JP2010181172A5

JP2010181172A5 -

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Publication number: JP2010181172A5
Application number: JP2009022622A
Authority: JP
Filing date: 2009-02-03
Publication date: 2012-02-02
Anticipated expiration: 2029-02-03

Description

上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被測定物体を経由した前記信号光と参照物体を経由した前記参照光とを干渉させて干渉光を生成し、前記干渉光を検出して検出信号を生成する光学系と、前記検出信号に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、を有する光画像計測装置であって、被測定物体に対する前記光学系の位置合わせを行うアライメント手段と、前記被測定物体の注目領域に対する前記光学系の合焦を行う合焦手段と、前記アライメント手段による前記光学系の位置の適否、前記合焦手段による合焦状態の適否、及び、前記画像形成手段により形成される前記注目領域の断層像のフレーム内における位置の適否をそれぞれ判定する判定手段と、前記光学系の位置、前記合焦状態、及び前記フレーム内における位置の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする制御手段と、を備えることを特徴とする。

また、請求項１２に記載の発明は、光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被測定物体を経由した前記信号光と参照物体を経由した前記参照光とを干渉させて干渉光を生成し、前記干渉光を検出して検出信号を生成する光学系と、前記検出信号に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、を有する光画像計測装置であって、被測定物体に対する前記光学系の位置合わせを行うアライメント手段と、前記被測定物体の注目領域に対する前記光学系の合焦を行う合焦手段と、前記画像形成手段により形成される断層像に基づいて、前記フレーム内の略中央に前記注目領域の断層像が配置されるように、前記被測定物体に対する前記信号光の照射位置を前記被測定物体の動きに追従させる追従手段と、前記アライメント手段による前記光学系の位置の適否を判定し、前記合焦手段による合焦状態の適否を判定し、前記画像形成手段により形成される前記注目領域の断層像のフレーム内における位置の適否を判定し、前記画像形成手段により形成される断層像を解析して当該断層像の画質の適否を判定し、前記信号光の照射位置の追従状態の適否を判定する判定手段と、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、前記断層像の画質、及び前記追従状態の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする制御手段と、を備えることを特徴とする。

また、請求項１３に記載の発明は、光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被測定物体を経由した前記信号光と参照物体を経由した前記参照光とを干渉させて干渉光を生成し、前記干渉光を検出して検出信号を生成する光学系と、前記検出信号に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、前記被測定物体に対する前記信号光の進行方向に略直交する面における前記被測定物体の２次元画像を撮影する撮影手段と、を有する光画像計測装置であって、被測定物体に対する前記光学系の位置合わせを行うアライメント手段と、前記被測定物体の注目領域に対する前記光学系の合焦を行う合焦手段と、前記撮影される２次元画像に基づいて、前記フレーム内の略中央に前記注目領域の断層像が配置されるように、前記被測定物体に対する前記信号光の照射位置を前記被測定物体の動きに追従させる追従手段と、前記アライメント手段による前記光学系の位置の適否を判定し、前記合焦手段による合焦状態の適否を判定し、前記画像形成手段により形成される前記注目領域の断層像のフレーム内における位置の適否を判定し、前記画像形成手段により形成される断層像を解析して当該断層像の画質の適否を判定し、前記信号光の照射位置の追従状態の適否を判定する判定手段と、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、前記断層像の画質、及び前記追従状態の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする制御手段と、を備えることを特徴とする。

Claims

光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被測定物体を経由した前記信号光と参照物体を経由した前記参照光とを干渉させて干渉光を生成し、前記干渉光を検出して検出信号を生成する光学系と、
前記検出信号に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、
を有する光画像計測装置であって、
被測定物体に対する前記光学系の位置合わせを行うアライメント手段と、
前記被測定物体の注目領域に対する前記光学系の合焦を行う合焦手段と、
前記アライメント手段による前記光学系の位置の適否、前記合焦手段による合焦状態の適否、及び、前記画像形成手段により形成される前記注目領域の断層像のフレーム内における位置の適否をそれぞれ判定する判定手段と、
前記光学系の位置、前記合焦状態、及び前記フレーム内における位置の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする制御手段と、
を備えることを特徴とする光画像計測装置。
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、及び前記フレーム内における位置のうちの少なくとも１つが不適正であると判定されたときに、前記被測定物体の断層像の取得を禁止する、
ことを特徴とする請求項１に記載の光画像計測装置。
表示手段を更に備え、
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、及び前記フレーム内における位置のうちの少なくとも１つが不適正であると判定されたときに、前記表示手段に警告情報を表示させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の光画像計測装置。
前記判定手段は、更に、前記画像形成手段により形成される断層像を解析して当該断層像の画質の適否を判定し、
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、及び前記断層像の画質の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする、
ことを特徴とする請求項１に記載の光画像計測装置。
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、及び前記断層像の画質のうちの少なくとも１つが不適正であると判定されたときに、前記被測定物体の断層像の取得を禁止する、
ことを特徴とする請求項４に記載の光画像計測装置。
表示手段を更に備え、
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、及び前記断層像の画質のうちの少なくとも１つが不適正であると判定されたときに、前記表示手段に警告情報を表示させる、
ことを特徴とする請求項４に記載の光画像計測装置。
前記光学系は、前記参照光の光路上に偏光板を備え、
前記制御手段は、前記断層像の画質が不適正であると判定されたときに、画質が最大になるように前記偏光板を制御する、
ことを特徴とする請求項４に記載の光画像計測装置。
前記画像形成手段により形成される断層像に基づいて、前記フレーム内の略中央に前記注目領域の断層像が配置されるように、前記被測定物体に対する前記信号光の照射位置を前記被測定物体の動きに追従させる追従手段と、
を更に備え、
前記判定手段は、更に、前記信号光の照射位置の追従状態の適否を判定し、
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、及び前記追従状態の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする、
ことを特徴とする請求項１に記載の光画像計測装置。
前記被測定物体に対する前記信号光の進行方向に略直交する面における前記被測定物体の２次元画像を撮影する撮影手段と、
前記撮影される２次元画像に基づいて、前記フレーム内の略中央に前記注目領域の断層像が配置されるように、前記被測定物体に対する前記信号光の照射位置を前記被測定物体の動きに追従させる追従手段と、
を更に備え、
前記判定手段は、更に、前記信号光の照射位置の追従状態の適否を判定し、
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、及び前記追従状態の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする、
ことを特徴とする請求項１に記載の光画像計測装置。
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、及び前記追従状態のうちの少なくとも１つが不適正であると判定されたときに、前記被測定物体の断層像の取得を禁止する、
ことを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の光画像計測装置。
表示手段を更に備え、
前記制御手段は、前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、及び前記追従状態のうちの少なくとも１つが不適正であると判定されたときに、前記表示手段に警告情報を表示させる、
ことを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の光画像計測装置。
光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被測定物体を経由した前記信号光と参照物体を経由した前記参照光とを干渉させて干渉光を生成し、前記干渉光を検出して検出信号を生成する光学系と、
前記検出信号に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、
を有する光画像計測装置であって、
被測定物体に対する前記光学系の位置合わせを行うアライメント手段と、
前記被測定物体の注目領域に対する前記光学系の合焦を行う合焦手段と、
前記画像形成手段により形成される断層像に基づいて、前記フレーム内の略中央に前記注目領域の断層像が配置されるように、前記被測定物体に対する前記信号光の照射位置を前記被測定物体の動きに追従させる追従手段と、
前記アライメント手段による前記光学系の位置の適否を判定し、前記合焦手段による合焦状態の適否を判定し、前記画像形成手段により形成される前記注目領域の断層像のフレーム内における位置の適否を判定し、前記画像形成手段により形成される断層像を解析して当該断層像の画質の適否を判定し、前記信号光の照射位置の追従状態の適否を判定する判定手段と、
前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、前記断層像の画質、及び前記追従状態の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする制御手段と、
を備えることを特徴とする光画像計測装置。
光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被測定物体を経由した前記信号光と参照物体を経由した前記参照光とを干渉させて干渉光を生成し、前記干渉光を検出して検出信号を生成する光学系と、
前記検出信号に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、
前記被測定物体に対する前記信号光の進行方向に略直交する面における前記被測定物体の２次元画像を撮影する撮影手段と、
を有する光画像計測装置であって、
被測定物体に対する前記光学系の位置合わせを行うアライメント手段と、
前記被測定物体の注目領域に対する前記光学系の合焦を行う合焦手段と、
前記撮影される２次元画像に基づいて、前記フレーム内の略中央に前記注目領域の断層像が配置されるように、前記被測定物体に対する前記信号光の照射位置を前記被測定物体の動きに追従させる追従手段と、
前記アライメント手段による前記光学系の位置の適否を判定し、前記合焦手段による合焦状態の適否を判定し、前記画像形成手段により形成される前記注目領域の断層像のフレーム内における位置の適否を判定し、前記画像形成手段により形成される断層像を解析して当該断層像の画質の適否を判定し、前記信号光の照射位置の追従状態の適否を判定する判定手段と、
前記光学系の位置、前記合焦状態、前記フレーム内における位置、前記断層像の画質、及び前記追従状態の全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像の取得を可能にする制御手段と、
を備えることを特徴とする光画像計測装置。
前記制御手段は、前記全てが適正であると判定されたときに、前記光学系及び前記画像形成手段を制御して前記注目領域の断層像を取得させる、
ことを特徴とする請求項１、請求項４、請求項８、請求項９、請求項１２及び請求項１３のいずれか一項に記載の光画像計測装置。