JP4828114B2

JP4828114B2 - 組成物を含む潤滑剤、磁気記録媒体、ヘッドスライダおよび磁気記録装置

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Publication number: JP4828114B2
Application number: JP2004330501A
Authority: JP
Inventors: 洋千葉; 由紀子押久保; 慶二渡部; 栄進山川; 武東海林
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Priority date: 2004-11-15
Filing date: 2004-11-15
Publication date: 2011-11-30
Anticipated expiration: 2024-11-15
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Description

本発明は、磁気記録装置用の潤滑剤に関する。

磁気記録装置においては、記録変換素子（本発明では単にヘッドともいう）を備えたヘッドスライダが、磁気記録媒体であるハードディスク上を浮上しながら情報の読み書きを行う。

ヘッドと、ハードディスク上で磁気情報を記録（書き込み）あるいは再生（読み取り）するための磁性層との距離は磁気スペーシングと呼ばれ、磁気スペーシングが狭いほど記録密度が向上する。一方、情報の転送速度を上げるためにはハードディスクの回転数を高くする必要がある。近年の記録密度と転送速度の向上に伴い、低浮上化、高速回転化が進み、現在、ヘッド浮上高さは１０ｎｍ程度、回転数は１５０００回転／分（ｒｐｍ）程度となっている。

ハードディスクドライブにおいては、ドライブの信頼性を高めるため、一般に磁気ディスク上やヘッドスライダ上に潤滑剤がおおよそ１〜２ｎｍの厚さで塗布されている。この潤滑剤はヘッドがディスクに接触する際に摩擦や摩耗を減らし、障害の発生を防止している。

潤滑剤の膜厚はヘッド浮上高さの１０％程度となっていることから、磁気スペーシングに対して、無視できない厚さになっている。このため、近年の低浮上化、高速回転化に伴い、潤滑剤に対しての要求特性はより厳しくなってきており、単一の成分では所望の特性が得られなくなってきている。そこで、たとえば２種類の潤滑剤の混合からなる潤滑剤を用いることが考案されている（たとえば特許文献１，２参照。）。これは、低粘性の潤滑剤と高基板吸着性の（基板への吸着性の高い）潤滑剤を混合し使用することで、潤滑剤の基板吸着性と流動性の両立を狙ったものである。
特開平１０−１４３８３８号公報（特許請求の範囲）特開平９−２８２６４２号公報（特許請求の範囲）

しかしながら、上記の方法では、２種類の潤滑剤の基板吸着力を比較した場合、たとえば、特許文献１の例で説明すると、式（６）で表されるＦＯＭＢＬＩＭＺＴＥＴＲＡＯＬ（ソルベイソレクシス社製、分子量２０４０）の吸着力は、式（２）で表されるＦＯＭＢＬＩＮＺＤＯＬ（ソルベイソレクシス社製、分子量２０２０）より著しく強く、これらを混合し、磁気ディスク上に塗布すると、ＦＯＭＢＬＩＮＺＤＯＬの存在により、流動性が高まり、好ましい膜形成性が実現されるが、高速回転により、式（２）で表されるポリマーが飛散して減少し、式（６）で表されるポリマーの割合が増加し、ひいては浮上障害が引き起こされることが判明した。

本発明は、上記問題点を解決し、十分な流動性を示し、かつ高い基板吸着性が発揮される組成物、この組成物を使用した磁気記録媒体、ヘッドスライダおよび磁気記録装置を提供することを目的としている。本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるであろう。

本発明の一態様によれば、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含有する組成物が提供される。

（式（１）中、ｐおよびｑは他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）
組成物の数平均分子量が５００〜５０００であり、かつ¹⁹ＦＮＭＲで観測される、組成物中の式（３）で表される末端基のモル数（Ａ）と式（４）で表される末端基のモル数（Ｂ）の比率（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜９５：５の範囲にあることが好ましい。

本発明の他の一態様によれば、式（２）で表されるポリマーとグリシドールとを反応させてなるポリマーを含有する組成物であって、組成物の数平均分子量が５００〜５０００の間にあり、組成物中における、¹⁹ＦＮＭＲで観測される式（３）で表される末端基のモル数（Ａ）と式（４）で表される末端基のモル数（Ｂ）の比率（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜９５：５の範囲にある組成物が提供される。

（式（２）中、ｐおよびｑは他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）
組成物が、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含有することが好ましい。

また、上記いずれの組成物についても、組成物が式（２）で表されるポリマーを含有すること、組成物が式（６）で表されるポリマーを含有すること、

（式（６）中、ｐおよびｑは、他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）組成物中における、上記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（２）で表されるポリマーのモル数（Ｄ）の和に対する上記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上であること、組成物中における、上記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）の和に対する上記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上であること、とりわけ、組成物中における、上記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）の和に対する上記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が６０％以上であること、組成物中における、上記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（２）で表されるポリマーのモル数（Ｄ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）との和に対する上記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上であることが好ましい。

本発明態様により、十分な流動性を示し、かつ高い基板吸着性が発揮される組成物が得られる。

本発明の更に他の態様によれば、磁性層と、磁性層上にある保護層と、保護層上にある磁気記録媒体潤滑層とを含む磁気記録媒体であって、磁気記録媒体潤滑層が上記の組成物を塗布してなるものである磁気記録媒体、および磁気記録媒体に対し、記録および／または再生を行うための記録変換素子を備えたヘッドスライダであって、磁気記録媒体に面する側のヘッドスライダ面に、上記の組成物を塗布してなるヘッドスライダ潤滑層を有するヘッドスライダ、および、上記の磁気記録媒体と上記のヘッドスライダの少なくとも一方を用いてなる磁気記録装置が提供される。

これらの磁気記録媒体およびヘッドスライダについては、潤滑剤塗布後に、活性エネルギー線処理と加熱処理の少なくともいずれか一方の処理を施してなるものであることが好ましい。

これらの発明態様により、トラブルの少ない磁気記録媒体およびヘッドスライダおよび磁気記録装置が得られる。

本発明の更に他の一態様によれば、上記の組成物に活性エネルギー線処理と加熱処理の少なくともいずれか一方の処理を施してなる組成物が提供される。

本発明の更に他の態様によれば、磁性層と、磁性層上にある保護層と、保護層上にある磁気記録媒体潤滑層とを含む磁気記録媒体であって、磁気記録媒体潤滑層が上記処理後の組成物よりなる、磁気記録媒体、および、磁気記録媒体に対し、記録および／または再生を行うための記録変換素子を備えたヘッドスライダであって、磁気記録媒体に面する側のヘッドスライダ面に、上記処理後の組成物よりなるヘッドスライダ潤滑層を有する、ヘッドスライダ、および、上記の磁気記録媒体と上記のヘッドスライダの少なくとも一方を用いてなる磁気記録装置が提供される。これらの発明態様により、上記と同様の効果が得られる。

本発明により、十分な流動性を示し、かつ高い基板吸着性が発揮される組成物、この組成物を潤滑剤として使用した、トラブルの少ない磁気記録媒体、ヘッドスライダおよび磁気記録装置が得られる。

以下に、本発明の実施の形態を図、式、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、式、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。なお、本発明に係る式中、ｐおよびｑは、他の式におけるｐおよびｑとは独立に任意の整数を表す。

なお、以下、本発明を主としてハードディスク装置について説明するが、本発明に係る「ヘッドスライダ」には、ロード／アンロードタイプの機構で動作するもの、コンタクト・スタート・ストップの機構で動作するもの、完全浮上方式で情報を記録し、再生するもの、気液混合方式で情報を記録し、再生するもの、コンタクト方式で情報を記録し、再生するものなど、ハードディスク装置用のものに限らず、いかなるヘッドスライダも含まれる。また、本発明に係る「磁気記録媒体」は、ハードディスク装置に使用される、面内媒体、ＳＦＭ（ＳｙｎｔｈｅｔｉｃＦｅｒｒｉｍａｇｎｅｔｉｃＭｅｄｉｕｍまたはＡｎｔｉｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃａｌｌｙＣｏｕｐｌｅｄＭｅｄｉａ）、垂直記録媒体、パターンド媒体など、どのような記録媒体であってもよい。また、本発明に係る「磁気記録装置」には、このようなヘッドスライダや磁気記録媒体を使用するすべての磁気記録装置が含まれる。

このような装置を図２，３に例示する。図２はハードディスク装置の内部構造を示す模式的平面図であり、図３は、ヘッド（記録変換素子）と、磁気記録媒体との関係を示す模式的横断面図（磁気記録媒体磁性層に垂直な方向で切断した図）である。

このハードディスク装置は、図２に示すように磁気記録媒体１とヘッドを備えたヘッドスライダ２、磁気記録媒体１の回転制御機構（たとえばスピンドルモータ）３、ヘッドの位置決め機構４および記録再生信号の処理回路（リードライトアンプ等）５を主要構成要素としている。

ヘッドスライダ２は、図３に示すように、サスペンジョン６およびヘッドスライダ２を柔軟に支持するためのジンバル７により、ヘッドの位置決め機構４と連結されており、その先端にヘッド８が設けられている。ヘッドスライダ面にはヘッド保護層９とヘッド潤滑層１０が設けられている。

磁気記録媒体１１は、図３の下方から基板１２、Ｃｒ下地層１３，磁性層１４，媒体保護層１５，媒体潤滑層１６等がある。シード層等のその他の層が設けられる場合もあるが本図では省略してある。各層の厚さは、ハードディスクの場合、媒体潤滑層で１〜２ｎｍ程度、媒体保護層で３〜５ｎｍ程度、磁性層で２０ｎｍ程度、Ｃｒ下地層で１０ｎｍ程度が一般的である。

本発明に係る組成物は、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含有する。

なお、本発明に係る組成物は、いわゆる潤滑剤として、保護すべき対象物の表面を被覆して潤滑性を与え、対象物の表面の傷付きを防止する用途ならばどのような用途に使用してもよいが、特に磁気記録装置の磁気記録媒体やヘッドスライダの潤滑層として好適に使用することができる。

以下においては本発明に係る組成物を、主に、本発明に係るポリマーのみからなるものとして説明するが、本発明に係るポリマー以外の潤滑剤成分を含んでいてもよい。溶媒として他の有機物を含んでいてもよい。

従来の式（６）で表されるポリマーと式（２）で表されるポリマーの混合した組成物を潤滑剤として塗布した磁気ディスクを高速に回転させると、式（２）で表されるポリマーの基板吸着力が弱いために、式（２）で表されるポリマーは飛散してしまうが、本発明ではこのような問題が克服され、磁気記録装置の磁気記録媒体やヘッドスライダの潤滑層に使用した場合、十分な流動性を示し、かつ高い基板吸着性が発揮されるようになる。

従来の式（６）で表されるポリマーと式（２）で表されるポリマーの混合した組成物を潤滑剤として塗布した磁気ディスクについては、式（２）で表されるポリマーの基板吸着力が弱いためばかりではなく、分子として独立しているため充分な基板吸着性が得られないものと考えられる。

これに対し本発明においては、式（２）で表されるポリマーの末端基（−ＣＦ₂ＣＨ₂ＯＨ）と式（６）で表されるポリマーの末端基（−ＣＦ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＨ）とを一つのポリマーが有するようにすることにより、式（２）で表されるポリマーの有する流動性と式（６）で表されるポリマーの有する高い基板吸着力とを同時に達成できるのである。

上記組成物は、数平均分子量が５００〜５０００であり、かつ¹⁹ＦＮＭＲで観測される式（３）で表される末端基のモル数（Ａ）と式（４）で表される末端基のモル数（Ｂ）の比率（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜９５：５の範囲にあることが好ましい。数平均分子量が５００未満では、たとえば磁気ディスク上に塗布して場合、高速回転による飛散量が増大し易い。数平均分子量が５０００を超えると、潤滑剤としての流動性が不充分となりやすい。また、Ａの割合が大きければ基板吸着力をより高くできるが、上記範囲を超えて大きくなりすぎると、基板吸着力は高くなる一方、潤滑剤としての流動性が不充分となりやすい。Ｂの割合が大きければ流動性をより高くできるが、上記範囲を超えて大きくなりすぎると、基潤滑剤としての流動性は高くなる一方、基板吸着力が不充分となりやすい。

なお、上記組成物が、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテル単独からなるものであれば、数平均分子量は式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルの数平均分子量として求めればよいが、その他の潤滑剤を含む場合には、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルとその他の潤滑剤との合計について、それらが一つのポリマーであるように扱って、数平均分子量を求める。溶媒が存在する場合には溶媒を除去した後に数平均分子量を求める。

上記組成物は式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテル単独よりなる組成物であっても十分な効果を発揮するが、式（２）で表されるポリマーまたは式（６）で表されるポリマー、さらには式（２）で表されるポリマーと式（６）で表されるポリマーとを混合使用し、潤滑剤としての機能の最適化を図ることも可能である。式（２）で表されるポリマーを加えれば流動性をより高くでき、式（６）で表されるポリマーを加えれば基板吸着力をより高くできる。

この場合の量比は、組成物中における、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と（２）で表されるポリマーのモル数（Ｄ）の和に対する式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上（すなわち、（Ｃ／（Ｃ＋Ｄ））×１００≧１０）であることが好ましい。１０％未満では、（２）で表されるポリマーの飛散によるトラブルが生じる恐れがある。

また、組成物中における、Ｃと（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）の和に対するＣの割合が１０％以上（すなわち、（Ｃ／（Ｃ＋Ｅ））×１００≧１０）であることが好ましい。１０％未満では、組成物の流動性が不足する場合がある。ＣとＥの和に対するＣの割合が６０％以上であることがより好ましい。

また、上記組成物中における、ＣとＤとＥとの和に対するＣの割合が１０％以上（すなわち、（Ｃ／（Ｃ＋Ｄ＋Ｅ））×１００≧１０）であることが好ましい。１０％未満では、本発明の効果が出にくくなる場合がある。

基板吸着力と潤滑剤としての流動性とのバランスは、式（２）で表されるポリマーと式（５）で表されるグリシドール（２，３−エポキシ−１−プロパノール）とを反応させ、組成物として作製することができることが判明した。恐らく反応生成物として、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含む混合組成物が得られるためと思われるが、他の要素も含まれているかもしれない。

この組成物を潤滑剤として使用する場合には、混合物のまま使用しても、精製して式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルの含有量を高めて使用してもよい。このことから、本組成物が、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含有することが好ましいことが理解される。

本組成物についても、その数平均分子量が５００〜５０００の間にあり、本組成物中における、¹⁹ＦＮＭＲで観測される式（３）で表される末端基のモル数（Ａ）と式（４）で表される末端基のモル数（Ｂ）の比率（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜９５：５の範囲にあることがより好ましい。数平均分子量が５００未満では、たとえば磁気ディスク上に塗布して場合、高速回転による飛散量が増大し易い。数平均分子量が５０００を超えると、潤滑剤としての流動性が不充分となりやすい。なお、本組成物についての数平均分子量の求め方は、上記の式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含有する組成物について示したのと同様である。

末端基モル数（Ａ）と末端基モル数（Ｂ）の比率（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜９５：５の範囲にあることが好ましいのは、Ａが増えすぎると、基板吸着力は高くなるが、潤滑剤としての流動性が不充分となりやすく、Ｂが増えすぎると、基潤滑剤としての流動性は高くなるが、基板吸着力が不充分となりやすいからである。

さらに、この組成物についても、上記の式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含有する組成物についてと同様、式（２）で表されるポリマーおよび／または式（６）で表されるポリマーを含有することが好ましく、これらのポリマーを含有する場合には、本組成物中における、ＣとＤの和に対するＣの割合が１０％以上であること、ＣとＥの和に対するＣの割合が１０％以上であること、とりわけ６０％以上であること、およびＣとＤとＥとの和に対するＣの割合が１０％以上であることが好ましい。

これらの組成物は、磁性層と、磁性層上にある保護層と、保護層上にある磁気記録媒体潤滑層とを含む磁気記録媒体用の潤滑剤として、磁気記録媒体潤滑層を形成するのに好ましく使用することができる。

上記と同様、これらの組成物は、磁気記録媒体に対し、記録および／または再生を行うための記録変換素子を備えたヘッドスライダであって、磁気記録媒体に面する側のヘッドスライダ面にヘッドスライダ潤滑層を有する、ヘッドスライダ用の潤滑剤として、ヘッドスライダ潤滑層を形成するのにも好ましく使用することができる。

これらの潤滑層については、特に、組成物の塗布後に、活性エネルギー線処理と加熱処理の少なくともいずれか一方の処理を施すと、保護層や磁気記録媒体に面する側のヘッドスライダ面との密着力（基板吸着力）が増し、好ましい。活性エネルギー線処理と加熱処理とは、その両方を採用する場合には、両者を同時に行ってもよく、いずれか一方を先に行いその後他方を行ってもよい。更に複数回の活性エネルギー線処理および／または加熱処理を組み合わせてもよい。活性エネルギー線としては紫外線を例示することができる。加熱処理における加熱温度の範囲には特に制限はないが、結合効率と熱安定性の点で８０〜２００℃の範囲が好ましい。

なお、活性エネルギー線および／または熱で処理された後には、架橋構造が生じたりして、本発明に係るポリマーが変性する場合があるが、このような状態の組成物も本発明の範疇に属する。すなわち、活性エネルギー線および／または熱で処理された後の組成物中に、本発明の係るポリマーが単離された状態で存在していなくても、活性エネルギー線および／または熱で処理される前の組成物中にこれらが存在したと判断できれば、活性エネルギー線および／または熱で処理された後の組成物も本発明に係る組成物である。

このようにして得られた組成物を潤滑剤として使用した磁気記録媒体用および／またはヘッドスライダを有する磁気記録装置では、長期間に渡ってヘッドクラッシュ等のトラブルを防止または大幅に減少させることができる。

次に本発明の実施例および比較例について詳述する。

［実施例１］
（組成物の合成）
ターシャリーブチルアルコール４５０ｍＬに、市販品のＦＯＭＢＬＩＮＺＤＯＬの１００ｇとグリシドール０．１ｍｏＬとを加えよく撹拌しながら、室温で、ターシャリーブトキシカリウム１１．６ｇをターシャリーブチルアルコールに溶解した溶液を３０分かけて滴下し、室温のまま４時間撹拌した。

その後エバポレーターでターシャリーブチルアルコールを蒸発させ、残分に水４００ｍＬとトリフルオロ酢酸１０ｍＬとを加え、室温で１０分撹拌した。純水で２回水洗して不溶成分を除去し、その後エバポレーターで水分を蒸発させ、所望の組成物を得た。

¹⁹ＦＮＭＲによる分析では、数平均分子量が１９６０、全末端基数に対する式（３）で表される末端基数の割合（以下、「全末端基数に対するある末端基数の割合」を「末端基置換率」と言う）が３５．７モル％、式（４）で表される末端基の末端基置換率が６２．７モル％であった。

高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）にて分析を行ったところ、この組成物は、図１に示すように、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルと式（２）で表されるポリマーと式（６）で表されるポリマーとを含有しており、ＣとＤとＥとのモル数の比は、４３．１：４２．５：１４．４であった。

［実施例２］
（組成物の精製）
実施例１で得られた組成物を二酸化炭素の超臨界流体で抽出し、六つの成分に分画した。それぞれの分画物について¹⁹ＦＮＭＲ分析を行い、数平均分子量（Ｍｎ）、式（３）で表される末端基の末端基置換率（ＲＯＥ３）、式（４）で表される末端基の末端基置換率（ＲＯＥ４）を求めた。その結果を次表に示す。

分画物に対してＨＰＬＣ分析を行ったところ、分画４と分画５において、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルの割合が最も高く、このポリマーがほぼ単離できた。

［比較例１］
（従来の潤滑剤用組成物の作成）
式（２）で表されるポリマー（数平均分子量２０２０）と式（６）で表されるポリマー（数平均分子量２７０２）とを、モル比１：１となるようによく撹拌混合した。この潤滑剤の¹⁹ＦＮＭＲ分析を行ったところ、数平均分子量が２３６０、式（３）で表される末端基の末端基置換率が４８．３モル％、式（４）で表される末端基の末端基置換率が５１．１モル％であった。

［実施例３］
（コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）試験）
実施例１の組成物、実施例２の組成物（分画４、分画５）および比較例１の組成物を、浸漬法によりハードディスクの保護層に塗布し、ＨＤＩ（ヘッドディスクインターフェース）特性の評価としてＣＳＳ試験を行った。潤滑剤の塗布膜厚は１．２ｎｍであり、環境温度１３０℃で５０分間加熱処理を施した。

環境温度を５℃として、ＣＳＳを繰り返し行った。その結果、実施例１の組成物よりなる潤滑層、実施例２の組成物よりなる潤滑層（分画４、分画５）では、規格値である５００００回以上でも障害無く作動した。すなわち、これらの例では、その充分な流動性により、好ましい膜形成性が実現でき、長時間の使用後においても、潤滑剤としての基板吸着力と流動性とが良好に発揮され得ることが示された。

これに対し、比較例１の組成物よりなる潤滑層においては、約４００００回でヘッドクラッシュに至った。このヘッドクラッシュは、式（２）で表されるポリマーが飛散した結果、潤滑剤の流動性が不足したことによるものと考えられる。

ＦＴＩＲ（フーリエ変換赤外分光分析）により潤滑層の膜厚を測定したところ、比較例１の潤滑層に関しては、試験前に比べ約１７％の膜厚減少が見られたが、その他の潤滑層については５％以内の減少が観察されただけであった。比較例１の組成物よりなる潤滑層では、高速回転により式（２）で表されるポリマーが飛散し、ＨＤＩの信頼性が損なわれたと考えられる。

［実施例４］
（コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）試験）
式（２）で表される潤滑剤と実施例２分画１を混合し、（Ｃ／（Ｃ＋Ｄ））×１００＝８かつ（Ｃ／（Ｃ＋Ｅ））×１００＝９０となる潤滑剤を作成し、実施例３と同様ＣＳＳ試験を行った結果、約４５０００回でヘッドクラッシュに至った。

［実施例５］
（コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）試験）
Ａ：Ｂ＝８７．３：１２．７なる潤滑剤を超臨界精製し、Ａ：Ｂ＝９６．５：３．５とした。この潤滑剤をＨＰＬＣで分析した結果（Ｃ／（Ｃ＋Ｄ））×１００＝１００かつ（Ｃ／（Ｃ＋Ｅ））×１００＝７であった。実施例３と同様ＣＳＳ試験をおこなったが、この場合は約４５０００回でヘッドクラッシュに至った。

なお、ＣＳＳ試験は、ＣＳＳ試験機を用いて、半径位置１８．５ｍｍで、３０秒間で０ｒｐｍから１５０００ｒｐｍまで加速、１秒間この回転数を保持し、３０秒で１５０００ｒｐｍより０ｒｐｍまで減速し、０ｒｐｍで１秒保持するまでを１サイクルとし、このサイクルを繰り返し行う評価として定義される。

なお、上記に開示した内容から、下記の付記に示した発明が導き出せる。

（付記１）
式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含有する組成物。

（式（１）中、ｐおよびｑは他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）
（付記２）
前記組成物の数平均分子量が５００〜５０００であり、かつ¹⁹ＦＮＭＲで観測される、前記組成物中の式（３）で表される末端基のモル数（Ａ）と式（４）で表される末端基のモル数（Ｂ）の比率（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜９５：５の範囲にある、付記１に記載の組成物。

（付記３）
前記組成物が式（２）で表されるポリマーを含有する、付記１または２に記載の組成物。

（式（２）中、ｐおよびｑは、他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）
（付記４）
前記組成物が式（６）で表されるポリマーを含有する、付記１〜３のいずれかに記載の組成物。

（式（６）中、ｐおよびｑは、他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）
（付記５）
前記組成物中における、前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（２）で表されるポリマーのモル数（Ｄ）の和に対する前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上である、付記３または４に記載の組成物。

（付記６）
前記組成物中における、前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）の和に対する前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上である、付記４または５に記載の組成物。

（付記７）
前記組成物中における、前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）の和に対する前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が６０％以上である、付記６に記載の組成物。

（付記８）
前記組成物中における、前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と前記式（２）で表されるポリマーのモル数（Ｄ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）との和に対する前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上である、付記４〜７のいずれかに記載の組成物。

（付記９）
式（２）で表されるポリマーとグリシドールとを反応させてなるポリマーを含有する組成物であって、
当該組成物の数平均分子量が５００〜５０００の間にあり、
当該組成物中における、¹⁹ＦＮＭＲで観測される式（３）で表される末端基のモル数（Ａ）と式（４）で表される末端基のモル数（Ｂ）の比率（Ａ：Ｂ）が１０：９０〜９５：５の範囲にある
組成物。

（式（２）中、ｐおよびｑは他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）

（付記１０）
前記組成物が、式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルを含有する、付記９に記載の組成物。

（式（１）中、ｐおよびｑは他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）
（付記１１）
前記組成物が前記式（２）で表されるポリマーを含有する、付記９または１０に記載の組成物。

（付記１２）
前記組成物が式（６）で表されるポリマーを含有する、付記９〜１１のいずれかに記載の組成物。

（式（６）中、ｐおよびｑは他の式中の記号とは独立に任意の整数を表す。）
（付記１３）
前記組成物中における、前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（２）で表されるポリマーのモル数（Ｄ）の和に対する前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上である、付記１１または１２に記載の組成物。

（付記１４）
前記組成物中における、前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）の和に対する前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上である、付記１２または１３に記載の組成物。

（付記１５）
前記組成物中における、前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）の和に対する前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が６０％以上である、付記１４に記載の組成物。

（付記１６）
前記組成物中における、前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）と前記式（２）で表されるポリマーのモル数（Ｄ）と式（６）で表されるポリマーのモル数（Ｅ）との和に対する前記フッ素含有ポリエーテルのモル数（Ｃ）の割合が１０％以上である、付記１２〜１５のいずれかに記載の組成物。

（付記１７）
付記１〜１６の記載の組成物に活性エネルギー線処理と加熱処理の少なくともいずれか一方の処理を施してなる組成物。

（付記１８）
磁性層と、当該磁性層上にある保護層と、当該保護層上にある磁気記録媒体潤滑層とを含む磁気記録媒体であって、当該磁気記録媒体潤滑層が付記１〜１６のいずれかに記載の組成物を塗布してなるものである、磁気記録媒体。

（付記１９）
前記潤滑剤塗布後に、活性エネルギー線処理と加熱処理の少なくともいずれか一方の処理を施してなる、付記１８に記載の磁気記録媒体。

（付記２０）
磁性層と、当該磁性層上にある保護層と、当該保護層上にある磁気記録媒体潤滑層とを含む磁気記録媒体であって、当該磁気記録媒体潤滑層が付記１７に記載の組成物よりなる、磁気記録媒体。

（付記２１）
磁気記録媒体に対し、記録および／または再生を行うための記録変換素子を備えたヘッドスライダであって、当該磁気記録媒体に面する側のヘッドスライダ面に、付記１〜１６のいずれかに記載の組成物を塗布してなるヘッドスライダ潤滑層を有する、ヘッドスライダ。

（付記２２）
前記潤滑剤塗布後に、活性エネルギー線処理と加熱処理の少なくともいずれか一方の処理を施してなる、付記２１に記載のヘッドスライダ。

（付記２３）
磁気記録媒体に対し、記録および／または再生を行うための記録変換素子を備えたヘッドスライダであって、当該磁気記録媒体に面する側のヘッドスライダ面に、付記１７に記載の組成物よりなるヘッドスライダ潤滑層を有する、ヘッドスライダ。

（付記２４）
付記１８〜２０のいずれかに記載の磁気記録媒体と付記２１〜２３のいずれかに記載のヘッドスライダの少なくとも一方を用いてなる磁気記録装置。

ＨＰＬＣの分析結果を示すグラフである。ハードディスク装置の内部構造を示す模式的平面図である。ヘッドと、磁気記録媒体との関係を示す模式的横断面図である。

符号の説明

１磁気記録媒体
２ヘッドスライダ
３回転制御機構
４ヘッドの位置決め機構
５記録再生信号の処理回路
６サスペンジョン
７ジンバル
８ヘッド
９ヘッド保護層
１０ヘッド潤滑層
１１磁気記録媒体
１２基板
１３Ｃｒ下地層
１４磁性層
１５媒体保護層
１６媒体潤滑層

Claims

式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテル

（式（１）中、ｐおよびｑは他の式中の記号とは独立に、０以上の任意の整数を表す。ただし、ｐとｑが同時に０であることはない。）
を含有する組成物であって、
当該組成物の数平均分子量が５００〜５０００であり、
当該組成物中における ¹⁹ ＦＮＭＲで観測される、式（３）で表される末端基のモル数（Ａ）と
式（４）で表される末端基のモル数（Ｂ）の比率（Ａ：Ｂ）が、１０：９０〜９５：５の範囲にある、
組成物を含む潤滑剤。
前記式（１）で表されるフッ素含有ポリエーテルは、式（２）で表されるポリマーとグリシドールとを反応させてなるポリマーであることを特徴とする、請求項１に記載の潤滑剤。

（式（２）中、ｐおよびｑは、他の式中の記号とは独立に、０以上の任意の整数を表す。ただし、ｐとｑが同時に０であることはない。）
前記組成物が式（２）で表されるポリマーを含有する、請求項１または２に記載の潤滑剤。

（式（２）中、ｐおよびｑは、他の式中の記号とは独立に、０以上の任意の整数を表す。ただし、ｐとｑが同時に０であることはない。）
前記組成物が式（６）で表されるポリマーを含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の潤滑剤。

（式（６）中、ｐおよびｑは、他の式中の記号とは独立に、０以上の任意の整数を表す。ただし、ｐとｑが同時に０であることはない。）
磁性層と、当該磁性層上にある保護層と、当該保護層上にある磁気記録媒体潤滑層とを含む磁気記録媒体であって、当該磁気記録媒体潤滑層が請求項１〜４のいずれかに記載の潤滑剤を塗布してなるものである、磁気記録媒体。
磁気記録媒体に対し、記録および／または再生を行うための記録変換素子を備えたヘッドスライダであって、当該磁気記録媒体に面する側のヘッドスライダ面に、請求項１〜４のいずれかに記載の潤滑剤を塗布してなるヘッドスライダ潤滑層を有する、ヘッドスライダ。
請求項５に記載の磁気記録媒体と請求項６に記載のヘッドスライダの少なくとも一方を用いてなる磁気記録装置。