてもよい。
以下は、メモリセルのアクセスサイクルに関する説明である。ダイナミックメモリは、セル内に蓄えられた電荷が時間とともに漏れる可能性があるため、定期的にリフレッシュされることができる。タイミング回路(図示せず)は、メモリセルに最後にアクセスした後に経過した時間を追跡することができ、必要な時に回路にセルを“リフレッシュさせる”。リフレッシュは、例えば、セルへの復元または“ライトバック(write back)”サイクルの後に続いて読み込みを実行することで行なわれることができる。
なお、メモリセル101aのメモリセルのどの読み込みも電荷漏れを招く可能性がある。セルはサイクルの最後で復元または書き換えられることができる。“書き込み”は、単に、サイクルの“復元”部中にそれぞれの局部ビット線に与えられた書き込みデータを用いた読み込みサイクルであることができる。書き込みでは、読み込みデータは、書き込みデータと置き換えられて、または上書きされて、セルに書き込まれることができる。数千またはひいては数百万ものこれらのメモリセルが用いられて実際のダイナミックメモリデバイスを形成することができる。
図2では、メモリセル101a(図1に図示)のアクセスサイクルは、起動周期とプリチャージ周期とを含むことができる。メモリセル101aが連続的にアクセスされない、1つまたは1つ以上の実施例では、待機期間は、ビット線BLおよびビット線バーBLBをプリチャージするように起動周期より前に加えられることができる。待機期間中、ビット線イコライズ回路110(図1に図示)は、ビット線イコライズ電圧BLEQをビット線イコライズトランジスタ120a〜120c(図1に図示)に提供することができる。待機期間の開始時では、ビット線イコライズ電圧BLEQは、内部電源電圧VDDなどの電源電圧に実質的に等しいことができる。通常の動作では、内部電源電圧VDDがビット線イコライズトランジスタ120a〜120cに加えられて、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cをオンにし、ビット線BLおよびビット線バーBLBの電圧をビット線基準電圧VBLref、即ち1/2VDDに実質的に均等化することができる。約0.9Vの公称電圧を用いた1つまたは1つ以上の実施例では、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cは、約0.47Vのしきい電圧Vthを有することができる。1つまたは1つ以上の実施例では、メモリセル101aは、約−40℃の低温のプロセス−電圧−温度(PVT)変動のSSSコーナー(corner)に入る可能性がある。SSSコーナーは、NMOS、PMOS、およびメモリ回路100のメモリトランジスタTcの速度が遅いことを示す。SSSコーナーでは、内部電源電圧VDDは、約0.765Vに低下する可能性があり、ビット線基準電圧VBLrefは、1/2VDDを追従し約0.383Vに変化する可能性がある。0.765Vの内部電源電圧VDDは、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cの少なくとも1つを完全にオンにすることができない可能性があり、ビット線BLとビット線バーBLBとの間の電圧差ΔVBL(図2に図示)を生じさせることが知られている。電圧差ΔVBLは、アクセスサイクル中、検知ミスを生じる可能性がある。しかし、内部電源電圧VDDは、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cの漏れ電流を望ましく減少させることができる。
図2を再度参照して、起動信号が検出された後、ビット線イコライズ回路110は、メモリセル101aのアクセスサイクル前の待機期間中、パルスをビット線イコライズトランジスタ120a〜120cに提供することができる。パルスは、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cを望ましくオンにし、ビット線BLおよびビット線バーBLBの電圧をビット線基準電圧VBLref、例えば1/2VDDに実質的に均等化することができる。1つまたは1つ以上の実施例では、起動信号は、クロック信号がアクティブで、チップイネーブルバー(chip enable bar)が検出され、バンクアドレス(bank address)が検出された時、検出される。他の実施例では、アレイ起動信号(array activation signal)は、リードコマンド、ライトコマンド、バンクアドレスコマンド、任意の起動コマンド(activation command)、および/またはそれらの組み合わせを含むことができる。
パルスは、電圧ΔVpと期間Tpとを有することができる。1つまたは1つ以上の実施例では、電圧ΔVpは、電圧差ΔVBLに対応することができる。例えば、電圧差ΔVBLは、約0.09Vであることができる。電圧ΔVpは、ビット線BLおよびビット線バーBLBの電圧を実質的に均等化することができる、0.09Vに実質的に等しいか、またはそれ以上であることができる。0.9Vの公称電圧を用いた1つまたは1つ以上の実施例では、電圧ΔVpは、約0.09Vと約0.7Vとの間であることができる。他の実施例では、電圧ΔVpは、内部電源電圧VDDから電源電圧VPPに上昇されることができる。期間Tpは、約200ピコセカンドと約500ピコセカンドとの間であることができる。1つまたは1つ以上の実施例では、期間Tpは、約300ピコセカンドであることができる。実質的に均等化されたビット線BLおよびビット線バーBLBは、電圧差ΔVBLから生じる検知ミスを望ましく減少させることができる。なお、上述のパルスの電圧ΔVpおよび期間Tpは、単に例である。当業者は、ビット線BLおよびビット線バーBLBの電圧を実質的に均等化するように電圧ΔVpおよび期間Tpを変更することができる。
上述のように、ビット線イコライズ回路110(図1に図示)は、アレイ起動信号が検出される前の待機期間中、内部電源電圧VDDを提供することができる。内部電源電圧VDDをビット線イコライズトランジスタ120a〜120cに加えることは、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cのゲートと基板との間の漏れ電流を望ましく減少させることができる。アレイ起動信号が検出された場合、ビット線イコライズ回路110は、パルスを提供してビット線BLおよびビット線バーBLBの電圧を実質的に均等化することができる。ビット線BLおよびビット線バーBLBの電圧の実質的な均等化は、ビット線BLとビット線バーBLBとの電圧差ΔVBLから生じる検知ミスを望ましく防ぐことができる。
図2を参照して、起動周期は、待機期間の後に続いてもよい。起動周期では、ワード線WLは、高い正電圧、例えばVPPに遷移して、トランジスタTcにコンデンサCcをビット線BLに接続させることができる。ワード線WLは、メモリアレイ101に前に提供されたアドレスに基づいて、メモリアレイ101のどの行がアクティブにされるかを判断することができるアドレスデコーダ回路(図示せず)と接続されることができる。ワード線WLが正電圧レベルに遷移されることでアクティブになってまもなく、アクセストランジスタTcは、メモリセル101aのコンデンサCcをビット線BLに接続することができる。メモリセル101aのコンデンサCcをビット線BLに接続する部分は、“電荷共有”部と言われることができる。電荷共有部では、ビット線イコライズ回路110は、VSSまたは接地などの低電圧を提供し、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cをオフにすることができる。メモリセル101aに保存されたデータが論理“1”の場合、コンデンサCcは、電荷共有動作中、電圧をビット線BLに加えることができる。これに応えて小さい電圧増加がビット線BLで見られる。保存されたデータが論理“0”の場合、コンデンサCcは、例えばビット線BLからメモリセル101aのコンデンサCcを充電することで、ビット線BLから電圧を差し引くことができる。
“電荷共有”部の直後、起動周期の検知部が生じてもよい。検知部では、ビット線イコライズ回路110は、VSSまたは接地などの低電圧で維持され、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cをオフにすることができる。選択されたメモリセル101aからの小さい差動入力電圧は、ビット線BLに接続されたセンスアンプSA(図示せず)によって検知されることができる。
検知部の後、復元部が続いてもよい。復元部では、ビット線イコライズ回路110は、VSSまたは接地などの低電圧を維持し、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cをオフにすることができる。サイクルの復元部では、ビット線BLの電圧は、電圧Vdd/2(ビット線BLの初期電圧)と検知された差動電圧との和から論理“1”の高電圧に上昇、またはほぼ内部電源電圧VDDに上昇することができる。ビット線バーBLBの電圧は、VSSまたは接地などの低電圧に引き下げられることができる。ビット線BLおよびビット線バーBLBは、それぞれ論理“1”と論理“0”にあり、即ち、完全なロジック電圧レベルにある。ワード線WLが高いままに保持されることができるため、ビット線BLの高電圧は、メモリセル101aに接続されることができる。即ちメモリセル101aのアクセストランジスタTcは、高電圧をコンデンサCcに接続し、メモリセル101aに更にアクセスするように、蓄えられた電荷を復元することができる。
起動周期後、図2に示されるようにプリチャージ周期が生じてもよい。プリチャージ周期では、ビット線イコライズ回路110(図1に図示)は、VPPなどの電源電圧を提供し、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cをオンにしてビット線BLおよびビット線バーBLBの電圧を実質的に均等化することができる。ワード線WLの電圧は、接地より低くてもよいVBBなどの低電圧に遷移することができる。
図2を再度参照して、他のアレイ起動信号がプリチャージ周期中、またはプリチャージ周期後の既定周期Td中に検出されなかった場合、ビット線イコライズ回路110は、電源電圧VPPを内部電源電圧VDDなどの電圧状態に引き下げることができる。既定周期Tdは、時間遅延と言われることもできる。1つまたは1つ以上の実施例では、既定周期Tdは、約3ナノセカンドまたは他の適当な時間周期であることができる。プリチャージ周期または既定周期Td中にアレイ起動信号が検出されないため、ビット線イコライズ回路110は、電源電圧VPPを内部電源電圧VDDなどの電圧状態に引き下げ、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cの漏れ電流を望ましく減少させることができる。
他の実施例では、他のアレイ起動信号がプリチャージ周期中、またはプリチャージ周期後の既定周期Td中に検出された場合、ビット線イコライズ回路110は、電源電圧VPPを内部電源電圧VDDより低い接地などの電圧状態に引き下げることができる(図3に図示)。他のアレイ起動信号の検出は、メモリセル101aに保存されたデータの連続的なアクセスを示している。他のアレイ起動信号がプリチャージ周期中、またはプリチャージ周期後の既定周期Td中に検出されるため、ビット線イコライズ回路110は、電源電圧VPPをVSSまたは接地などの低電圧に引き下げて、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cをオフにすることができる。ワード線WLの電圧は、電源電圧VPPに引き上げられ、メモリセル101aに連続的にアクセスするようにトランジスタTcをオンにすることができる。
図4は、例示的なビット線イコライズ回路を示す概略図である。図4では、ビット線イコライズ回路110は、高から低のトランジスタ検出器などの第1の遷移検出器(transition detector)401と、低から高のトランジスタ検出器などの第2の遷移検出器403とを含むことができる。遷移検出器401および403は、ビット線イコライズ回路110の入力端の状態遷移を検出することができる。ビット線イコライズ回路110は、遷移検出器401および403の出力端に接続されたORロジックゲートなどの第1のロジックゲート411を含むことができる。第1のロジックゲート411は、遷移検出器401および403の出力のためのORロジック動作などのロジック動作を行うことができる。
ビット線イコライズ回路110は、低から高の遅延回路などの第1の遅延回路405と、高から低の遅延回路などの第2の遅延回路407とを含むことができる。遅延回路405および407は、ビット線イコライズ回路110の入力端で受けた状態遷移信号を遅延させることができる。遅延回路405は、約200ピコセカンドと約500ピコセカンドとの間の低から高の遷移遅延を提供することができる。遅延回路407は、約3ナノセカンドの高から低の遷移遅延を提供することができる。1つまたは1つ以上の実施例では、遅延回路405および407ならびに遷移検出器401および403は、分離した回路であることができる。他の実施例では、遅延回路405および407は、遷移検出器403および401内にそれぞれ統合されてもよい。
図4を参照して、ビット線イコライズ回路110は、遅延回路405の出力端に接続された第1のインバータ421を含むことができる。インバータ421は、遅延回路405の出力を反転させることができる。NANDロジックゲートなどの第2のロジックゲート413は、ロジックゲート411、インバータ421、および遅延回路407の出力端に接続されることができる。ロジックゲート413は、ロジックゲート411、インバータ421、および遅延回路407の出力に対して、例えばNANDロジック動作のロジック動作を行なうことができる。ビット線イコライズ回路110は、インバータ421の出力端に接続された第2のインバータ423を含むことができる。インバータ423は、インバータ421の出力を反転させることができる。
ビット線イコライズ回路110は、ロジックゲート413、インバータ423、および遅延回路407の出力端に接続された少なくとも1つのレベルシフタ回路415を含むことができる。レベルシフタ回路415は、内部電源電圧VDDなどの電源電圧をVPPなどの他の電源電圧にシフトすることができる。1つまたは1つ以上の実施例では、レベルシフタ回路415は、レベルシフタ415a〜415cを含むことができ、各レベルシフタ415a〜415cは、ロジックゲート413、またはインバータ423、または遅延回路407の出力に接続される。なお、図4に示されたレベルシフタ415a〜415cの数は、単に例である。本発明は、他の形式も含むことができる。
ビット線イコライズ回路110は、PMOSトランジスタなどの1つ目の第1型トランジスタ441を含むことができる。トランジスタ441のゲートは、レベルシフタ回路415の第1の出力端に接続される。1つまたは1つ以上の実施例では、トランジスタ441のゲートは、レベルシフタ415aの出力端に接続され、トランジスタ441は、VPPなどの第1の電源電圧に接続されることができる。
1つ目の第2型トランジスタ443は、例えばNMOSトランジスタである。トランジスタ443のゲートは、レベルシフタ回路415の第2の出力端に接続される。1つまたは1つ以上の実施例では、トランジスタ443のゲートは、レベルシフタ415bの出力端に接続される。トランジスタ443は、VSSまたは接地などの第2の電源電圧に接続されることができる。
2つ目の第1型トランジスタ445は、例えばPMOSトランジスタであることができる。トランジスタ445のゲートは、レベルシフタ回路415の第3の出力端に接続される。1つまたは1つ以上の実施例では、トランジスタ445のゲートは、レベルシフタ415cの出力端に接続される。トランジスタ445は、内部電源電圧VDDなどの第3の電源電圧に接続されることができる。トランジスタ441、443、および445は、ビット線イコライズ回路110の出力端に接続され、ビット線イコライズ電圧BLEQを提供する。なお、上述の検出器、遅延回路、ロジックゲート、インバータ、レベルシフタ回路、およびトランジスタの数および/または種類は、単に例である。本発明は、他の形式も含むことができる。
下記は、ビット線イコライズ回路110の例示的な動作の説明である。図5は、メモリセルのデータへの非連続アクセスを示す例示的なBLEQのタイミング図である。図4と図5を参照して、最初は、アレイ起動信号が検出されない。レベルシフタ415aは、高状態の信号ZBLEQ_VPPを出力し、トランジスタ441をオフにすることができる。レベルシフタ415bは、低状態の信号BLEQ_VSSを出力し、トランジスタ443をオフにすることができる。レベルシフタ415cは、低状態の信号ZBLEQ_VDDを出力し、トランジスタ445をオンにすることができる。オンにされたトランジスタ445は、内部電源電圧VDDなどの電源電圧をビット線イコライズ回路110の出力端に接続することができる。ビット線イコライズ回路110は、内部電源電圧VDDをビット線イコライズトランジスタ120a〜120c(図1に図示)に提供することができる。
アレイ起動信号が検出された場合、ビット線イコライズ回路110の入力(BLT)は、低から高に遷移され得る。レベルシフタ415aは、低状態の信号ZBLEQ_VPPを出力し、トランジスタ441をオンにすることができる。レベルシフタ415bは、低状態の信号BLEQ_VSSを出力し、トランジスタ443をオフにすることができる。レベルシフタ415cは、高状態の信号ZBLEQ_VDDを出力し、トランジスタ445をオフにすることができる。オンにされたトランジスタ441は、電源電圧VPPなどの電源電圧をビット線イコライズ回路110の出力端に接続することができる。ビット線イコライズ回路110は、電源電圧VPPをビット線イコライズトランジスタ120a〜120c(図1に図示)に提供することができる。
上述のように、アレイ起動信号が検出された場合、ビット線イコライズ回路110は、例えば、内部電源電圧VDDから電源電圧VPPに上昇するパルスを提供することができる。パルスは、約200ピコセカンドと約500ピコセカンドとの間の期間を有することができる。上述のように、内部電源電圧VDDから上昇するパルスをビット線イコライズトランジスタ120a〜120cに提供することは、ビット線BLおよびビット線バーBLB(図1に図示)の電圧を実質的に均等化することができる。
パルスの後、図2とともに上述の起動周期が生じる可能性がある。レベルシフタ415aは、高状態の信号ZBLEQ_VPPを出力し、トランジスタ441をオフにすることができる。レベルシフタ415bは、高状態の信号BLEQ_VSSを出力し、トランジスタ443をオンにすることができる。レベルシフタ415cは、高状態の信号ZBLEQ_VDDを出力し、トランジスタ445をオフにすることができる。オンにされたトランジスタ443は、VSSまたは接地などの電源電圧をビット線イコライズ回路110の出力端に接続することができる。
図2とともに上述の起動周期の後、プリチャージ周期が続くことができる。プリチャージ周期では、ビット線イコライズ回路110の入力(BLT)の状態は、高から低に遷移する。レベルシフタ415aは、低状態の信号ZBLEQ_VPPを出力し、トランジスタ441をオンにすることができる。レベルシフタ415bは、低状態の信号BLEQ_VSSを出力し、トランジスタ443をオフにすることができる。レベルシフタ415cは、高状態の信号ZBLEQ_VDDを出力し、トランジスタ445をオフにすることができる。オンにされたトランジスタ441は、電源電圧VPPなどの電源電圧をビット線イコライズ回路110の出力端に接続することができる。
他のアレイ起動信号がプリチャージ周期またはプリチャージ周期の後の既定周期中に検出された場合、レベルシフタ415aは、高状態の信号ZBLEQ_VPPを出力し、トランジスタ441をオフにすることができる。レベルシフタ415bは、高状態の信号BLEQ_VSSを出力し、トランジスタ443をオンにすることができる。レベルシフタ415cは、高状態の信号ZBLEQ_VDDを出力し、トランジスタ445をオフにすることができる。オンにされたトランジスタ443は、接地などの電源電圧をビット線イコライズ回路110の出力端に接続することができる。メモリセルに保存されたデータのアクセスは、連続することができる。
1つまたは1つ以上の実施例では、メモリセルに保存されたデータが非連続的にアクセスされた時、図6に示されるようにアレイ起動信号は、プリチャージ周期またはプリチャージ周期の後の既定周期内に検出されない。レベルシフタ415aは、高状態の信号ZBLEQ_VPPを出力し、トランジスタ441をオフにすることができる。レベルシフタ415bは、低状態の信号BLEQ_VSSを出力し、トランジスタ443をオフにすることができる。レベルシフタ415cは、低状態の信号ZBLEQ_VDDを出力し、トランジスタ445をオンにすることができる。オンにされたトランジスタ445は、内部電源電圧VDDをビット線イコライズ回路110の出力端に接続することができる。内部電源電圧VDDをビット線イコライズ電圧BLEQとしてビット線イコライズトランジスタ120a〜120c(図1に図示)に提供することは、ビット線イコライズトランジスタ120a〜120cのゲートから基板への漏れ電流を望ましく減少させることができる。
図7は、例示的なメモリ回路を含むシステムを示す概略図である。図7では、システム700は、メモリ回路100と接続されたプロセッサ710を含むことができる。プロセッサ710は、メモリ回路100のメモリセル101a(図1に図示)に保存されたデータにアクセスすることができる。1つまたは1つ以上の実施例では、プロセッサ710は、プロセッシングユニット、中央演算処理装置、デジタルシグナルプロセッサ、またはメモリ回路のデータにアクセスするのに適当な他のプロセッサであることができる。
1つまたは1つ以上の実施例では、プロセッサ710およびメモリ回路100は、プリント配線基板またはプリント回路基板(printed circuit board)(PCB)に物理的および電気的に接続されることができるシステム内に形成され、電子アセンブリを形成することができる。電子アセンブリは、コンピュータ、無線通信装置、コンピュータ関連周辺機器、娯楽機器などの電子システムの一部であることができる。
1つまたは1つ以上の実施例では、メモリ回路100を含むシステム700は、システム全体を1つのICで提供することができ、いわゆるシステムオンチップ(system on a chip)(SOC)またはシステムオン集積回路(system on integrated circuit)(SOIC)デバイスであることができる。これらのSOCデバイスは、例えば携帯電話、PDA、デジタルVCR、デジタルカムコーダ、デジタルカメラ、MP3プレーヤなどを単一の集積回路で実現するために必要な回路の全てを提供することができる。
上記は、当業者が本発明の局面をよりよく理解できるようにいくつかの実施例の特徴を概説している。当業者は、本明細書で紹介された実施例の目的と同じもしくは類似の目的を成し遂げるため、および/または、本明細書で紹介された実施例の利点と同じもしくは類似の利点を達成するための他のプロセスならびに構造を設計または変更する根拠として本発明を容易に用いることができることを理解すべきである。当業者は、また、このような等価な構築物が本発明の精神および範囲から逸脱することはなく、本発明の精神および範囲から逸脱することなく本明細書において各種の修正、置換および変更をなし得ることを認識すべきである。
100 メモリ回路
101 メモリアレイ
101a メモリセル
110 ビット線イコライズ回路
120a〜120c ビット線イコライズトランジスタ
401 第1の遷移検出器
403 第2の遷移検出器
405 第1の遅延回路
407 第2の遅延回路
411 第1のロジックゲート
413 第2のロジックゲート
415 レベルシフタ回路
415a〜415c レベルシフタ
421 第1のインバータ
423 第2のインバータ
441 第1型トランジスタ
443 第2型トランジスタ
445 第1型トランジスタ
700 システム
710 プロセッサ

Claims (15)

  1. メモリ回路であって、
    データを表す電荷を蓄え、ワード線およびビット線対の第1のビット線に接続される少なくとも1つのメモリセルと、
    前記ビット線対の前記第1のビット線と第2のビット線との間に接続された少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタと、
    前記ビット線イコライズトランジスタに接続され、前記メモリセルのアクセスサイクル前の待機期間中、前記第1のビット線および前記第2のビット線の電圧を実質的に均等化するためにパルスを前記ビット線イコライズトランジスタに提供するように構成されるビット線イコライズ回路とを備える、メモリ回路。
  2. 前記パルスの電圧差は、前記第1のビット線および前記第2のビット線の電圧間の電圧差に対応する、請求項1に記載のメモリ回路。
  3. 前記パルスの前記電圧差は、約0.1Vと約0.7Vとの間である、請求項2に記載のメモリ回路。
  4. 前記ビット線イコライズ回路は、前記パルスを第1の電源電圧VDDから第2の電源電圧VPPに上昇させるように構成される、請求項1に記載のメモリ回路。
  5. 前記ビット線イコライズ回路は、
    前記メモリセルの前記アクセスサイクルのプリチャージ周期中、前記第2の電源電圧VPPを提供し、かつ
    前記第2の電源電圧VPPをある電圧状態に引き下げるようにさらに構成され、
    アレイ起動信号が前記プリチャージ周期中、または前記プリチャージ周期後の既定周期中に検出された場合、前記電圧状態は、前記第1の電源電圧VDDより低く、
    前記アレイ起動信号が前記プリチャージ周期中、および前記プリチャージ周期後の前記既定周期中に検出されなかった場合、前記電圧状態は、前記第1の電源電圧VDDに実質的に等しい、請求項4に記載のメモリ回路。
  6. 前記既定周期は、約3ナノセカンドである、請求項5に記載のメモリ回路。
  7. 前記パルスは、約200ピコセカンドから約500ピコセカンドの期間を有する、請求項1に記載のメモリ回路。
  8. 前記ビット線イコライズ回路は、
    起動信号の第1の遷移を検出する第1の遷移検出器と、
    前記起動信号の第2の遷移を検出する第2の遷移検出器と、
    前記第1および第2の遷移検出器の出力端に接続された第1のロジックゲートと、
    前記起動信号の前記第1の遷移に応答する第1の遅延回路と、
    前記起動信号の前記第2の遷移に応答する第2の遅延回路と、
    前記第1の遅延回路の出力端に接続された第1のインバータと、
    前記第1のロジックゲート、前記第1のインバータ、および前記第2の遅延回路の出力端に接続された第2のロジックゲートと、
    前記第1のインバータの前記出力端に接続された第2のインバータと、
    前記第2のロジックゲート、前記第2のインバータ、および前記第2の遅延回路の出力端に接続された少なくとも1つのレベルシフタ回路と、
    ゲートが前記レベルシフタ回路の第1の出力端に接続され、第1の電源電圧を受けるように接続された第1型の第1のトランジスタと、
    ゲートが前記レベルシフタ回路の第2の出力端に接続され、前記第1のトランジスタに接続された第2型の第2のトランジスタと、
    ゲートが前記レベルシフタ回路の第3の出力端に接続され、第2の電源電圧を受けるように接続された第1型の第3のトランジスタとを備える、請求項1に記載のメモリ回路。
  9. メモリ回路であって、
    データを表す電荷を蓄え、ワード線およびビット線対の第1のビット線に接続された少なくとも1つのメモリセルと、
    前記ビット線対の前記第1のビット線と第2のビット線との間に接続された少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタと、
    前記少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタに接続されたビット線イコライズ回路とを備え、前記ビット線イコライズ回路は、
    第1の遷移検出器と、
    前記第1の遷移検出器に接続された第2の遷移検出器と、
    前記第1および第2の遷移検出器の出力端に接続された第1のロジックゲートと、
    前記第1および第2の遷移検出器に接続された第1の遅延回路と、
    前記第1および第2の遷移検出器に接続された第2の遅延回路と、
    前記第1の遅延回路の出力端に接続された第1のインバータと、
    前記第1のロジックゲート、前記第1のインバータ、および前記第2の遅延回路の出力端に接続された第2のロジックゲートと、
    前記第1のインバータの前記出力端に接続された第2のインバータと、
    前記第2のロジックゲート、前記第2のインバータ、および前記第2の遅延回路の出力端に接続された少なくとも1つのレベルシフタ回路と、
    ゲートが前記レベルシフタ回路の第1の出力端に接続され、第1の電源電圧を受けるように接続された第1型の第1のトランジスタと、
    ゲートが前記レベルシフタ回路の第2の出力端に接続され、前記第1のトランジスタに接続された第2型の第2のトランジスタと、
    ゲートが前記レベルシフタ回路の第3の出力端に接続され、第2の電源電圧を受けるように接続された第1型の第3のトランジスタとを備える、メモリ回路。
  10. データを表す電荷を蓄えるための少なくとも1つのメモリセルを有するメモリ回路にアクセスする方法であって、前記方法は、
    前記メモリセルのアクセスサイクル前の待機期間中、ビット線対の電圧を実質的に均等化するために、前記ビット線対間に接続された少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタにパルスを提供するステップを備える、方法。
  11. 前記パルスを提供するステップは、前記パルスを第1の電源電圧から第2の電源電圧に上昇させるステップを備える、請求項10に記載の方法。
  12. 前記第1および第2の電源電圧の電圧差は、約0.1Vと約0.7Vとの間である、請求項11に記載の方法。
  13. 前記第1の電源電圧は、内部電源電圧VDDであり、前記第2の電源電圧は、電源電圧VPPである、請求項11に記載の方法。
  14. 前記メモリセルの前記アクセスサイクルのプリチャージ周期中、前記第2の電源電圧VPPを前記少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタに提供するステップと、
    前記少なくとも1つのビット線イコライズトランジスタに提供された前記第2の電源電圧VPPをある電圧状態に引き下げるステップとをさらに備え、
    アレイ起動信号が前記プリチャージ周期中、または前記プリチャージ周期後の既定周期中に検出された場合、前記電圧状態は、前記第1の電源電圧VDDより低く、
    前記アレイ起動信号が前記プリチャージ周期中、および前記プリチャージ周期後の前記既定周期中に検出されなかった場合、前記電圧状態は、前記第1の電源電圧VDDに実質的に等しい、請求項13に記載の方法。
  15. 前記パルスは、約200ピコセカンドから約500ピコセカンドの期間を有する、請求項10に記載の方法。
JP2010026699A 2009-02-10 2010-02-09 メモリ回路、およびメモリ回路にアクセスする方法 Active JP5423457B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15123009P 2009-02-10 2009-02-10
US61/151,230 2009-02-10
US12/692,512 2010-01-22
US12/692,512 US8279686B2 (en) 2009-02-10 2010-01-22 Memory circuits, systems, and methods for providing bit line equalization voltages

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010186535A true JP2010186535A (ja) 2010-08-26
JP5423457B2 JP5423457B2 (ja) 2014-02-19

Family

ID=42540296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010026699A Active JP5423457B2 (ja) 2009-02-10 2010-02-09 メモリ回路、およびメモリ回路にアクセスする方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8279686B2 (ja)
JP (1) JP5423457B2 (ja)
KR (1) KR101223818B1 (ja)
CN (1) CN101800074B (ja)
TW (1) TWI441193B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8391094B2 (en) * 2009-02-10 2013-03-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Memory circuits, systems, and operating methods thereof
US8599633B2 (en) * 2012-05-06 2013-12-03 Elite Semiconductor Memory Technology Inc. Method for reducing standby current of semiconductor memory device
CN103514942B (zh) * 2012-06-15 2017-04-12 晶豪科技股份有限公司 用以控制随机存取存储器元件中的漏电流的电路和方法
CN105321551B (zh) * 2014-07-29 2019-08-09 华邦电子股份有限公司 降低漏电流的存储器装置
US9779832B1 (en) 2016-12-07 2017-10-03 Sandisk Technologies Llc Pulsed control line biasing in memory
KR20190053676A (ko) 2017-11-10 2019-05-20 삼성전자주식회사 메모리 셀 어레이를 프리차지하는 메모리 회로 및 이를 포함하는 메모리 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0757466A (ja) * 1993-08-12 1995-03-03 Toshiba Corp 半導体集積回路
JP2002184181A (ja) * 2000-03-24 2002-06-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
WO2005088641A1 (ja) * 2004-03-11 2005-09-22 Fujitsu Limited 半導体メモリおよび半導体メモリの動作方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07107798B2 (ja) * 1987-11-18 1995-11-15 三菱電機株式会社 ダイナミックランダムアクセスメモリにおけるセンスアンプ駆動装置およびセンスアンプ駆動方法
JPH01171194A (ja) * 1987-12-25 1989-07-06 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 半導体記憶装置
JPH0821234B2 (ja) * 1988-01-14 1996-03-04 三菱電機株式会社 ダイナミック型半導体記憶装置およびその制御方法
JP2950069B2 (ja) 1992-12-07 1999-09-20 日本電気株式会社 半導体回路
JPH0729373A (ja) * 1993-07-08 1995-01-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP3672946B2 (ja) * 1993-11-30 2005-07-20 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
US5499211A (en) * 1995-03-13 1996-03-12 International Business Machines Corporation Bit-line precharge current limiter for CMOS dynamic memories
US5561630A (en) * 1995-09-28 1996-10-01 International Business Machines Coporation Data sense circuit for dynamic random access memories
KR100220949B1 (ko) * 1996-11-06 1999-09-15 김영환 웨이퍼 번-인 회로
JPH10269800A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPH1139874A (ja) 1997-07-11 1999-02-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP3768055B2 (ja) * 2000-01-21 2006-04-19 シャープ株式会社 強誘電体型記憶装置
US6252806B1 (en) 2000-05-26 2001-06-26 International Business Machines Corporation Multi-generator, partial array Vt tracking system to improve array retention time
TW564426B (en) * 2002-07-09 2003-12-01 Macronix Int Co Ltd Circuit and method of sensing amplifier with adjustable reference terminal bit line load
KR100439037B1 (ko) * 2002-08-06 2004-07-03 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치의 비트 라인 프리차지 회로
JP4249602B2 (ja) * 2003-11-28 2009-04-02 エルピーダメモリ株式会社 半導体記憶装置
KR100610021B1 (ko) * 2005-01-14 2006-08-08 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치에서의 비트라인 전압 공급회로와 그에따른 비트라인 전압 인가방법
KR100573826B1 (ko) * 2005-03-24 2006-04-26 주식회사 하이닉스반도체 반도체 기억 소자의 센스 앰프 구동 회로 및 구동 방법
KR20090003623A (ko) 2007-07-03 2009-01-12 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0757466A (ja) * 1993-08-12 1995-03-03 Toshiba Corp 半導体集積回路
JP2002184181A (ja) * 2000-03-24 2002-06-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
WO2005088641A1 (ja) * 2004-03-11 2005-09-22 Fujitsu Limited 半導体メモリおよび半導体メモリの動作方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5423457B2 (ja) 2014-02-19
US20100202220A1 (en) 2010-08-12
CN101800074A (zh) 2010-08-11
KR101223818B1 (ko) 2013-01-17
TW201030762A (en) 2010-08-16
TWI441193B (zh) 2014-06-11
CN101800074B (zh) 2013-06-26
US8279686B2 (en) 2012-10-02
KR20100091914A (ko) 2010-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9418729B2 (en) Multi-port memory cell
US8009459B2 (en) Circuit for high speed dynamic memory
US7102947B2 (en) Semiconductor memory device
US9299417B2 (en) DRAM security erase
US20070183234A1 (en) Semiconductor memory device having reduced voltage coupling between bit lines
JP5423457B2 (ja) メモリ回路、およびメモリ回路にアクセスする方法
US9881655B2 (en) Memory circuit having data lines selectively coupled to a sense amplifier and method for operating the same
US8861295B2 (en) Memory circuits, systems, and methods for accessing the memory circuits
US8279692B2 (en) Semiconductor device having hierarchical data line structure and control method thereof
US8437204B2 (en) Memory array with corresponding row and column control signals
US6570799B1 (en) Precharge and reference voltage technique for dynamic random access memories
KR20200045625A (ko) 메모리 장치 및 이를 포함하는 시스템 온 칩
US11264081B1 (en) Memory circuit, electronic device having the memory circuit, and method of operating memory circuit
US20150049565A1 (en) Apparatuses and methods for reducing current leakage in a memory
KR20100091769A (ko) 개선된 글로벌 입출력라인 프리차아지 스킴을 갖는 반도체 메모리 장치
TWI699764B (zh) 記憶體寫入裝置及方法
KR20000020963A (ko) 반도체 메모리 장치의 어레이 내부 전원 전압 발생 회로
US9412422B2 (en) Memory device and method for putting a memory cell into a state with a reduced leakage current consumption
JP5867275B2 (ja) 半導体記憶装置およびそのデータ書き込み方法
US7596040B2 (en) Methods and apparatus for improved write characteristics in a low voltage SRAM
US10762951B1 (en) Static random access memory device with keeper circuit
JP2004303283A (ja) 半導体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121211

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130307

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131029

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131111

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5423457

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250