JP2014518933A - 潤滑剤組成物 - Google Patents
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Abstract
一般式(I)の化合物は、
【化2】
(式中、Lは、(AA)からなる群から選択され、Mは、(BB)からなる群から選択され、Nは、(CC)であり、式中、R1、R2、およびR3は、同一または異なってもよく、ヒドロキシル、フェニル、ピペロニル、カルボン酸、アミド、2,3−ジヒドロキシ−1−プロポキシル、アセトアミド、メタクリレート、メチルメタクリレートおよびグリシジルエーテルからなる群から選択され、式中、l=0、1、または2、m=0、1、または2、n=1または2、さらに、p対qの比は、約0.1〜3.0である。)を含む。
Description
分野
本開示は、一般的に、潤滑剤組成物に関する。
高性能潤滑剤は、数多くの多様な用途に用いられている。これらの潤滑剤の要件は、電子機器および機械機器の小型化、高温動作条件の使用、製品寿命の高まる期待、ならびに、動作および保管環境の広がる範囲を含むさまざまな要因のため、より要求が高まっている。
本開示の一局面において、一般式I
Mは、
Nは、
式中、R1、R2、およびR3は、同一または異なってもよく、ヒドロキシル、フェニル、ピペロニル、カルボン酸、アミド、2,3−ジヒドロキシ−1−プロポキシル、アセトアミド、メタクリレート、メチルメタクリレートおよびグリシジルエーテルからなる群から選択され、式中、
l=0、1、または2、
m=0、1、または2、
n=1または2、さらに、
p対qの比は、約0.1〜3.0、好ましくは0.5〜1.5、より好ましくは0.8〜1.2である。)
の化合物を含む。
を含む。
Mは、
Nは、
式中、R1、R2、およびR3は、同一または異なってもよく、ヒドロキシル、フェニル、ピペロニル、カルボン酸、アミド、2,3−ジヒドロキシ−1−プロポキシル、アセトアミド、メタクリレート、メチルメタクリレートおよびグリシジルエーテルから選択され、式中、
l=0、1、または2、
m=0、1、または2、
n=1または2、
p対qの比は、約0.1〜3.0、好ましくは0.5〜1.5、より好ましくは0.8〜1.2である。)
の化合物である。
の化合物である。
付随の図面を参照して、以下にさまざまな概念をより十分に説明する。しかしながら、これらの概念は、多くの異なる形態で取入れられ得、本開示で提示される任意の特定の構造またはプロセスにより限定されるとして解釈されるべきではない。むしろ、本開示の全体を通して提示される特定の詳細は、開示が網羅的かつ完全であり、これらの概念の範囲を当業者に十分に伝えるように設けられる。しかしながら、本開示で提示されるさまざまな概念が、これらの特定の詳細なしに実施され得ることは当業者には明らかであろう。いくつかの場合には、本開示の周知の局面は、本開示の全体を通して提示されるさまざまな概念の不明瞭化を避けるために、ブロック図の形態で示されることもある。
本出願で用いられるすべての科学用語および技術用語は、他に特定されない限り、当該技術分野で一般的に用いられる意味を有する。本出願で用いられる以下の単語または表現は、特定された意味を有する。
潤滑剤組成物は、PFPE骨格の各端部が1以上の官能基で終端するPFPE骨格を含有する分子を含む。1以上の非末端官能基は、PFPE骨格にも結合される。PFPE骨格の中心の周りまたは近くに設けられ得る非末端官能基は、潤滑剤分子を炭素オーバーコート上に平らに配置させ、一方、PFPE骨格の端部に設けられる末端基は、分子鎖の端部での強い結合を与える。組成物の炭素オーバーコートへの結合を向上させることに加えて、この構成における官能基の使用により、組成物が炭素オーバーコートからHMS内へと上に延びる距離が有利に減少される。
Mは、
Nは、
R1、R2、およびR3は、同一または異なってもよく、ヒドロキシル、フェニル、ピペロニル、カルボン酸、アミド、2,3−ジヒドロキシ−1−プロポキシル、アセトアミド、メタクリレート、メチルメタクリレートおよびグリシジルエーテルから選択され、
l=0、1、または2、
m=0、1、または2、
n=1または2、さらに、
p対qの比は、約0.1〜3.0、好ましくは0.5〜1.5、より好ましくは0.8〜1.2である。)
に示される構造を有し得る。
である。
記録媒体などの装置を潤滑する方法は、組成物を組込んでもよい。方法は、一般的に、装置が形成されている間に、装置に組成物を塗布することを含む。組成物から形成される潤滑層を含む記録媒体などの装置も提供される。
図4は、図3に示す組成物を用いて作製された記録媒体のクリアランス能力と、別の潤滑剤組成物(Z Tetraol 2700GT)を用いて作製された記録媒体のクリアランス能力とを比較したボックスプロットである。クリアランスは、浮上ヘッドの最も低い点と潤滑剤表面の上部との間の距離として説明される。図3に示される組成物を用いた記録媒体のクリアランス能力により、所与のヘッド−媒体間隔についてヘッドと潤滑剤表面との間のより大きな距離が得られ、ヘッド−ディスク相互作用を減少させ、ディスクドライブ信頼性を促進させる。図9中のクリアランス差は、適応性浮上高さヘッドを、ヘッドの接近点が潤滑剤膜の上部に触れるまで(浮上高さを一定に保ちつつ)突出させるように用いて測定され、接触は、ヘッド上のセンサからのアコースティックエミッション信号の増加により求められる。異なる潤滑剤の測定には、浮上高さを一定に保ち、かつ、潤滑剤間のクリアランスの差の測定を可能にする同一のヘッドが用いられる。Z−Tetraolは、潤滑剤からのクリアランスの測定された差を示すために任意に0に設定される。
図5は、図3に示される化合物のTOC吸収を潤滑剤組成物(Z Tetraol 2700GT)のTOC吸収と比較したグラフである。炭化水素などの有機汚染物質は、媒体表面上に吸着され、その後に読出−書込ヘッド上に蓄積されることにより、ディスクドライブにおけるヘッド−ディスク界面の信頼性を損ない得る。潤滑剤の1つの機能は、不活性バリア膜を設け、たとえば、他のドライブ内部部品からの脱ガスによる、ドライブ中に存在し得る任意の汚染物質の吸着を妨げることである。図11中のデータは、異なる潤滑剤で被覆された媒体を、密閉された系内で、高温で模範的な有機汚染物質に曝露した後、吸着された量を抽出および定量化することにより収集された。化合物は、潤滑剤Z−Tetraolと比較して、吸着された汚染物質のレベルの大きな低下を示す。
図4は、図3に示す組成物を用いて作製された記録媒体のクリアランス能力と、別の潤滑剤組成物(Z Tetraol 2700GT)を用いて作製された記録媒体のクリアランス能力とを比較したボックスプロットである。クリアランスは、浮上ヘッドの最も低い点と潤滑剤表面の上部との間の距離として説明される。図3に示される組成物を用いた記録媒体のクリアランス能力により、所与のヘッド−媒体間隔についてヘッドと潤滑剤表面との間のより大きな距離が得られ、ヘッド−ディスク相互作用を減少させ、ディスクドライブ信頼性を促進させる。図4中のクリアランス差は、適応性浮上高さヘッドを、ヘッドの接近点が潤滑剤膜の上部に触れるまで(浮上高さを一定に保ちつつ)突出させるように用いて測定され、接触は、ヘッド上のセンサからのアコースティックエミッション信号の増加により求められる。異なる潤滑剤の測定には、浮上高さを一定に保ち、かつ、潤滑剤間のクリアランスの差の測定を可能にする同一のヘッドが用いられる。Z−Tetraolは、潤滑剤からのクリアランスの測定された差を示すために任意に0に設定される。
図5は、図3に示される化合物のTOC吸収を潤滑剤組成物(Z Tetraol 2700GT)のTOC吸収と比較したグラフである。炭化水素などの有機汚染物質は、媒体表面上に吸着され、その後に読出−書込ヘッド上に蓄積されることにより、ディスクドライブにおけるヘッド−ディスク界面の信頼性を損ない得る。潤滑剤の1つの機能は、不活性バリア膜を設け、たとえば、他のドライブ内部部品からの脱ガスによる、ドライブ中に存在し得る任意の汚染物質の吸着を妨げることである。図5中のデータは、異なる潤滑剤で被覆された媒体を、密閉された系内で、高温で模範的な有機汚染物質に曝露した後、吸着された量を抽出および定量化することにより収集された。化合物は、潤滑剤Z−Tetraolと比較して、吸着された汚染物質のレベルの大きな低下を示す。
Claims (20)
-
Mは、
Nは、
式中、R1、R2、およびR3は、同一または異なってもよく、ヒドロキシル、フェニル、ピペロニル、カルボン酸、アミド、2,3−ジヒドロキシ−1−プロポキシル、アセトアミド、メタクリレート、メチルメタクリレートおよびグリシジルエーテルからなる群から選択され、式中、
l=0、1、または2、
m=0、1、または2、
n=1または2、さらに、
p対qの比は、約0.1〜3.0である。)
を含有する、一般式1の化合物。 - Lは、
- Mは、
- lは1である、請求項1に記載の化合物。
- mは1である、請求項1に記載の化合物。
- nは1である、請求項1に記載の化合物。
- R1はヒドロキシルである、請求項1に記載の化合物。
- R2はヒドロキシルである、請求項1に記載の化合物。
- R3はヒドロキシルである、請求項1に記載の化合物。
- 一般式2
の化合物。 - 基板と、
前記基板上に配置された情報を記録するための磁気層と、
前記磁気層を保護するための保護オーバーコートと、
一般式1
Mは、
Nは、
式中、R1、R2、およびR3は、同一または異なってもよく、ヒドロキシル、フェニル、ピペロニル、カルボン酸、アミド、2,3−ジヒドロキシ−1−プロポキシル、アセトアミド、メタクリレート、メチルメタクリレートおよびグリシジルエーテルからなる群から選択され、式中、
l=0、1、または2、
m=0、1、または2、
n=1または2、さらに、
p対qの比は、約0.1〜3.0である。)
の化合物を含有する潤滑剤とを備える、装置。 - Lは、
- Mは、
- lは1である、請求項1に記載の装置。
- mは1である、請求項1に記載の装置。
- nは1である、請求項1に記載の装置。
- R1はヒドロキシルである、請求項1に記載の装置。
- R2はヒドロキシルである、請求項1に記載の装置。
- R3はヒドロキシルである、請求項1に記載の装置。
- 基板と、
前記基板上に配置された情報を記録するための磁気層と、
前記磁気層を保護するための保護オーバーコートと、
一般式2
の化合物を含有する潤滑剤とを備える、装置。
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