JP4570622B2 - 記録媒体用潤滑剤および磁気ディスク - Google Patents

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Description

本発明は、磁気ディスク、磁気テープなどの記録媒体用の潤滑剤および該潤滑剤を用いて潤滑層を形成した磁気ディスクに関する。
磁気ディスク用潤滑剤としては、一般的にパーフルオロポリエーテル化合物が用いられ、中でも低表面エネルギーかつ低摩擦力を有するソルベイ社製のフォンブリン(Fomblin)系化合物が主流となっている。フォンブリン系化合物は、主鎖の基本骨格が(CFCFO)(CFO)のパーフルオロポリエーテル化合物である。
しかしながら、フォンブリン系化合物は、ヘッド部材に含まれているアルミナ(Al)と反応して主鎖の切断が起こることが知られている(Macromolecules,1992年,25巻,p.6791−6799)。この切断が進行すると、パーフルオロポリエーテルが低分子化し、最終的には磁気ディスク上から揮発するという欠点を有している。
一方、磁気ディスクドライブの駆動方式には、装置の起動/停止の際にヘッドとディスクが接触するコンタクト・スタート・ストップ(CSS)方式と、停止時にヘッドがディスク面外に退避するランプ・ロード・アンロード(L/UL)方式があり、方式の違いによって潤滑剤への要求特性も異なる。
近年、ディスク装置の高記録密度化や高速処理化が要望されており、これに対応してヘッドとディスクとの距離(浮上量)を小さくしたり、ディスクの回転を高速化する必要がある。基本的にはヘッドとディスクが接触しないL/UL方式においても、低浮上量化や高速化に伴ってヘッドとディスクの接触頻度が増大し、潤滑剤がディスク表面からヘッドに移行したり、ディスク面外へ飛散したりする。その結果、ディスクの損傷に至ることがあるため、潤滑剤としては、ディスク表面との付着性の強いものが望ましい。このような潤滑剤として、分子内に極性基を複数個有するフォンブリン系パーフルオロポリエーテル化合物(例えば、ソルベイ社製「Z−Tetraol」)があるが、この潤滑剤は、アルミナによって分解反応が起きるという問題を解決できていない。
一方、分子内にパーフルオロポリエーテル鎖を有しているにも関わらず、アルミナによる分解反応が抑制される化合物として、パーフルオロポリエーテル骨格の末端をホスファゼン官能基で修飾した化合物が知られている(米国特許第6608009号明細書、米国特許第6605335号明細書)。これらの化合物は、修飾したホスファゼン官能基の効果によって、アルミナによる分解が抑制される。また、他のパーフルオロポリエーテル化合物との相溶性も高く、優れたCSS耐性を有する。しかしながら、ディスク表面との付着力は低く、L/UL方式用の潤滑剤としてはあまり好ましくない。
情報の記録/再生の高速化を図るために、磁気ディスクの回転数は、近い将来15,000rpm以上になると予想される。磁気ディスクの回転数が大きくなるに伴い、潤滑剤の飛散量も大きくなる傾向がある。また、高速回転させながら長期摺動を行うと、分解によって潤滑層が薄くなり、最終的には磁気ディスクの破壊に至る。磁気ディスクドライブの信頼性を確保する上では、磁気ディスクとの付着力が強く、且つ分解しにくい潤滑剤が必要である。
本発明の課題は、記録媒体との付着力が強く、且つ分解しにくい記録媒体用潤滑剤を提供することにある。
本発明は、下記に示すとおりの記録媒体用潤滑剤および磁気ディスクを提供するものである。
1.式(1);
-CHCFO-(CFCFO)-(CFO)-CFCH-R (1)
〔式中、R
Figure 0004570622
(RはC1−4のハロアルキル基を示す。)を示し、Rは-OCHCH(OH)CHOHを示し、mおよびnはそれぞれ1〜30を示す。〕で表されるパーフルオロポリエーテル化合物および式(2);
-CHCFO-(CFCFO)-(CFO)-CFCH-R (2)
〔式中、R、mおよびnは前記と同様であり、Rは-OCHCH(OH)CHOCHCH(OH)CHOHを示す。〕で表されるパーフルオロポリエーテル化合物を含有する記録媒体用潤滑剤。
2.支持体上に記録層および保護層をこの順に形成し、該保護層の表面に上記項1に記載の潤滑剤からなる潤滑層を形成した磁気ディスク。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の記録媒体用潤滑剤に含まれるパーフルオロポリエーテル化合物は、パーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端にシクロトリホスファゼン官能基を有し、もう一方の末端にグリコール骨格からなる複数個の水酸基を有する。
本発明の記録媒体用潤滑剤は、例えば、以下のようにして製造する。
主鎖が-CHCFO-(CFCFO)-(CFO)-CFCH-で〔式中、mおよびnはそれぞれ1〜30を示す。〕、一方の末端にシクロトリホスファゼン官能基を有し、もう一方の末端に1個の水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物と、ポタシウム−t−ブトキシドと、t−ブタノールとを混合し、70℃で30分撹拌する。ポタシウム−t−ブトキシドが溶解した後に、0.5〜2.0当量の2,3−エポキシ−1−プロパノールを、70℃で撹拌しながら2時間かけてゆっくり滴下する。滴下終了後、70℃でさらに2時間撹拌する。反応終了後、パーフルオロカーボン系の溶剤で抽出し、蒸留により溶剤を留去して、粘ちょう液体を得る。得られた粘ちょう液体は、上記式(1)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物、上記式(2)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物、および式(3);
-CHCFO-(CFCFO)-(CFO)-CFCH-OH (3)
〔式中、R
Figure 0004570622
(RはC1−4のハロアルキル基を示す。)を示し、mおよびnはそれぞれ1〜30を示す。〕で表されるパーフルオロポリエーテル化合物を含有する。
この3成分系の混合物をそのまま、本発明の記録媒体用潤滑剤として用いることもできるが、カラムクロマトグラフィーや超臨界炭酸抽出法などの精製法で精製して用いることもできる。
記録媒体用潤滑剤としては、上記式(1)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物および上記式(2)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の合計含有率が50重量%以上で、且つ上記式(1)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の含有率が30重量%以上のものが好ましく、上記式(1)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物および上記式(2)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の合計含有率が70重量%以上で、且つ上記式(1)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の含有率が40重量%以上のものがより好ましい。
製造原料の、主鎖が-CHCFO-(CFCFO)-(CFO)-CFCH-で〔式中、mおよびnはそれぞれ1〜30を示す。〕、一方の末端にシクロトリホスファゼン官能基を有し、もう一方の末端に1個の水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物としては、例えば、(株)松村石油研究所製「モレスコホスファロール A20H」が挙げられる。このものの化学構造は、(CFO)-P-CHCFO-(CFCFO)-(CFO)-CFCHOH〔式中、-P-はシクロトリホスファゼン環を示し、mおよびnはそれぞれ1〜30を示す。〕であり、数平均分子量は約1300〜8000である。
本発明の記録媒体用潤滑剤の用途としては、磁気ディスク装置内における磁気ディスクの摺動特性を向上させるための潤滑剤としての用途が挙げられる。これは、磁気ディスクとヘッドとの摩擦係数の低減が目的であるので、磁気ディスク以外にも磁気テープなどの記録媒体とヘッドとの間に摺動が伴う他の記録装置における潤滑剤としての用途も挙げられる。また、記録装置に限らず、摺動を伴う部分を有する機器の潤滑剤としての用途も考えられる。なお、本発明の潤滑剤は、フォンブリン系パーフルオロポリエーテル化合物の分解抑制効果も発揮するので、フォンブリン系の潤滑剤と併用することもできる。また、フォンブリン系以外の潤滑剤(例えば、ダイキン工業(株)製「デムナムSA」、ソルベイ社製「クライトックス」など)と併用することもできる。
本発明の磁気ディスクは、支持体上に記録層および保護層をこの順に形成し、該保護層の表面に上記記録媒体用潤滑剤からなる潤滑層を形成してなる。
本発明の磁気ディスクの一例の構成(断面)の概略を、図1に示す。
図1において、本発明の磁気ディスクは、支持体1の上に記録層2を有し、その上に保護層3を有し、さらにその上に上記記録媒体用潤滑剤からなる潤滑層4を最外層として有する。
支持体1の材質としては、アルミニウム合金、ガラス、ポリカーボネート等が挙げられる。記録層2の材質としては、鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性体を形成可能な元素にクロム、白金、タンタル等を加えた合金、またはそれらの酸化物が挙げられる。これらは、メッキ法、スパッタ法等で形成される。保護層3の材質としては、ダイアモンドライクカーボン、Si、SiC、SiO等が挙げられる。これらは、スパッタ法、CVD法等で形成される。
潤滑層4は、本発明の記録媒体用潤滑剤を溶剤に溶解し、この溶液を用いて、通常、ディップ法により形成する。溶剤としては、本発明の記録媒体用潤滑剤を溶解するものを使用する。具体的には、フルオロカーボン系の溶剤(例えば、住友スリーエム社製の「PF−5060」、「PF−5080」、「HFE−7100」、「HFE−7200」、デュポン社製の「バートレルXF」)等が挙げられる。
本発明の記録媒体用潤滑剤は、記録媒体との付着力が強いので飛散が低減でき、且つ分解しにくい。該潤滑剤を用いて形成された潤滑層を有する磁気ディスクは、高速回転下での連続摺動にも耐えることができ、該磁気ディスクを装着した磁気ディスクドライブは高速での記録/再生が可能になる。
図1は、本発明の磁気ディスクの一例を示す概略断面図である。
符号の説明
1 支持体
2 記録層
3 保護層
4 潤滑層
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。
実施例1
アルゴン雰囲気下、(株)松村石油研究所製「モレスコホスファロール A20H−2000」22.0g(7.11mmol)、ポタシウム−t−ブトキシド0.1g(0.71mmol)およびt−ブタノール13.0mlを混合し、70℃で30分撹拌した。ポタシウム−t−ブトキシドが溶解した後に、2,3−エポキシ−1−プロパノール0.6g(7.11mmol)を、70℃で撹拌しながら2時間かけて滴下した。滴下終了後、70℃でさらに2時間撹拌した。反応終了後、反応混合液にデュポン社製「バートレルXF」を加えて抽出し、1規定の塩酸とメタノールを混合した水溶液を用いて洗浄した。蒸留により「バートレルXF」を留去して、粘ちょう液体14.0gを得た。
得られた粘ちょう液体について、19F−NMR分析とH−NMR分析を実施し、数平均分子量と組成(重量%)を算出した。数平均分子量は、2929であった。組成を表1に示す。表1において、式(1)の化合物とは、Rがトリフルオロメチル基である上記式(1)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物である。式(2)の化合物とは、Rがトリフルオロメチル基である上記式(2)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物である。式(3)の化合物とは、Rがトリフルオロメチル基である上記式(3)で表されるパーフルオロポリエーテル化合物である。
Figure 0004570622
以下、19F−NMR分析結果を示す。
19F−NMR(溶媒:なし。基準物質:生成物中のOCF CF CF CFOを−125.8ppmとした。):
δ=−78.6ppm,−80.6ppm
〔2F,Rf-[CF CH-O-P-(OCCF)]〕,
δ=−77.8ppm,−79.9ppm
〔2F,Rf-[CF CH-O-CHCH(OH)CHOH]〕。
H−NMR分析の前処理として、トリフルオロアセチル化を実施した。手順としては、粘ちょう液体0.2gに10倍量のトリフルオロ無水酢酸2.0gを加え、室温で12時間撹拌した。撹拌終了後、過剰のトリフルオロ無水酢酸を留去してトリフルオロアセチル化体を得た。
以下、H−NMR分析結果を示す。
H−NMR〔トリフルオロアセチル化体〕(溶媒:パーフルオロへキサン。基準物質:重水 DO):
δ=3.70−4.05ppm
〔4H,Rf-[CFCH-O-CH CH(OAc)CH OAc]〕,
δ=3.70−4.05ppm
〔2H,Rf-[CF CH -O-P-(OCCF)]〕,
δ=4.45−4.70ppm
〔2H,Rf-[CF CH -O-CHCH(OAc)CHOAc]〕,
δ=5.25−5.35ppm
〔1H,Rf-[CFCH-O-CHCH(OAc)CHOCH CH(OAc)CHOAc]〕,
δ=5.37−5.57ppm
〔1H,Rf-[CFCH-O-CH CH(OAc)CHOAc]〕。
実施例2
アルゴン雰囲気下、(株)松村石油研究所製「モレスコホスファロール A20H−2000」67.0g(0.022mol)、ポタシウム−t−ブトキシド0.3g(0.002mol)およびt−ブタノール30.0mlを混合し、70℃で30分撹拌した。ポタシウム−t−ブトキシドが溶解した後に、2,3−エポキシ−1−プロパノール2.0g(0.022mol)を、70℃で撹拌しながら2時間かけて滴下した。滴下終了後、70℃でさらに2時間撹拌した。反応終了後、反応混合液にデュポン社製「バートレルXF」を加えて抽出し、1規定の塩酸とメタノールを混合した水溶液を用いて洗浄した。蒸留により「バートレルXF」を留去した後に、超臨界炭酸抽出法により精製を行い、粘ちょう液体22.3gを得た。
得られた粘ちょう液体について、19F−NMR分析とH−NMR分析を実施し、数平均分子量と組成(重量%)を算出した。数平均分子量は、3130であった。組成を表2に示す。表2において、式(1)の化合物、式(2)の化合物および式(3)の化合物は、それぞれ表1と同様である。
Figure 0004570622
NMR分析の化学シフトは、実施例1と同様であった。
実施例1および2で得られた粘ちょう液体(潤滑剤)について、ボンド率の測定およびアルミナに対する耐分解性試験を行った。
[ボンド率の測定]
実施例1および2で得られた粘ちょう液体(潤滑剤)をデュポン社製「バートレルXF」に溶解させ、各潤滑剤溶液(0.1重量%)を調製した。直径2.5インチのガラスメディア磁気ディスクを潤滑剤溶液に1分間浸漬し、速度2mm/sで引き上げて潤滑剤を塗布した後、100℃の恒温槽にこの磁気ディスクを20分間入れて加熱した。エリプソメーターでディスク上の潤滑剤の膜厚を測定した(この膜厚をeÅとする)。次に、このディスクを「バートレルXF」に10分間浸漬し、速度10mm/sで引き上げて、付着していない潤滑剤を洗浄した。ディスク上に残った潤滑剤の膜厚をエリプソメーターで測定した(この膜厚をfÅとする)。ディスクへの付着性の強弱を、下記式で表されるボンド率を用いて評価した。結果を表3に示す。
ボンド率(%)=100×f/e
なお、実施例1および2で得られた粘ちょう液体(潤滑剤)に含まれている式(1)の化合物、式(2)の化合物および式(3)の化合物のうち、式(3)の化合物は上記洗浄により除去される。そのため、ディスク上には付着力の強い式(1)の化合物および式(2)の化合物が残る。
比較のために、パーフルオロポリーテル化合物として、(株)松村石油研究所製「モレスコホスファロール A20H−2000」、ソルベイ社製「Zdol−4000」および「Z−Tetraol−2000S」について、同様の方法でボンド率を測定した。結果を表3に示す。
Figure 0004570622
表3から、実施例1および2で得られた粘ちょう液体(潤滑剤)が、磁気ディスクと強く付着した潤滑層を形成できることが確認された。このことにより潤滑剤の飛散低減効果が期待できる。
[アルミナに対する耐分解性試験]
実施例1および2で得られた粘ちょう液体(潤滑剤)、ならびに、(株)松村石油研究所製「モレスコホスファロール A20H−2000」、ソルベイ社製「Zdol−4000」および「Z−Tetraol−2000S」の各々に、アルミナ粉末(平均粒子径100μm)を20重量%となるように添加し、振とう器を用いて15分以上混合した。均一に混合した試料について、加熱による耐分解性試験を熱分析装置(TG/DTA)を用いて実施した。試験は、アルミナを混合した試料と混合しなかった試料をアルミニウム容器に秤量し、窒素雰囲気下、250℃の温度で加熱して行い、試料の重量減少率を計測した。その結果を表4に示す。
Figure 0004570622
表4から、実施例1および2で得られた粘ちょう液体(潤滑剤)が、アルミナに対する耐分解性に優れていることが確認された。
実施例3
実施例1で得られた粘ちょう液体(潤滑剤)をデュポン社製「バートレルXF」に溶解させ、潤滑剤溶液(0.1重量%)を調製した。支持体、記録層および保護層からなる直径2.5インチのガラスメディア磁気ディスクを潤滑剤溶液に1分間浸漬し、速度2mm/sで引き上げて潤滑剤を塗布した後に、100℃の恒温槽にこの磁気ディスクを20分間入れて加熱した。次に、このディスクを「バートレルXF」に10分間浸漬し、速度10mm/sで引き上げて、洗浄した。ディスク上に残った潤滑剤の膜厚をエリプソメーターで測定した。潤滑剤の膜厚は4.9Åであった。

Claims (2)

  1. 式(1);
    -CHCFO-(CFCFO)-(CFO)-CFCH-R (1)
    〔式中、R
    Figure 0004570622
    (RはC1−4のハロアルキル基を示す。)を示し、Rは-OCHCH(OH)CHOHを示し、mおよびnはそれぞれ1〜30を示す。〕で表されるパーフルオロポリエーテル化合物および式(2);
    -CHCFO-(CFCFO)-(CFO)-CFCH-R (2)
    〔式中、R、mおよびnは前記と同様であり、Rは-OCHCH(OH)CHOCHCH(OH)CHOHを示す。〕で表されるパーフルオロポリエーテル化合物を含有する記録媒体用潤滑剤。
  2. 支持体上に記録層および保護層をこの順に形成し、該保護層の表面に請求項1に記載の潤滑剤からなる潤滑層を形成した磁気ディスク。
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