JP2009146511A - 磁気ディスク及び磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

【課題】非付着性、適度な流動性、結合性の全てを備えた潤滑層を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】潤滑層は、第一成分と第二成分とを含有する潤滑剤から構成され、前記第一成分は、重量平均分子量が５００〜６０００の範囲で、分散度は１．３未満であり、その主成分として式（１）で示される第一パーフルオロポリエーテル化合物を含有し、前記第二成分は、重量平均分子量が５００〜６０００の範囲で、１分子内に含まれる水酸基の平均個数が６〜１０の範囲である、第二パーフルオロポリエーテル化合物である磁気ディスクとする。

（但し、Ｒｆ^１は式（２）で、Ｒｔは式（３）で示される末端基である。）

【選択図】図２

Description

本発明は、磁気ディスク及び磁気ディスク装置に関し、特に、表面に潤滑層が形成された磁気ディスク及び磁気ディスク装置に関する。

ハードディスクドライブ等の磁気ディスク装置における磁気ディスクへの記録密度は増加の一途をたどっている。このように要求される高い記録密度を達成する上で有効な手段の一つとして、磁気ディスク上における磁気ヘッドの浮上距離を１０ｎｍ以下に低減する方法がある。

そして、この１０ｎｍ以下という極微小な浮上距離を達成するために、従来、例えば、特許文献１に記載のように、磁気ヘッドのスライダをいったん磁気ディスクの表面に接触させて基準位置を決定した後、当該磁気ヘッドを１０ｎｍ以下の距離だけ浮上させる方式を採用することができる。
特開２００５−１３５５０１号公報

しかしながら、従来、表面に潤滑層が形成された磁気ディスク上において、磁気ヘッドを１０ｎｍ以下という極微少距離だけ浮上させる場合においては、当該潤滑層を構成する潤滑剤が磁気ヘッドに付着するといった問題や、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間の圧力変動によって潤滑剤が移動するといった問題や、磁気ディスクの表面でいったん移動した潤滑剤がもとの位置に戻らないといった問題がより深刻なものとなっていた。

磁気ヘッドの浮上距離を１０ｎｍ以下としつつ上述のような問題を回避するためには、磁気ディスクの潤滑層は、磁気ヘッドに付着しにくい非付着性、磁気ディスクの表面における適度な流動性、磁気ディスクの表面に対する十分な結合性、という互いに相反する特性を兼ね備える必要がある。

しかしながら、従来の潤滑層は、これら非付着性、適度な流動性、結合性のうち一部を備えるものに過ぎず、これら全ての特性を兼ね備えた潤滑層を有する磁気ディスクは実現されていなかった。

本発明は、上記課題に鑑みて為されたものであって、非付着性、適度な流動性、結合性の全てを備えた潤滑層を有する磁気ディスク及び磁気ディスク装置を提供することをその目的の一つとする。

上記課題を解決するための本発明の一実施形態に係る磁気ディスクは、非磁性基板上に形成された磁性層、保護層、及び潤滑層を有する磁気ディスクであって、前記潤滑層は、第一成分と第二成分とを含有する潤滑剤から構成され、前記第一成分は、重量平均分子量が５００〜６０００の範囲で、分散度は１．３未満であり、その主成分として式（１）で示される第一パーフルオロポリエーテル化合物を含有し、前記第二成分は、重量平均分子量が５００〜６０００の範囲で、１分子内に含まれる水酸基の平均個数が６〜１０の範囲である、第二パーフルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする。

（但し、式（１）において、Ｒｆ^１は式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル鎖であり、Ｒｔは式（３）で示される末端基である。）

（但し、式（２）において、ｍ、ｎは自然数である。）

上記課題を解決するための本発明の一実施形態に係る磁気ディスク装置は、前記磁気ディスクと、前記磁気ディスクに対する情報の書き込み及び読み取りの処理を行う磁気ヘッドと、を備えたことを特徴とする。

以下に、本発明の一実施形態に係る磁気ディスク及び磁気ディスク装置について説明する。なお、本実施形態においては、本発明に係る磁気ディスク装置をハードディスクドライブとして実現した場合を例として説明する。但し、本発明は、本実施形態に限られるものではない。

図１は、本発明の一実施形態に係る磁気ディスク装置１の一例についての平面図である。図１に示すように、磁気ディスク装置１は、情報が記録される磁気ディスク１０と、当該磁気ディスク１０への情報の書き込み及び当該磁気ディスク１０に書き込まれた情報の読み出しを行う磁気ヘッド２０と、を箱型の筺体３０内に備えている。

磁気ディスク１０は、スピンドルモータ（Ｓｐｉｎｄｌｅ Ｍｏｔｏｒ：ＳＰＭ）３１によって回転可能に支持されている。磁気ヘッド２０は、ヘッドアセンブリ２１の先端部分のうち磁気ディスク１０に対向する側に設けられている。本実施形態において、この磁気ヘッド２０は、垂直磁気記録方式の磁気ヘッドである。ヘッドアセンブリ２１は、ボイスコイルモータ（Ｖｏｉｃｅ Ｃｏｉｌ Ｍｏｔｏｒ：ＶＣＭ）２２によって揺動可能に支持されている。

また、筐体３０内には回路基板４０が設けられている。この回路基板４０は、ＳＰＭ３１及びＶＣＭ２２の駆動を制御するモータドライバ、磁気ディスク装置１が接続されるホストコンピュータ（不図示）とのデータの送受信等の処理を行うハードディスクコントローラ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ：ＨＤＣ）、磁気ディスク１０に書き込まれる情報や磁気ディスク１０から読み出される情報の変調／復調等を行うリード（Ｒｅａｄ）／ライト（Ｗｒｉｔｅ）チャネル、磁気ディスク１０に対する情報の書き込みや読み出しに関する演算等の処理を行うマイクロプロセッシングユニット（Ｍｉｃｒｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ：ＭＰＵ）、ＭＰＵがその処理に用いるデータを保持するメモリ等を備えている。なお、ＭＰＵは、例えば、中央処理装置（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ：ＣＰＵ）等によって実現でき、メモリは、例えば、同期ダイナミックランダムアクセスメモリ（Ｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓ Ｄｙｎａｍｉｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ：ＳＤＲＡＭ）等によって実現できる。

回路基板４０と磁気ヘッド２０とはフレキシブルケーブル５０により電気的に接続されている。すなわち、ヘッドアセンブリ２１には一端が磁気ヘッド２０に接続された配線（不図示）が配置され、当該配線の他端はフレキシブルケーブル５０の一端に接続されている。そして、フレキシブルケーブル５０の他端は、回路基板４０に接続されている。

磁気ディスク装置１において、磁気ヘッド２０は、ホストコンピュータから受信したデータに基づいて、当該データに対応する情報を磁気ディスク１０に記録し、又は当該データに対応する情報を磁気ディスク１０から読み出す。

磁気ディスク１０に対する情報の書き込みは、ヘッドアセンブリ２１を揺動させて、当該磁気ディスク１０のうち、当該情報を書き込むべきセクタを含むトラック上に、磁気ヘッド２０を配置し、当該磁気ディスク１０の回転に応じたタイミングで、当該磁気ヘッド２０に磁界を発生させて、当該セクタを磁化することによって行う。

磁気ディスク１０に書き込まれている信号の読み出しは、ヘッドアセンブリ２１を揺動させて、当該磁気ディスク１０のうち、当該信号が書き込まれているセクタを含むトラック上に磁気ヘッド２０を配置し、当該磁気ディスク１０の回転に応じたタイミングで、当該セクタが発生させる磁界を当該磁気ヘッド２０で検出することにより行う。

本実施形態において、磁気ディスク装置１は、ロード（ｌｏａｄ）／アンロード（ｕｎｌｏａｄ）方式により動作するよう構成されている。すなわち、筐体３０内には、磁気ヘッド２０が磁気ディスク１０上から当該磁気ディスク１０外に移動した場合に待避するランプ６０が設けられている。

そして、図１に示すように、磁気ヘッド２０が磁気ディスク１０上に配置されているロード状態において、磁気ディスク１０に対する情報の書き込み又は読み取りを終えた場合には、ヘッドアセンブリ２１を揺動させ、磁気ヘッド２０を外方向Ｐ２に移動させてランプ６０の位置に待避させる。

一方、磁気ヘッド２０がランプ６０の位置で待避しているアンロード状態において、磁気ディスク１０に対する情報の書き込み又は読み取りを開始する場合には、ヘッドアセンブリ２１を揺動させ、磁気ヘッド２０を内方向Ｐ１に移動させて磁気ディスク１０上に配置する。なお、磁気ディスク装置１は、磁気ヘッド２０を磁気ディスク１０外に待避させる代わりに、磁気ディスク１０上の所定の位置に待避させるＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓｔａｒｔ Ｓｔｏｐ）方式で動作するよう構成することもできる。

図２は、磁気ディスク１０の一例についての部分断面図である。図２に示すように、磁気ディスク１０は、非磁性基板１１上に形成された磁性層１２、保護層１３、及び潤滑層１４を有している。

非磁性基板１１は、非磁性材料から成形された円盤状の基板とすることができる。非磁性基板１１を構成する非磁性材料としては、例えば、ガラスやアルミニウムを用いることができる。

磁性層１２は、非磁性基板１１上に磁性材料を用いて形成された薄膜である。磁性層１２を構成する磁性材料としては、例えば、コバルト合金を用いることができる。この磁性層１２は、例えば、スパッタ法により形成することができる。

保護層１３は、磁性層１２を保護するよう、当該磁性層１２の磁気ヘッド２０側に形成される。保護層１３を構成する材料としては、例えば、ダイヤモンドクライクカーボン等、カーボンを主体とした材料を用いることができる。この保護層１３は、例えば、スパッタ法やＩＢＤ（Ｉｏｎ Ｂｅａｍ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により形成することができる。

潤滑層１４は、保護層１３の磁気ヘッド２０側に、磁気ディスク１０の表面を被覆する最外層として形成される。潤滑層１４を構成する潤滑剤については、後に詳しく説明する。この潤滑層１４は、例えば、ディップ法により形成することができる。

なお、非磁性基板１１と磁性層１２との間には、シード層及び下地層（不図示）を形成することもできる。この場合、例えば、非磁性基板１１上にニッケル合金からなるシード層を形成し、次いで当該シード層の磁気ヘッド２０側にクロム合金からなる下地層を形成し、さらに当該下地層の当該磁気ヘッド２０側に磁性層１２を形成することができる。

また、磁性層１２は、下部磁性層、中間層、及び上部磁性層（不図示）から構成することもできる。この場合、例えば、磁性層１２は、コバルト合金からなる下部磁性層と、当該下部磁性層の磁気ヘッド２０側に形成されたＲｕ（ルテニウム）からなる中間層と、当該中間層の当該磁気ヘッド２０側に形成されたコバルト合金からなる上部磁性層と、を有することができる。

このように、少なくとも磁性層１２、保護層１３、及び潤滑層１４を有する磁気ディスク１０を備える磁気ディスク装置１においては、当該磁気ディスク１０上における磁気ヘッド２０の浮上距離を１０ｎｍ以下とすることができる。

すなわち、この磁気ディスク装置１において、磁気ヘッド２０の浮上距離は、例えば、１０ｎｍとすることができ、より高い記録密度を達成するためにはより小さい８ｎｍ以下とすることができ、より具体的には１ｎｍ〜５ｎｍの範囲とすることができる。なお、ここで浮上距離は、磁気ヘッド２０のうち磁気ディスク１０側の端部と、磁気ディスク１０に形成された潤滑層１４の当該磁気ヘッド２０側の表面と、の距離である。

また、本実施形態において、磁気ヘッド２０の浮上は、まず当該磁気ヘッド２０を磁気ディスク１０に接触させ、その後、当該磁気ヘッド２０と当該磁気ディスク１０とが接触した位置から所定の浮上距離（例えば、１０ｎｍ以下の浮上距離）だけ当該磁気ヘッド２０を浮上させることにより行う。

すなわち、磁気ディスク装置１においては、まず磁気ヘッド２０の端部を徐々に磁気ディスク１０に近づけるとともに、回路部４０の一部である浮上処理部（不図示）が、当該磁気ヘッド２０と当該磁気ディスク１０との接触の有無を監視する。磁気ヘッド２０が磁気ディスク１０と接触したかどうかは、例えば、浮上処理部が当該磁気ヘッド２０の振動に由来する特定の信号を検知することにより判断することができる。

そして、浮上処理部は、所定の閾値を超える磁気ヘッド２０の振動の増加を検出した場合に、当該磁気ヘッド２０が磁気ディスク１０に接触したと判断するとともに、当該磁気ヘッド２０と当該磁気ディスク１０との接触位置を、当該磁気ヘッド２０の浮上距離を決定するための基準位置として保持する。すなわち、この基準位置は、磁気ヘッド２０と、磁気ディスク１０の潤滑層１４の表面と、が接触した位置である。

その後、浮上処理部は、磁気ヘッド２０の端部を磁気ディスク１０から徐々に遠ざけ、当該磁気ヘッド２０の端部と当該磁気ディスク１０との距離が予め定められた浮上距離に到達したところで、当該磁気ヘッド２０の浮上高さを固定する。この結果、磁気ヘッド２０は、磁気ディスク１０上において、例えば、１０ｎｍ以下という極めて微小な浮上距離で正確に浮上することができる。

このような磁気ヘッド２０の極微少距離での浮上を可能にするため、例えば、当該磁気ヘッド２０として、その磁気ディスク１０側の端部を通電に伴う加熱により膨張させることが可能な熱式浮上量調整ヘッドを採用することができる。

この場合、磁気ヘッド２０は、そのヘッド素子の内部にヒーターを備える。そして、磁気ヘッド２０に対する電圧の印加により発熱したヒーターにより当該磁気ヘッド２０の端部を膨張、突出させ、当該磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０との距離（すなわち、浮上距離）を低減することができる。一方、磁気ヘッド２０への印加電圧を低下させることにより、いったん膨張した当該磁気ヘッド２０の端部を縮小させ、当該磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０との距離を増加させることもできる。したがって、この場合、磁気ディスク装置１は、印加電圧の大きさと磁気ヘッド２０の端部の突出量との相関関係を表すデータに基づいて、当該磁気ヘッド２０に対する印加電圧により当該磁気ヘッド２０の突出量を制御することによって、当該磁気ヘッド２０の浮上距離を精密に制御することができる。

次に、潤滑層１４を構成する潤滑剤について詳細に説明する。この潤滑剤は、第一成分と第二成分とを含有する。

第一成分は、重量平均分子量が５００〜６０００の範囲で、分散度は１．３未満であり、その主成分として、下記の式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル化合物（以下、「第一ＰＦＰＥ化合物」という。）を含有する。但し、式（１）において、Ｒｆ^１は式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル鎖であり、Ｒｔは式（３）で示される末端基である。また、式（２）において、ｍ、ｎは自然数である。

第一成分の重量平均分子量が５００未満である場合には、磁気ディスク装置１の稼動条件や周辺環境によっては、温度上昇により潤滑剤の一部が蒸発する可能性がある。また、この場合、磁気ディスク１０の回転速度が５０００ｒｐｍ（ｒｏｕｎｄ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）を超えると、当該磁気ディスク１０の表面に塗布された潤滑剤が磁気ディスク１０の回転に伴う遠心力により移動する現象（スピンオフ）や飛散が発生しやすくなり、潤滑層１４の厚さが著しく減少することがある。

また、第一成分の重量平均分子量が６０００を超える場合には、潤滑剤の粘度が大きくなり、流動性（修復性）が低下することがある。また、この場合、磁気ディスク１０を製造する際に、例えば、当該磁気ディスク１０上に厚さが１ｎｍ程度の均一な薄膜層として潤滑層１４を形成することが困難になり、当該磁気ディスク１０の被覆率の低下を招く恐れがある。

したがって、第一成分の重量平均分子量は５００〜６０００の範囲とする必要があり、さらに、例えば、磁気ディスク装置１における磁気ディスク１０の回転数が５０００〜１５０００ｒｐｍの範囲である場合には、第一成分の重量平均分子量は１０００〜４０００の範囲とすることが好ましい。

また、第一ＰＦＰＥ化合物を製造する過程においては、当該第一ＰＦＰＥ化合物の他にも、通常、上記式（１）で示される化合物であって、当該式（１）の末端基Ｒｔとして、下記の式（８）、式（９）、又は式（１０）で示される末端基を有する３種類の副成分が同時に生成される。

すなわち、第一成分は、第一ＰＦＰＥ化合物に加えて、式（１）における主鎖Ｒｆ^１の両端に式（８）で示される末端基Ｒｔが結合した第一副化合物と、式（１）における主鎖Ｒｆ^１の両端に式（９）で示される末端基Ｒｔが結合した第二副化合物と、式（１）における主鎖Ｒｆ^１の両端に式（１０）で示される末端基Ｒｔが結合した第三副化合物と、を含有し得る。

しかしながら、第一成分におけるこれら副化合物の含有量が増加すると、当該第一成分の分子量分布が広範となり、浮上距離が１０ｎｍ以下という極低浮上領域にある磁気ヘッド２０の浮上特性に悪影響を及ぼすことがある。

特に、分子量の小さい第三副化合物は、磁気ヘッド２０が繰り返し磁気ディスク１０上を浮上する際に、当該磁気ディスク１０の表面に形成された潤滑層１４の不均一化を加速し、潤滑剤の当該磁気ヘッド２０への付着を誘発する可能性を高める。したがって、第一成分における第三副化合物の含有量は、可能な限り低く抑える必要がある。

磁気ヘッド２０に対する潤滑剤の付着は、磁気ディスク装置１におけるリード（読み出し）／ライト（書き込み）特性に影響を及ぼす要因になる。また、磁気ディスク１０の表面における潤滑層１４の不均一化は、磁気ディスク装置１としての長期的な信頼性の低下を招くことになる。

したがって、第一成分の分散度は１．３未満とする必要があり、さらに１．２以下であることが好ましい。なお、ここで「分散度」とは、数平均分子量（Ｍｎ）に対する重量平均分子量（Ｍｗ）の比率（Ｍｗ／Ｍｎ）である。

また、第一成分の全体を１００重量部とした場合には、当該第一成分における第一ＰＦＰＥ化合物の含有比率は８０重量部以上とすることが好ましく、９０重量部以上とすることがより好ましい。すなわち、第一ＰＦＰＥ化合物の含有比率は１００重量部に近いほど好ましい。第一成分においては、このように第一ＰＦＰＥ化合物の純度を高めることにより、当該第一成分全体としての特性を、第一ＰＦＰＥ化合物単独の特性に近づけることができる。

また、潤滑剤全体に対する第一ＰＥＰＥ化合物の含有比率は、当該潤滑剤１００重量部に対して、８〜９２重量部の範囲とすることができる。第一ＰＦＰＥ化合物の含有比率が８重量部より小さく、第二ＰＦＰＥ化合物の含有比率が９２重量部以上である場合には、当該第一ＰＦＰＥ化合物に基づく潤滑層１４の流動性が損なわれる。

したがって、この場合、磁気ヘッド２０の浮上により発生する、磁気ディスク１０における局部的な潤滑剤の減少が修復できなくなり、磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１の長期的な信頼性を十分に確保することができないことがある。

一方、第一ＰＦＰＥ化合物の含有比率が９２重量部より大きく、第二ＰＦＰＥ化合物の含有比率が８重量部以下である場合には、当該第二ＰＦＰＥ化合物に基づく潤滑層１４の磁気ディスク１０に対する結合性が損なわれる。

したがって、この場合、高温や気圧の減少といった磁気ディスク装置１が晒される環境変化に対応でき得る、磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１の耐久性を十分に確保することができないことがある。

このような第一成分は、具体的には、例えば、ソルベイソレクシス社のＺ ＴＥＴＲＡＯＬ ＧＴシリーズの潤滑剤を利用して調製することができる。

一方、第二成分は、重量平均分子量が５００〜６０００の範囲で、１分子内に含まれる水酸基の平均個数が６〜１０の範囲である、第二のパーフルオロポリエーテル化合物（以下、「第二ＰＦＰＥ化合物」という。）である。

第二ＰＦＰＥ化合物の重量平均分子量は、上述した第一ＰＦＰＥ化合物の場合と同様の理由により、５００〜６０００の範囲である必要があり、さらに１０００〜４０００の範囲とすることが好ましい。

すなわち、第一成分と第二成分とを含有する潤滑剤は、その全体としての重量平均分子量が５００〜６０００の範囲であることが好ましく、１０００〜４０００の範囲とすることがより好ましい。

また、第二ＰＦＰＥ化合物において、分子内の水酸基の数が６個より少ない場合には、潤滑剤の磁気ディスク１０に対する十分な結合力を実現できない。一方、第二ＰＦＰＥ化合物が１０個より多い水酸基を有する場合、分子内の極性が過剰に高くなり、例えば、フッ素系溶媒や他のパーフルオロポリエーテルに対する溶解度が低下して操作性に問題が生じる。また、この場合、潤滑剤の吸湿性が高まるため製造工程上における品質管理が難しくなる。さらに、この場合、第二ＰＦＰＥ化合物の各分子が凝集しやすくなるため、磁気ディスク１０上に１ｎｍ程度の厚さの均一な薄膜層として潤滑膜１４を形成することが困難となる。また、第二ＰＦＰＥ化合物が酸化劣化しやすくなるという問題もある。

したがって、第二ＰＦＰＥ化合物の１分子内の水酸基の数は６〜１０個の範囲とする必要があり、好ましくは８〜１０個の範囲とすることができる。

第二ＰＦＰＥ化合物は、その１分子内に含まれる複数の水酸基のうち一部を末端基に有するとともに、当該複数の水酸基のうち他の一部を下記の式（４）又は式（５）の少なくとも一方で示される構造単位で主鎖中に有するものとすることができる。すなわち、第二ＰＦＰＥ化合物は、末端基に存在する水酸基以外の他の水酸基を、式（４）又は式（５）のいずれか一方で示される構造単位で有し、又は当該他の水酸基を、式（４）で示される構造単位と式（５）で示される構造単位との両方で有することができる。

この場合、第二ＰＦＰＥ化合物の各分子が、立体的にかさ高くならない状態で磁気ディスク１０上に安定して存在することができるため、当該磁気ディスク１０と磁気ヘッド２０との相互作用を効果的に抑制することができる。

すなわち、式（４）又は式（５）で示される構造単位において、各水酸基は、第二ＰＦＰＥ化合物の主鎖の少なくとも一部を構成する直鎖部分に直接結合しているため、当該水酸基は、当該直鎖部分の近傍にのみ存在することになる。さらに、第二ＰＦＰＥ化合物の末端基に存在する水酸基に加えて、主鎖中に存在する水酸基もまた、磁気ディスク１０の表面に結合できる。

したがって、第二ＰＥＰＥ化合物の各分子は、磁気ディスク１０の表面に安定して結合できるとともに、当該磁気ディスク１０の表面に結合した第二ＰＦＰＥ化合物の各分子の物理的な高さを低減することができる。この結果、磁気ディスク１０に対する潤滑層１４の結合性を高めるとともに、当該潤滑層１４の厚さを効果的に低減することもできる。

また、第二ＰＦＰＥ化合物は、下記の式（６）で示される化合物とすることができる。但し、式（６）において、Ｒｆ^１は式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル鎖であり、Ｒｔは前記水酸基のうち一部を含む式（３）で示される末端基であり、Ｒｆ^２は前記水酸基のうち他の一部を含む直鎖である。

この場合にも、第二ＰＦＰＥ化合物の各分子が、立体的にかさ高くならない状態で磁気ディスク１０上に安定して存在することができるため、当該磁気ディスク１０と磁気ヘッド２０との相互作用を効果的に抑制することができる。

すなわち、第二ＰＦＰＥ化合物の分子内においては、末端基Ｒｔに存在する４つの水酸基以外の水酸基、すなわち、残りの２〜６個の水酸基が、パーフルオロポリエーテル鎖Ｒｆ^１に挟まれた中央の直鎖部分Ｒｆ^２に存在する。このため、第二ＰＦＰＥ化合物の各分子は、末端部分と、中央部分と、の両方で磁気ディスク１０の表面に、物理的な高さが低減された状態で、安定して結合することができる。

また、この場合、第一ＰＦＰＥ化合物と第二ＰＦＰＥ化合物とは、共通の末端基Ｒｔ及びパーフルオロポリエーテル鎖Ｒｆ^１を有することとなる。このため、第一成分と第二成分との混合特性を高め、第一ＰＦＰＥ化合物に特有の特性と、第二ＰＦＰＥ化合物に特有の特性と、を効果的に兼ね備えた潤滑剤を構成することができる。

さらに、第二ＰＦＰＥ化合物が式（６）で示される化合物である場合において、当該式（６）における直鎖Ｒｆ^２は、当該第二ＰＦＰＥ化合物が有する複数の水酸基のうち一部を式（４）又は式（５）のうち少なくとも一方で示される構造単位で有することもできる。すなわち、直鎖Ｒｆ^２は、末端基Ｒｔに存在する水酸基以外の他の水酸基を、式（４）又は式（５）のいずれか一方で示される構造単位で有し、又は当該他の水酸基を、式（４）で示される構造単位と式（５）で示される構造単位との両方で有することができる。

また、上述のように第二ＰＦＰＥ化合物が、水酸基の一部を末端基以外の主鎖部分に有する場合、当該主鎖部分は、さらにフッ化炭素（ＣＦ_２）の繰り返し直鎖構造を含むこともできる。

このような第二ＰＦＰＥ化合物は、より具体的には、下記の式（７）で示される化合物とすることができる。但し、式（７）において、Ｒｆ^１は式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル鎖であり、Ｒｔは式（３）で示される末端基である。

すなわち、この場合、第二ＰＦＰＥ化合物は、式（６）で示される化合物であって、その１分子内に含まれる複数の水酸基のうち一部を末端基Ｒｔに有するとともに、当該複数の水酸基のうち他の一部を式（４）で示される構造単位と式（５）で示される構造単位との両方で主鎖中に有し、さらに当該主鎖はフッ化炭素（ＣＦ_２）の繰り返し直鎖構造を含むものとなる。

したがって、この場合にも、第二ＰＦＰＥ化合物の各分子が、立体的にかさ高くならない状態で磁気ディスク１０上に安定して存在することができるため、当該磁気ディスク１０と磁気ヘッド２０との相互作用を効果的に抑制することができる。

このような第二成分は、具体的には、例えば、日立グローバルストレージテクノロジーズ社により製造されるＺＴＭＤシリーズの潤滑剤を利用して調製することができる。

また、第二ＰＦＰＥ化合物は、上述の第一副化合物又は第二副化合物とすることもできる。これら化合物も分子内に６個の水酸基を有するため、磁気ディスク１０と強い結合が可能となり、磁気ディスク１０上に安定して存在することができる。

このような第一成分と第二成分とを含有する潤滑剤を用いることにより、磁気ディスク１０の潤滑層１４は、非付着性、結合性、及び適度な流動性の全てを備えることができる。

ここで、磁気ヘッド２０の浮上距離が低減されるに伴い、磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０とが物理的に接触する可能性が高まるが、磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０とが完全に接触するに至らない場合であっても、磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０の最上部に存在する潤滑剤との相互作用が高まることで、磁気ヘッド２０に潤滑剤が付着したり、付着した潤滑剤が磁気ディスク１０上に落下するような現象が発生し、磁気ヘッド２０の浮上特性、すなわち磁気ディスク装置１のリード／ライト特性に影響を及ぼす可能性がある。

また、磁気ヘッド２０はその空気軸受面（すなわち、磁気ヘッド２０のスライダのうち磁気ディスク１０側の面）で、圧力のバランスをとることによって磁気ディスク１０から一定の距離で浮上することができるよう設計されているが、浮上距離の低減化により潤滑剤が当該空気軸受面における圧力変動の影響を受けて流動し、磁気ディスク１０上において不均一に分布するようになる。このような潤滑層１４の不均一化現象もやはり、磁気ディスク装置１のリード／ライト特性に影響を及ぼす要因になり、さらには磁気ディスク装置１としての長期的な信頼性の低下を招くことになる。したがって、このような厳しい環境に置かれる潤滑剤は、これまで以上に、磁気ヘッド２０への非付着性と耐久性が高度に求められる。

また、潤滑剤について、このような性能の要求が高まる一方で、長期的な信頼性を確保するためには、潤滑剤は、さらに加えて、適度な流動性、すなわち修復性も兼ね備えておく必要がある。これは、磁気ディスク１０と潤滑剤との結合力を極力高めても、磁気ディスク装置１が置かれる温度・気圧・振動等の様々な環境条件や、長期間の使用によって、潤滑剤は少なからず、磁気ヘッド２０の浮上によって押しのけられたり、磁気ディスク１０の回転に伴う遠心力により移動する（スピンオフ）など、磁気ディスク１０上において局所的には不均一化するためである。

この不均一化を修復できるように潤滑剤が適度な流動性を持たなければ、磁気ディスク装置１の信頼性は確保できない。すなわち、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下である極低浮上条件下において、信頼性の高い磁気ディスク装置１を得るには、磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０との極めて狭い隙間に安定して存在し得る潤滑剤が必要となる。つまり、磁気ディスク１０用の潤滑剤には、今後さらに磁気ディスク１０との強固な結合力を持ち、且つ、適度な流動性を持つという、相反する特性を兼ね備える必要が高まる。

これに対し、本発明者らは、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下という極低浮上条件下における、当該磁気ヘッド２０の浮上特性について鋭意検討を重ねた結果、まず、磁気ディスク１０に対する適度な結合性と流動性とを兼ね備えた第一ＰＦＰＥ化合物を高純度で含有する第一成分を用いることにより、潤滑剤の磁気ヘッド２０への付着と磁気ディスク１０表面の局所的な不均一化を効果的に抑制できることを独自に見出した。

また、本発明者らは、さらに、このような高純度で第一ＰＦＰＥ化合物を含有する第一成分に、磁気ディスク１０に強固に結合する極性の高い第二ＰＦＰＥ化合物を添加することにより、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下という過酷な動作環境においても、磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１の長期的な信頼性を維持できることを独自に見出した。

すなわち、本発明者らは、適度な流動性と磁気ディスク１０に対する適度な結合力とを有する第一成分と、過酷な動作環境においても磁気ディスク１０の表面に留まることができる程の磁気ディスク１０に対する高い結合力を有する第二成分と、を組み合わせることにより、磁気ヘッド２０に対する非付着性、適度な流動性、磁気ディスク１０に対する結合性、の全てを兼ね備えた潤滑剤を実現できることを独自に見出したのである。

したがって、本発明によれば、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下という極低浮上条件下においても、当該磁気ヘッド２０への潤滑剤の付着を抑制し、長期使用においても安定して潤滑剤が磁気ディスク１０表面に存在し、信頼性を維持できる磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１を実現することができる。

次に、磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１のより具体的な例について説明する。

［実施例］
比較の対照として、第一ＰＦＰＥ化合物を主成分とする市販のＺ ＴＥＴＲＡＯＬ（ソルベイソレクシス社製）（以下、「ＰＦＰＥ（Ｉ）」という。）を用いた。このＰＦＰＥ（Ｉ）の重量平均分子量は２１５５、分散度は１．５であり、第一ＰＦＰＥ化合物の含有比率は、当該ＰＦＰＥ（Ｉ）１００重量部に対して７１重量部であった。

一方、第一成分として利用可能な第一の潤滑剤として、第一ＰＦＰＥ化合物を主成分とする市販のＺ ＴＥＴＲＡＯＬ ＧＴ（ソルベイソレクシス社製）（以下、「ＰＦＰＥ（ＩＩ）」という。）を用いた。このＰＦＰＥ（ＩＩ）の重量平均分子量は２１３０、分散度は１．２であり、第一ＰＦＰＥ化合物の含有比率は、当該ＰＦＰＥ（Ｉ）１００重量部に対して８９重量部であった。

また、第二成分として利用可能な潤滑剤として、ＺＴＭＤ（日立グローバルストレージテクノロジーズ社製）（以下、「ＰＦＰＥ（ＩＩＩ）」という。）を用いた。このＰＦＰＥ（ＩＩＩ）は、１分子内に８個の水酸基を有する式（７）で示される第二ＰＦＰＥ化合物であり、その重量平均分子量は２６６１であった。

そして、次のようにして、ＰＦＰＥ（Ｉ）、ＰＦＰＥ（ＩＩ）、又はＰＦＰＥ（ＩＩＩ）からなる潤滑層１４を有する磁気ディスク１０を作製した。すなわち、２．５インチサイズの円形ガラス基板上に、ニッケル合金からなるシード膜、クロム合金からなる下地膜、コバルト合金からなる下部磁性膜、ルテニウムからなる中間膜、コバルト合金からなる上部磁性膜を順次スパッタ成膜により形成し、その後、さらにイオンビーム法によりダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜を３．５ｎｍの厚さに形成した。このＤＬＣ膜上に、浸漬法（ディップ法）により、ＰＦＰＥ（Ｉ）、ＰＦＰＥ（ＩＩ）、又はＰＦＰＥ（ＩＩＩ）からなる厚さ１ｎｍの均一な潤滑層１４を形成した。

［浮上評価試験］
回転可能に支持された磁気ディスク１０と、ロード／アンロード方式で動作する磁気ヘッド２０と、を備えたスピンスタンド試験機を用いた。この試験機において、磁気ディスク１０を５４００ｒｐｍで回転させ、３０分間、磁気ヘッド２０を当該磁気ディスク１０の半径１６ｍｍの位置で浮上させた。

磁気ヘッド２０の浮上高さは、当該磁気ヘッド２０として上述の熱式浮上量調整ヘッドを採用することにより、２ｎｍに制御した。試験は常温常湿の環境下で実施した。磁気ヘッド２０への潤滑剤の付着の有無は、試験後に当該磁気ヘッド２０を光学顕微鏡下で観察することにより判断した。

また、磁気ディスク１０の表面における潤滑剤の挙動は、ＯＳＡ（Ｏｐｒｉｃａｌ Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて評価した。磁気ディスク１０の表面に形成された潤滑層１４は、磁気ヘッド２０の通過によって少なからず変形して、当該潤滑層１４には微小な凹凸部分が形成される。そこで、潤滑層１４の平均厚さから、最も高い凸部分における最大厚さを「最大凸部高さ」として評価し、潤滑剤の挙動の大小を比較した。

［修復性評価試験］
浮上評価試験で用いたものと同様のスピンスタンド試験機において、磁気ディスク１０を５４００ｒｐｍで回転させ、４時間、磁気ヘッド２０を当該磁気ディスク１０の半径１７ｍｍの位置で浮上させた。

磁気ヘッド２０の浮上高さは、当該磁気ヘッド２０として上述の熱式浮上量調整ヘッドを採用することにより、当該磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０との接触地点から２ｎｍ程度まで、当該磁気ヘッド２０を当該磁気ディスク１０側に押し込む深さに制御した。試験は常温常湿の環境下で実施した。

磁気ディスク１０の表面における潤滑剤の修復性はＯＳＡを用いて評価した。試験は磁気ヘッド２０をアンロードさせた時点で終了とした。試験終了直後において、磁気ディスク１０のうち磁気ヘッド２０が浮上していた位置における潤滑層１４の平均減少深さ（潤滑層１４の平均厚さを基準とした凹部の平均深さ）を「第一の平均減少深さＤ１」として評価した。また、試験終了から２４時間経過後においても、同様に、磁気ヘッド２０の浮上位置における潤滑層１４の平均減少深さを「第二の平均減少深さＤ２」として評価した。そして、第二の平均減少深さＤ２を第一の平均減少深さＤ１で除して１００を乗じた値（すなわち、計算式（Ｄ２／Ｄ１）×１００により得られる値）を修復率（％）として算出した。この修復率が高いほど、潤滑剤は、不均一化した後に再び均一化する特性、すなわち修復性に優れていることとなる。

図３には、これら浮上評価試験及び修復性評価試験の結果の一例を示す。図３に示す浮上評価試験の結果より、ＰＦＰＥ（Ｉ）を用いた磁気ディスク１０においては、最大凸部高さが最も大きく、しかも潤滑剤の磁気ヘッド２０への付着が発生した。

これに対し、ＰＦＰＥ（ＩＩ）又はＰＥＰＥ（ＩＩＩ）を用いた磁気ディスク１０においては、最大凸部高さを小さく抑えることができ、磁気ヘッド２０に対する付着もみられなかった。

また、図３に示す修復性評価試験の結果より、ＰＦＰＥ（ＩＩ）の修復率は、ＰＦＰＥ（Ｉ）及びＰＦＰＥ（ＩＩＩ）のそれに比べて高かった。ＰＦＰＥ（Ｉ）の修復率は、ＰＦＰＥ（ＩＩＩ）のそれに比べて高かった。

このように、ＰＦＰＥ（ＩＩ）については、浮上評価試験及び修復性評価試験のいずれにおいても好ましい結果が得られた。これに対し、ＰＦＰＥ（ＩＩＩ）については、浮上評価試験において良好な結果が得られたが、修復性は十分なものとはいえなかった。また、ＰＦＰＥ（Ｉ）の特性は、ＰＦＰＥ（ＩＩ）及びＰＥＰＥ（ＩＩＩ）のいずれに比しても劣るものであった。

ここで、ＰＦＰＥ（Ｉ）及びＰＦＰＥ（ＩＩ）の主成分は共に、第一ＰＦＰＥ化合物である。ＰＦＰＥ（Ｉ）とＰＦＰＥ（ＩＩ）との違いは、この第一ＰＦＰＥ化合物の含有比率、すなわち主成分以外の副成分の含有比率であり、このような比率の差が上述の試験の結果に反映されたものと考えられる。

すなわち、ＰＦＰＥ（Ｉ）には、上述の第一副化合物及び第二副化合物が合わせて１０重量％程度含まれるとともに、上述の第三副化合物もまた１０重量％程度含まれ、残りの約８０重量％が第一ＰＦＰＥ化合物である。

図３に示されているＰＦＰＥ（Ｉ）の結果は、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下という極低浮上領域においては、ＰＦＰＥ（Ｉ）から構成される潤滑層１４が容易に流動して不均一化しやすく、当該磁気ヘッド２０に付着しやすいことを示している。

このような結果は、特に、ＰＦＰＥ（Ｉ）における第三副化合物の存在に起因していると考えられる。すなわち、この第三副化合物は、主成分である第一ＰＦＰＥ化合物に比べて分子量が小さく、しかも１分子内の水酸基の個数が２個と少ないため、磁気ディスク１０に対する結合性に乏しい。

このため、磁気ディスク１０の表面においてＰＦＰＥ（Ｉ）の流動性は必要以上に高いものとなり、この結果、浮上評価試験においては、最大凸部高さの顕著な増加と、磁気ヘッド２０への容易な付着が発生したと考えられる。

一方、核磁気共鳴（Ｎｕｃｌｅａｒ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ：ＮＭＲ）による分析の結果から、ＰＦＰＥ（ＩＩ）における第三副化合物の含有比率は５重量％程度であり、ＰＦＰＥ（Ｉ）の約半分と少なかった。このため、ＰＦＰＥ（ＩＩ）の流動性はＰＦＰＥ（Ｉ）に比して低減され、磁気ヘッド２０への付着も発生しなかったと考えられる。

また、ＰＦＰＥ（Ｉ）における第一副化合物及び第二副化合物の含有比率は、ＰＦＰＥ（ＩＩ）のそれに比べて高かった。これら第一副化合物及び第二副化合物は、水酸基を６個有し、高い極性を有するため、第一ＰＦＰＥ化合物に比べて、磁気ディスク１０への結合性が高い。

このため、ＰＦＰＥ（Ｉ）の磁気ディスク１０への結合性はＰＦＰＥ（ＩＩ）のそれよりも高くなり、当該ＰＦＰＥ（Ｉ）からなる潤滑膜１４は、当該ＰＦＰＥ（ＩＩ）からなる潤滑膜１４に比べて、いったん不均一化すると、その不均一な状態を維持しやすくなり、修復性が低かったと考えられる。

これらの結果から、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下という極低浮上仕様の磁気ディスク装置１に適用する潤滑剤においては、分子量が低く、且つ、１分子内の水酸基の個数が少なく、磁気ディスク１０との結合性に乏しい成分の存在は好ましくないと考えられた。

そして、副成分の含有量が低減され、高純度の第一ＰＦＰＥ化合物を含有するＰＦＰＥ（ＩＩ）は、磁気ヘッド２０に付着しにくい非付着性と、最大凸部高さを抑えつつ高い修復性を実現する適度な流動性と、を備えていることが確認された。

一方、ＰＦＰＥ（ＩＩＩ）は、第二ＰＦＰＥ化合物が水酸基を８個有することに起因する、磁気ディスク１０に対する高い結合性のために、修復性には乏しい一方で最大凸部高さはＰＦＰＥ（ＩＩ）と同程度に抑えることができ、さらに十分な非付着性を備えていることが確認された。

［減圧試験］
上述の浮上評価試験及び修復性評価試験における例と同様に、ＰＦＰＥ（Ｉ）、ＰＦＰＥ（ＩＩ）、又はＰＦＰＥ（ＩＩＩ）からなる潤滑層１４が形成された磁気ディスク１０を作製した。そして、ＰＦＰＥ（Ｉ）、ＰＦＰＥ（ＩＩ）、又はＰＦＰＥ（ＩＩＩ）のそれぞれについて、磁気ディスク１０を備えた磁気ディスク装置１を６台ずつ作製した。

各磁気ディスク装置１を減圧チャンバーの中に設置し、室温でランダムに磁気ヘッド２０にリード処理及びライト処理を実行させながら、当該減圧チャンバー内の圧力を徐々に低減した。なお、チャンバー内の減圧に伴い、磁気ヘッド２０の浮上距離は減少していくため、当該磁気ヘッド２０と潤滑層１４との相互作用、及び当該磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０との接触の可能性が増大していく。したがって、この減圧試験では、減圧により磁気ヘッド２０と磁気ディスク１０との接触を引き起こすような過酷な環境を作り出することによって、磁気ディスク１０の耐久性、すなわち磁気ディスク１０に対する潤滑剤の結合力を検証することができる。

具体的に、チャンバー内の圧力を０．４５９ａｔｍ（地上から２０Ｋｆｔの地点に相当する圧力）に維持した減圧状態で、磁気ディスク装置１におけるハードエラーの発生の有無を検査した。そして、ＰＦＰＥ（Ｉ）、ＰＦＰＥ（ＩＩ）、又はＰＦＰＥ（ＩＩＩ）のそれぞれについて、６台の磁気ディスク装置１のうち、ハードエラーが発生した台数を評価した。

図４には、この減圧試験の結果の一例を示す。図４に示すように、ＰＦＰＥ（Ｉ）又はＰＦＰＥ（ＩＩＩ）からなる潤滑層１４が形成された磁気ディスク装置１については、６台全てにおいてハードエラーは発生しなかった。これに対し、ＰＦＰＥ（ＩＩ）からなる潤滑層１４が形成された磁気ディスク装置１については、６台のうち３台においてハードエラーが発生した。すなわち、ＰＦＰＥ（ＩＩ）を用いた磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１の耐久性は著しく劣っていた。

図４に示される減圧試験の結果についても、上述したようなＰＦＰＥ（Ｉ）とＰＦＰＥ（ＩＩ）との第一ＰＦＰＥ化合物の含有比率、すなわち副成分の含有比率の違いが反映されたものと考えられる。

すなわち、減圧試験のような耐久性を要求される試験では、潤滑剤がいかに磁気ディスク１０と強固に結合しているかという点が重要となる。この結合性を担う潤滑剤の成分は、極性の高い化合物である。すなわち、潤滑剤の結合性を高めるには、例えば、水酸基を８個有する第二ＰＦＰＥ化合物が有効である。また、このような１つの分子内に多くの水酸基を有する化合物としては、ＰＦＰＥ（Ｉ）中にも、水酸基を６個有する上述の第一副化合物及び第二副化合物が１０重量％程度存在している。

これに対し、ＰＦＰＥ（ＩＩ）に水酸基を６個以上有する極性の高いパーフルオロポリエーテル化合物はほとんど存在していない。このため、ＰＦＰＥ（ＩＩ）を用いた磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１の耐久性は、ＰＦＰＥ（Ｉ）を用いた磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１のそれより劣る結果になったものと考えられる。

このように、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下の場合においては、第一ＰＦＰＥ化合物のように水酸基を４個有するパーフルオロポリエーテル化合物であっても、その極性は長期的な耐久性を獲得するためには十分でなく、当該第一ＰＦＰＥ化合物の純度を高めるだけでは潤滑剤に要求される特性を全て十分に備えることができないことが確認された。

したがって、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下という極低浮上仕様の磁気ディスク装置１に適用する潤滑剤は、磁気ディスク１０と強固に結合しうる極性の高い成分をも含む必要があると考えられた。

これらの検討により、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下という極低浮上領域において、ＰＦＰＥ（Ｉ）、ＰＦＰＥ（ＩＩ）、又はＰＦＰＥ（ＩＩＩ）のいずれかを単独で潤滑剤として使用した場合には、（ｉ）磁気ヘッド２０に付着しない非付着性、（ｉｉ）修復性を高めるための適度な流動性、（ｉｉｉ）過酷な環境においても十分な耐久性を発揮するための結合性、という３つの特性の全てを満足する程度に備えることができないことがわかった。

一方で、上述のような考察に基づけば、例えば、ＰＦＰＥ（ＩＩ）とＰＦＰＥ（ＩＩＩ）とを混合して用いることにより、非付着性、流動性、結合性の全てを兼ね備えた潤滑剤を実現できることが確認された。

また、上述のＰＦＰＥ（Ｉ）及びＰＦＰＥ（ＩＩ）における副成分の含有比率の比較の結果に基づいて、第一ＰＦＰＥ化合物は、第一成分全体の１００重量部に対し、８０重量部以上含まれることが好ましいことも確認された。

また、ＰＦＰＥ（Ｉ）についての減圧試験の結果に基づいて、水酸基を６個有する第一副化合物及び第二副化合物も第二成分として利用可能であると考えられる一方で、上述の試験の結果全体から、水酸基を８個有するＰＦＰＥ（ＩＩＩ）のような第二ＰＦＰＥ化合物が第二成分としてより好ましいとも考えられた。

上述したような第一成分と第二成分とを含有する潤滑剤を用いれば、磁気ヘッド２０の浮上距離が１０ｎｍ以下の極低浮上領域にあって、潤滑剤の磁気ヘッド２０への付着を抑制し、長期使用においても潤滑剤が安定して磁気ディスク１０の表面に存在し、信頼性を維持できる磁気ディスク１０及び磁気ディスク装置１を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る磁気ディスク装置の一例についての平面図である。 本発明の一実施形態に係る磁気ディスクの一例についての部分断面図である。 本発明の一実施形態に係る磁気ディスクについて行った浮上評価試験及び修復性評価試験の結果の一例を示す説明図である。 本発明の一実施形態に係る磁気ディスクについて行った減圧試験の結果の一例を示す説明図である。

符号の説明

１ 磁気ディスク装置、１０ 磁気ディスク、１１ 非磁性基板、１２ 磁性層、１３ 保護層、１４ 潤滑層、２０ 磁気ヘッド、２１ ヘッドアセンブリ、２２ ボイスコイルモータ、３０ 筐体、３１ スピンドルモータ、４０ 回路基板、５０ フレキシブルケーブル、６０ ランプ。

Claims (9)

1. 非磁性基板上に形成された磁性層、保護層、及び潤滑層を有する磁気ディスクであって、
   前記潤滑層は、第一成分と第二成分とを含有する潤滑剤から構成され、
   前記第一成分は、重量平均分子量が５００〜６０００の範囲で、分散度は１．３未満であり、その主成分として式（１）で示される第一パーフルオロポリエーテル化合物を含有し、
   前記第二成分は、重量平均分子量が５００〜６０００の範囲で、１分子内に含まれる水酸基の平均個数が６〜１０の範囲である、第二パーフルオロポリエーテル化合物である
   ことを特徴とする磁気ディスク。
   

   

   （但し、式（１）において、Ｒｆ^１は式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル鎖であり、Ｒｔは式（３）で示される末端基である。）
   

   

   （但し、式（２）において、ｍ、ｎは自然数である。）
   

   
2. 前記潤滑剤における前記第一パーフルオロポリエーテル化合物の含有比率は、前記潤滑剤１００重量部に対して、８〜９２重量部の範囲である
   ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク。
3. 前記第二パーフルオロポリエーテル化合物は、前記水酸基のうち一部を末端基に有するとともに、前記水酸基のうち他の一部を式（４）又は式（５）のうち少なくとも一方で示される構造単位で主鎖中に有する
   ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク。
   

   

   
4. 前記第二パーフルオロエーテル化合物は、式（６）で示される化合物である
   ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク。
   

   

   （但し、式（６）において、Ｒｆ^１は式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル鎖であり、Ｒｔは前記水酸基のうち一部を含む式（３）で示される末端基であり、Ｒｆ^２は前記水酸基のうち他の一部を含む直鎖である。）
5. 前記式（６）において、直鎖Ｒｆ^２は、前記水酸基のうち他の一部を式（４）又は式（５）のうち少なくとも一方で示される構造単位で有する
   ことを特徴とする請求項４に記載の磁気ディスク。
6. 前記第二パーフルオロエーテル化合物は、式（７）で示される化合物である
   ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク。
   

   

   （但し、式（７）において、Ｒｆ^１は式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル鎖であり、Ｒｔは式（３）で示される末端基である。）
7. 請求項１に記載の磁気ディスクと、
   前記磁気ディスクに対する情報の書き込み及び読み取りの処理を行う磁気ヘッドと、
   を備えた
   ことを特徴とする磁気ディスク装置。
8. 前記磁気ディスク上における前記磁気ヘッドの浮上距離が１０ｎｍ以下である
   ことを特徴とする請求項７に記載の磁気ディスク装置。
9. 前記磁気ディスク上における前記磁気ヘッドの浮上は、まず前記磁気ヘッドを前記磁気ディスクに接触させ、その後、前記磁気ヘッドと前記磁気ディスクとが接触した位置から前記浮上距離だけ前記磁気ヘッドを浮上させることにより行う
   ことを特徴とする請求項８に記載の磁気ディスク装置。

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