JP5484764B2 - 磁気ディスク用潤滑剤化合物及び磁気ディスク - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は以下の構成を有する。
(構成1)
基板上に少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクの前記潤滑層に含有される潤滑剤化合物であって、該潤滑剤化合物は、
化学式
基板上に、少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクであって、前記潤滑層は、
化学式
前記潤滑層中に含有される前記化合物の数平均分子量が、1000〜10000の範囲であることを特徴とする構成2に記載の磁気ディスク。
前記保護層は、プラズマCVD法により成膜された炭素系保護層であることを特徴とする構成2又は3に記載の磁気ディスク。
前記磁気ディスクは、起動停止機構がロードアンロード方式の磁気ディスク装置に搭載され、5nm以下のヘッド浮上量の下で使用される磁気ディスクであることを特徴とする構成2乃至4のいずれか一項に記載の磁気ディスク。
本発明の磁気ディスク用潤滑剤化合物は、構成1にあるように、基板上に少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクの前記潤滑層に含有される潤滑剤化合物であって、該潤滑剤化合物は、
化学式
なお、p、qは、合成、分子量の観点からは、それぞれ3〜25程度の範囲であることが好ましい。
以下に合成スキームの一例を示す。
また、本発明の潤滑剤化合物IIについても、上記出発物質を用いて、同様に上記の合成法に従って得ることができる。
本発明においては、成膜した潤滑層の保護層への付着力をより向上させるために、成膜後に磁気ディスクを50℃〜150℃の雰囲気に曝してもよい。
本発明においては、上記基板の主表面の粗さは、Rmaxが3nm以下、Raが0.3nm以下の超平滑であることが好ましい。なお、ここでいう表面粗さRmax、Raは、JIS B0601の規定に基づくものである。
(実施例1)
本実施例の磁気ディスクは、ディスク基板上に、付着層、軟磁性層、第1下地層、第2下地層、磁性層、炭素系保護層、潤滑層が順次形成されてなる。
潤滑剤として、前記本発明の潤滑剤化合物Iを前述の合成法により得て、これをGPC法で分子量分画し、Mnが3000、分子量分散度が1.08としたものを使用した。
化学強化されたアルミノシリケートガラスからなる2.5インチ型ガラスディスク(外径65mm、内径20mm、ディスク厚0.635mm)を準備し、ディスク基板とした。ディスク基板の主表面は、Rmaxが2.13nm、Raが0.20nmに鏡面研磨されている。
引き続き、プラズマCVD法により、ダイヤモンドライク炭素保護層を膜厚50Åで成膜した。
上記のように調整した潤滑剤を、フッ素系溶媒である三井デュポンフロロケミカル社製バートレルXF(商品名)に0.2重量%の濃度で分散溶解させた溶液を調整した。この溶液を塗布液とし、上記保護層まで成膜された磁気ディスクを浸漬させ、ディップ法で塗布することにより潤滑層を成膜した。
成膜後に、磁気ディスクを真空焼成炉内で130℃、90分間で加熱処理した。潤滑層の膜厚をフーリエ変換型赤外分光光度計(FTIR)で測定したところ12Åであり、後述の比較例の場合よりも薄膜化できた。潤滑層被覆率についても80%以上で良好であった。こうして、実施例1の磁気ディスクを得た。
潤滑剤としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤であるソルベイソレクシス社製のフォンブリンゼットテトラオール(商品名)をGPC法で分子量分画し、Mnが3000、分子量分散度が1.08としたものを使用した。これをフッ素系溶媒である三井デュポンフロロケミカル社製バートレルXF(商品名)に分散溶解させた溶液を塗布液とし、保護層まで成膜された磁気ディスクを浸漬させ、ディップ法で塗布することにより潤滑層を成膜した。ここで、上記塗布液の濃度を適宜調整し、潤滑剤被覆率が実施例1の磁気ディスクとほぼ同じになるように成膜した。潤滑層の膜厚は17Åであった。
この点以外は実施例1と同様にして製造した磁気ディスクを比較例とした。
磁気ディスクのLUL(ロードアンロード)耐久性を評価するために、LUL耐久性試験を行なった。
LUL方式のHDD(5400rpm回転型)を準備し、浮上量が5nmの磁気ヘッドと実施例1の磁気ディスクを搭載した。磁気ヘッドのスライダーはNPAB(負圧)スライダーであり、再生素子は磁気抵抗効果型素子(GMR素子)を搭載している。シールド部はFeNi系パーマロイ合金である。このLUL方式HDDに連続LUL動作を繰り返させて、故障が発生するまでに磁気ディスクが耐久したLUL回数を計測した。
また、LUL耐久性試験後の磁気ディスク表面を光学顕微鏡及び電子顕微鏡で詳細に観察したが、傷や汚れ等の異常は観察されず良好であった。また、LUL耐久性試験後の磁気ヘッドの表面を光学顕微鏡及び電子顕微鏡で詳細に観察したが、傷や汚れ等の異常は観察されず、また、磁気ヘッドへの潤滑剤の付着や、腐食障害も観察されず良好であった。
すなわち、本発明によれば、薄膜化された潤滑層を形成でき、しかも高い耐久性(信頼性)が得られるので、磁気スペーシング、つまりヘッドと媒体間のクリアランス低減を実現できる。
Claims (5)
- 前記潤滑層中に含有される前記化合物の数平均分子量が、1000〜10000の範囲であることを特徴とする請求項2に記載の磁気ディスク。
- 前記保護層は、プラズマCVD法により成膜された炭素系保護層であることを特徴とする請求項2又は3に記載の磁気ディスク。
- 前記磁気ディスクは、起動停止機構がロードアンロード方式の磁気ディスク装置に搭載され、5nm以下のヘッド浮上量の下で使用される磁気ディスクであることを特徴とする請求項2乃至4のいずれか一項に記載の磁気ディスク。
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