JP2010152958A - 磁気ディスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の磁気ディスク1は、ディスク基体10上に、磁気記録層12、媒体保護層13、及び潤滑層14を有しており、潤滑層14は、媒体保護層13に固定された分子層である固定層141と、固定層141上で流動する分子層である流動層142とを有しており、潤滑層14を構成する潤滑剤成分は分子内にOH基を有し、潤滑層14を構成する潤滑剤成分の分子内OH基の平均数と流動層142の厚さとの積が0.4(nm・OH基の平均数)〜1.2(nm・OH基の平均数)であることを特徴とする。
【選択図】図2
Description
図1は、本発明の実施の形態に係る磁気ディスクの概略構成を示す図である。図1に示す磁気ディスク媒体1は、ディスク基体10、中間層11、磁気記録層12、媒体保護層13、潤滑層14を順次積層することにより構成されている。
まず、本発明者は、流動層142の厚さ(量)に着目した。固定層141及び流動層142の厚さは、潤滑層14の成膜条件により制御することができる。例えば、媒体保護層13の吸着サイトの量を、媒体保護層13を構成する材料、例えばカーボンの酸化量や窒素化量で変えることができる。酸化量及び窒素化量を変化させることにより、媒体保護層上のカルボニル基、ヒドロキシル基などの酸化サイト、また、不対電子を持つダングリングボンド量を変化させることができる。このようにして、媒体保護層13の吸着サイトの量を増加させた場合には、吸着サイトと化学結合する固定層141が増加して相対的に流動層142が減少する。一方、媒体保護層13の吸着サイトの量を減少させた場合には、吸着サイトと化学結合する固定層141が減少して相対的に流動層142が増加する。
X−CH2−CF2−(CF2−O)n−(CF2−CF2−O)m−CF2−CH2−X
末端の官能基Xとしては、(1)OH基(ZDOL:商品名)(1分子に含まれるOH基が2個)、(2)OCH2CH(OH)CH2OH(TETRAOL:商品名)(1分子に含まれるOH基が4個)、(3)OCH2CH(OH)CH2OCH2CH(OH)CH2OH(Bis−Adduct:Z−TETRAOL中に含まれる不純物)(1分子に含まれるOH基が6個)などが挙げられる。これらの官能基は、(1)から(3)に順に1分子中のOH基が多くなっており極性が高くなっている。これらの各分子は、超臨界精製法、ゲルパーミッションクロマトグラフィー法、分子蒸留法などの各種精製法にて分画が可能である。
(実施例1)
アルミノシリケートガラスからなる2.5インチ型化学強化ガラスディスクを準備し、ディスク基体とした。このディスク基体上に、DCマグネトロンスパッタリング法により順次下地層及び磁気記録層を成膜した。下地層は、AlRu合金薄膜からなる第1の下地層上にCrW合金薄膜からなる第2の下地層を形成することにより成膜した。磁気記録層には、CoCrPtB合金薄膜を用いた。
分子内OH基の平均数が2.0である潤滑剤(ZDOL)をディップコート法で媒体保護層上に塗布し、120℃で60分間の熱処理を施して潤滑層を形成すること以外は、実施例1と同様にして実施例2の磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの潤滑層の流動層をFT−IRで調べたところ、その厚さは0.4nmであった。したがって、潤滑層を構成する潤滑剤成分の分子内OH基の平均数と流動層の厚さとの積は0.8(nm・OH基の平均数)であった。
分子内OH基の平均数が6.0である潤滑剤(Bis−Adduct)をディップコート法で媒体保護層上に塗布し、120℃で60分間の熱処理を施して潤滑層を形成すること以外は、実施例1と同様にして実施例3の磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの潤滑層の流動層をFT−IRで調べたところ、その厚さは0.1nmであった。したがって、潤滑層を構成する潤滑剤成分の分子内OH基の平均数と流動層の厚さとの積は0.6(nm・OH基の平均数)であった。
分子内OH基の平均数が3.9である潤滑剤(Fomblin Z TETRAOL)をディップコート法で媒体保護層上に塗布し、120℃で60分間の熱処理を施して潤滑層を形成すること以外は、実施例1と同様にして実施例4の磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの潤滑層の流動層をFT−IRで調べたところ、その厚さは0.15nmであった。したがって、潤滑層を構成する潤滑剤成分の分子内OH基の平均数と流動層の厚さとの積は0.585(nm・OH基の平均数)であった。
分子内OH基が4.0である潤滑剤(Fomblin Z TETRAOL)をディップコート法で媒体保護層上に塗布し、80℃で60分間の熱処理を施して潤滑層を形成すること以外は、実施例1と同様にして比較例1の磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの潤滑層の流動層をFT−IRで調べたところ、その厚さは0.5nmであった。したがって、潤滑層を構成する潤滑剤成分の分子内OH基の平均数と流動層の厚さとの積は2.0(nm・OH基の平均数)であった。
分子内OH基が4.0である潤滑剤(FOMBLIN Z TETRAOL)をディップコート法で媒体保護層上に塗布し、150℃で90分間の熱処理を施して潤滑層を形成すること以外は、実施例1と同様にして比較例2の磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの潤滑層の流動層をFT−IRで調べたところ、その厚さは0.075nmであった。したがって、潤滑層を構成する潤滑剤成分の分子内OH基の平均数と流動層の厚さとの積は0.3(nm・OH基の平均数)であった。
分子内OH基が4.0である潤滑剤(FOMBLIN Z TETRAOL)をディップコート法で媒体保護層上に塗布し、60℃で30分間の熱処理を施して潤滑層を形成すること以外は、実施例1と同様にして比較例3の磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの潤滑層の流動層をFT−IRで調べたところ、その厚さは0.325nmであった。したがって、潤滑層を構成する潤滑剤成分の分子内OH基の平均数と流動層の厚さとの積は1.3(nm・OH基の平均数)であった。
10 ディスク基体
11 中間層
12 磁気記録層
13 媒体保護層
14 潤滑層
141 固定層
142 流動層
Claims (4)
- ディスク基体上に少なくとも磁気記録層及び保護層を備えており、前記保護層上に潤滑層を有する磁気ディスクであって、前記潤滑層は、前記保護層に固定された分子層である固定層と、前記固定層上で流動する分子層である流動層とを有しており、前記潤滑層を構成する潤滑剤成分は分子内にOH基を有し、前記分子内のOH基の平均数と前記流動層の厚さとの積が0.4(nm・OH基の平均数)〜1.2(nm・OH基の平均数)であることを特徴とする磁気ディスク。
- 前記潤滑剤成分の分子内OH基の平均数が2.0であり、前記流動層の厚さが0.2nm〜0.6nmであることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク。
- 前記潤滑剤成分の分子内OH基の平均数が4.0であり、前記流動層の厚さが0.1nm〜0.3nmであることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク。
- 前記潤滑剤成分の分子内OH基の平均数が6.0であり、前記流動層の厚さが0.1nm〜0.2nmであることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001184622A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-06 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体とその製造方法、及び磁気記録装置 |
JP2003162810A (ja) * | 2001-11-28 | 2003-06-06 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
JP2004168984A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 2分子層潤滑膜及びその製造方法 |
JP2004295992A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 記録媒体およびその製造方法 |
JP2007016124A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Fujitsu Ltd | 潤滑剤、磁気ヘッドスライダ、磁気記録媒体および磁気記録装置 |
JP2007193924A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Hoya Corp | 磁気ディスク |
WO2008038799A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Hoya Corporation | Lubrifiant pour disque magnétique, procédé de fabrication afférent et disque magnétique |
WO2008102456A1 (ja) * | 2007-02-23 | 2008-08-28 | Fujitsu Limited | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
2008
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001184622A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-06 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体とその製造方法、及び磁気記録装置 |
JP2003162810A (ja) * | 2001-11-28 | 2003-06-06 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
JP2004168984A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 2分子層潤滑膜及びその製造方法 |
JP2004295992A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 記録媒体およびその製造方法 |
JP2007016124A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Fujitsu Ltd | 潤滑剤、磁気ヘッドスライダ、磁気記録媒体および磁気記録装置 |
JP2007193924A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Hoya Corp | 磁気ディスク |
WO2008038799A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Hoya Corporation | Lubrifiant pour disque magnétique, procédé de fabrication afférent et disque magnétique |
WO2008102456A1 (ja) * | 2007-02-23 | 2008-08-28 | Fujitsu Limited | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
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