JP5382876B2 - パーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク - Google Patents

Description

本発明は、芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤、ならびにこれを用いた磁気ディスクに関する。

磁気ディスクの記録密度の増大に伴い、記録媒体である磁気ディスクと情報の記録・再生を行うヘッドとの距離は殆ど接触するまで狭くなっている。磁気ディスク表面にはヘッドとの接触・摺動の際の摩耗抑制や、ディスク表面の汚染防止等の目的で、炭素保護膜や潤滑剤被膜が設けられている。
炭素保護膜は、一般にスパッタ法やＣＶＤ法で製膜される。ディスクの表面保護は、炭素保護膜と、この上層に位置する潤滑剤被膜の両者で担うことになるため、炭素保護膜と潤滑剤との相互作用が重要である。
潤滑剤としては一般に官能基を有するパーフルオロポリエーテルが用いられている。官能基としては、水酸基やアミノ基、さらにはシクロホスファゼン基などがある。具体的には、分子末端に水酸基を有する潤滑剤としてＳｏｌｖａｙ Ｓｏｌｅｘｉｓ製のＦｏｍｂｌｉｎ ＺＴＥＴＲＡＯＬ、さらには分子の一方の末端に水酸基、他方の末端にシクロホスファゼン基を有する松村石油研究所製のＰＨＯＳＦＡＲＯＬ Ａ２０Ｈなどがある。さらに、分子末端に加えて分子鎖中にも水酸基を有する潤滑剤も提案されている（特許文献１参照）。
Ｆｏｍｂｌｉｎ ＺＴＥＴＲＡＯＬは、分子両末端に位置する水酸基によりディスクへの良好な吸着性を示し、ディスクが高速回転しても飛散せず、潤滑剤被膜を維持することができる。また、ＰＨＯＳＦＡＲＯＬ Ａ２０Ｈは、ディスクへの吸着に寄与する水酸基が分子の片末端に、さらにルイス酸によるパーフルオロポリエーテル主鎖の切断を抑制するシクロホスファゼン基が他方の末端に存在するため、ヘッドの部材中のＡｌ_２Ｏ_３による化合物の分解も抑制し、ディスク上で潤滑剤被膜を維持することができる（例えば、特許文献２参照）。
さらに、特許文献１では、ヘッドとディスクのスペーシングに対する潤滑剤の膜厚の影響について記されている。スペーシングを低減するには潤滑剤一分子分の膜厚を低減することが有効であり、分子末端に加えて分子鎖中にも水酸基を有する潤滑剤が、潤滑剤一分子分の膜厚を低減できると提案されている。この技術により潤滑剤一分子分の膜厚を低く維持した上で、潤滑剤の高分子量化が可能となり、潤滑剤の蒸発も防止できる。
しかし、潤滑剤が有する水酸基は、炭素保護膜上の水酸基との水素結合や、ダングリングボンド（未結合手）と共有結合を形成するため（例えば、非特許文献１）、分子中に多数の水酸基を有する化合物からなる潤滑剤被膜は、炭素保護膜に固着した被膜となる。潤滑剤被膜の固着化は、相反する特性である流動性の低下につながるため、ヘッドとディスクの接触確率が高くなる低スペーシング条件において、摺動耐久性が大きく不足する可能性がある。
先行技術文献
特開２００６−７０１７３ 米国特許第６６０８００９号 ＩＥＥＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣＳ，ＶＯＬ．３７，ＮＯ．２，ＭＡＲＣＨ２００１

本発明の課題は、ヘッドとディスクのスペーシングの低減化に貢献でき、かつディスク表面で良好な流動性を示すことにより摺動耐久性を発現する化合物を提供することにある。

本発明は、以下の発明に係る。
１．式（１）で表される化合物。
Ｒ^３Ｏ−（ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（１）
式中ｎは１〜６の整数であり、Ｒ^１は、−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−又は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−である。Ａは−ＣＨ_２−Ｒ^２−ＣＨ_２−で表される基である。Ｒ^２は−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−又は−Ｃ_１０Ｈ_６−の芳香族基である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ水素原子または−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである。ｘ、ｙは、それぞれ０〜３０の実数である。ｚは１〜３０の実数である。
２．式（１）の化合物を含有する潤滑剤。
３．支持体上に少なくとも記録層、保護層を形成し、その表面に潤滑層を有する磁気ディスクにおいて、該潤滑層が式（１）で表される化合物を含有する磁気ディスク。
本発明の式（１）で表されるパーフルオロポリエーテルは、芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物である。
式（１）で表される本発明の芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、例えば以下の方法により合成される。
アルゴン雰囲気下、ＨＯＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２ＯＨで表される両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルを、金属ナトリウムとともに加熱攪拌する。反応温度は５０〜１００℃、好ましくは６０〜８０℃である。反応時間は１０〜１００時間、好ましくは２０〜６０時間である。パーフルオロポリエーテルに対して金属ナトリウムを１〜２当量使用するのが好ましい。つづいて、これにＸ^１−Ｙ−Ｘ^２で表されるハロゲン原子を２つ有する芳香族化合物を滴下する。反応時間は３０〜６０時間、好ましくは４０〜６０時間である。反応温度は５０〜１２０℃、好ましくは８０〜１００℃である。パーフルオロポリエーテルに対してハロゲン原子を２つ有する芳香族化合物を１〜２当量使用するのが好ましい。反応は溶剤中で行ってもよい。その後、例えば水洗、シリカゲルを充填剤とするカラムクロマトグラフィーにより分画し、式（１）で表される本発明の化合物のうち、Ｒ^３およびＲ^４が水素原子である化合物がフラクションとして得られる。
さらに、得られたフラクションを、例えば、ｔ−ブトキシカリウムとグリシドールを混合して５０〜８０℃、好ましくは７０〜８０℃で加熱攪拌する。その後、例えば水洗、二酸化炭素を溶媒とする超臨界抽出により分画することにより、式（１）で表される本発明の化合物のうち、Ｒ^３およびＲ^４の少なくとも一方が−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである化合物がフラクションとして得られる。
ＨＯＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２ＯＨで表される両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルとしては、例えば、ＨＯＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＨや、ＨＯＣＨ_２−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＨを例示できる。ここでｘ、ｙは、それぞれ０〜３０の実数であり、好ましくは０〜２５、より好ましくは０〜２０、さらに好ましくは０〜１５である。ｚは１〜３０の実数であり、好ましくは１〜２５、より好ましくは１〜２０、さらに好ましくは１〜１５である。いずれも分子量分布を持つ化合物である。
Ｘ^１−Ｙ−Ｘ^２で表されるハロゲン原子を２つ有する芳香族化合物において、Ｘ^１およびＸ^２は、例えば塩素や臭素、沃素を例示できる。Ｘ^１およびＸ^２の付加位置は、オルト、メタ、パラのいずれでも良い。Ｙは、例えば
−（ＣＨ_２）ｒ−Ｃ_６Ｈ_４−（Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４）ｓ−（ＣＨ_２）ｔ−又は
−（ＣＨ_２）ｒ−Ｃ_１０Ｈ_６−（ＣＨ_２）ｔ−（ｒ及びｔは０又は１、ｓは０〜５の整数を示す）で表される基であり、具体的には例えば、−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_１０Ｈ_６−、−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｃ_１０Ｈ_６−ＣＨ_２−を例示できる。ここでＣ_６Ｈ_４はフェニレン基、Ｃ_１０Ｈ_６はナフチレン基を示す。
式（１）で表される本発明の芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を潤滑剤として使用する場合には、ｎ＝１〜６が好ましく、より好ましくはｎ＝１〜４であり、さらに好ましくはｎ＝１〜３である。
本発明の化合物を磁気ディスク表面に塗布するには、化合物を溶剤に希釈して塗布する方法が好ましい。溶剤としては、例えば３Ｍ製ＰＦ−５０６０、ＰＦ−５０８０、ＨＦＥ−７１００，ＨＦＥ−７２００、ＤｕＰｏｎｔ製Ｖｅｒｔｒｅｌ−ＸＦ等が挙げられる。希釈後の化合物の濃度は１ｗｔ％以下、好ましくは０．００１〜０．１ｗｔ％である。
本発明の化合物を単独使用する以外にも、例えば松村石油研究所製のＰＨＯＳＦＡＲＯＬ Ａ２０Ｈや、Ｓｏｌｖａｙ Ｓｏｌｅｘｉｓ製のＦｏｍｂｌｉｎ ＺｄｏｌやＺｔｅｔｒａｏｌ、Ｚｄｏｌ ＴＸ、ＡＭ、ダイキン工業製のＤｅｍｎｕｍ、Ｄｕｐｏｎｔ製のＫｒｙｔｏｘなどと任意の比率で混合して使用することもできる。
本発明の化合物は、磁気ディスク装置内の磁気ディスクとヘッドの低スペーシング化を実現し、さらに摺動耐久性を向上させるための潤滑剤としての用途が挙げられる。また、本発明の化合物は、分子末端の水酸基による炭素保護膜に存在する極性部位との相互作用、加えて分子鎖中の芳香族基による炭素保護膜に存在する炭素の不飽和結合との相互作用を形成することを特徴とする。従って、磁気ディスク以外にも炭素保護膜を有する磁気ヘッドや、光磁気記録装置、磁気テープ等や、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ、プラスチックなどの有機材料の表面保護膜、さらにはＳｉ_３Ｎ_４、ＳｉＣ、ＳｉＯ_２などの無機材料の表面保護膜としても応用できる。
本発明の磁気ディスクは、まず支持体１上に少なくとも１層以上の記録層２、その上に保護層３、更にその上に本発明の化合物を含有する潤滑層４を最外層として有する構成である。図１に本発明の磁気ディスク断面の模式図を示す。
支持体としてはアルミニウム合金、ガラス等のセラミックス、ポリカーボネート等が挙げられる。
磁気ディスクの記録層である磁性層の構成材料としては鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性体を形成可能な元素を中心として、これにクロム、白金、タンタル等を加えた合金、又はそれらの酸化物が挙げられる。これらはメッキ法、或いはスパッタ法等で形成される。
保護層の材料はカーボン、ＳｉＣ、ＳｉＯ_２等が挙げられる。これらはスパッタ法、或いはＣＶＤ法で形成される。
現在、流通している潤滑層の厚さは３０Å以下であるため、粘性が２０℃で１００ｍＰａ・ｓ程度以上の潤滑剤をそのまま塗布したのでは膜厚が大きくなりすぎる恐れがある。
そこで塗布の際は溶剤に溶解したものを用いる。本発明の化合物を潤滑剤として単独で使用する場合も、他の潤滑剤と混合して使用する場合も、溶剤に溶解した方が必要な膜厚に制御しやすい。但し、濃度は塗布方法・条件、混合割合等により異なる。本発明の潤滑剤の膜厚は、５〜１５Åが好ましい。
下地層に対する潤滑剤の吸着を促進させるために、熱処理や紫外線処理を行うことができる。熱処理温度は、６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１５０℃である。紫外線処理では、１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長を主波長とする紫外線を用いるのが好ましい。
本発明の磁気ディスクは、ディスクを格納し、情報の記録・再生・消去を行うためのヘッドやディスクを回転するためのモーター等が装備されている磁気ディスクドライブとそのドライブを制御するための制御系からなる磁気ディスク装置に応用できる。
本発明の磁気ディスク、およびそれを応用した磁気ディスク装置の用途としては電子計算機、ワードプロセッサー等の外部メモリーが挙げられる。またナビゲーションシステム、ゲーム、携帯電話、ＰＨＳ等の各種機器、及びビルの防犯、発電所等の管理・制御システムの内部・外部記録装置等にも適用可能である。

図１は本発明の磁気ディスクの構成を示す断面模式図である。

１ 支持体、２ 記録層、３ 保護層、４ 潤滑層

以下、実施例および試験例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例等に限定されるものではない。なお、^１９Ｆ−ＮＭＲは溶媒；なし、基準物質：生成物中の主成分または微量不純物として含まれるＯＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏを−１２９．７ｐｐｍとして、^１Ｈ−ＮＭＲは溶媒：なし、基準物質：Ｄ_２Ｏの条件で測定した。

Ｒ^３Ｏ−（ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（化合物１、２、３）の合成
ここで、Ａは−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−であり、Ｒ^１は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ水素原子である。化合物１はｎ＝１、化合物２はｎ＝２、化合物３はｎ＝３である。
アルゴン雰囲気下、ＨＯＣＨ_２−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＨで表されるパーフルオロポリエーテル（８４ｇ）と、金属ナトリウム（１ｇ）を８０℃で２４時間攪拌する。つづいて、これにα，α’−ジブロモ−ｐ−キシレン（１４ｇ）と３Ｍ製ＨＦＥ７３００を滴下し、９０℃で４２時間攪拌する。その後、水洗、シリカゲルを充填剤とするカラムクロマトグラフィーにより５分画する。展開溶媒は、ＤｕＰｏｎｔ製Ｖｅｒｔｒｅｌ−ＸＦである。第２分画品として化合物１（１５ｇ）、第３分画品として化合物２（２５ｇ）、第４分画品として化合物３（１７ｇ）を得た。化合物１、２、３は、いずれも無色透明液体であり、２０℃での密度は、１．８ｇ／ｃｍ^３であった。化合物１、２、３のＮＭＲ同定結果を以下に示す。
化合物１
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−８６．４ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８６．２ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８３．７ｐｐｍ
〔８４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−１２９．７ｐｐｍ
〔４２Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏ−〕，
δ＝−１２７．５ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２３．６ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２ＣＦ_２−〕，
ｚ＝１０．５
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
化合物２
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−８６．４ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８６．２ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８３．７ｐｐｍ
〔１２４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−１２９．７ｐｐｍ
〔６２Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏ−〕，
δ＝−１２７．５ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２３．６ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２ＣＦ_２−〕，
ｚ＝１０．３
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
化合物３
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−８６．４ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８６．２ｐｐｍ
〔１２Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８３．７ｐｐｍ
〔１５８Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−１２９．７ｐｐｍ
〔８０Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏ−〕，
δ＝−１２７．５ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２３．６ｐｐｍ
〔１２Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２ＣＦ_２−〕，
ｚ＝９．９
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔１２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔１２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔１２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，

Ｒ^３Ｏ−（ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（化合物４、５、６）の合成
ここで、Ａは−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−であり、Ｒ^１は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ水素原子である。化合物４はｎ＝１、化合物５はｎ＝２、化合物６はｎ＝３である。
アルゴン雰囲気下、ＨＯＣＨ_２−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＨで表されるパーフルオロポリエーテル（８４ｇ）と、金属ナトリウム（１ｇ）を８０℃で２４時間攪拌する。つづいて、これにビス（ｐ−ブロモメチル）ジフェニルエーテル（２７ｇ）と３Ｍ製ＨＦＥ７３００を滴下し、９０℃で５８時間攪拌する。その後、水洗、シリカゲルを充填剤とするカラムクロマトグラフィーにより５分画する。展開溶媒は、ＤｕＰｏｎｔ製Ｖｅｒｔｒｅｌ−ＸＦである。第２分画品として化合物４（１６ｇ）、第３分画品として化合物５（３０ｇ）、第４分画品として化合物６（１８ｇ）を得た。化合物４、５、６は、いずれも無色透明液体であり、２０℃での密度は、１．７ｇ／ｃｍ^３であった。化合物４、５、６のＮＭＲ同定結果を以下に示す。
化合物４
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−８６．４ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８６．２ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８３．７ｐｐｍ
〔８４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−１２９．７ｐｐｍ
〔４２Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏ−〕，
δ＝−１２７．５ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２３．６ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２ＣＦ_２−〕，
ｚ＝１０．５
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−Ｏ−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
化合物５
^９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−８６．４ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８６．２ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８３．７ｐｐｍ
〔１２０Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−１２９．７ｐｐｍ
〔６０Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏ−〕，
δ＝−１２７．５ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２３．６ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２ＣＦ_２−〕，
ｚ＝１０．０
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔１６Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−Ｏ−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
化合物６
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−８６．４ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８６．２ｐｐｍ
〔１２Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８３．７ｐｐｍ
〔１５５Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−１２９．７ｐｐｍ
〔７８Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏ−〕，
δ＝−１２７．５ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２３．６ｐｐｍ
〔１２Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２ＣＦ_２−〕，
ｚ＝９．７
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔１２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔１２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔２４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−Ｏ−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，

Ｒ^３Ｏ−（ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（化合物７、８、９）の合成
ここで、Ａは−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−であり、Ｒ^１は−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ水素原子である。化合物７はｎ＝１、化合物８はｎ＝２、化合物９はｎ＝３である。
アルゴン雰囲気下、ＨＯＣＨ_２−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−ＣＨ_２ＯＨで表されるパーフルオロポリエーテル（８４ｇ）と、金属ナトリウム（１ｇ）を８０℃で２４時間攪拌する。つづいて、これにα，α’−ジブロモ−ｐ−キシレン（１４ｇ）と３Ｍ製ＨＦＥ７３００を滴下し、９０℃で４２時間攪拌する。その後、水洗、シリカゲルを充填剤とするカラムクロマトグラフィーにより５分画する。展開溶媒は、ＤｕＰｏｎｔ製Ｖｅｒｔｒｅｌ−ＸＦである。第２分画品として化合物７（１７ｇ）、第３分画品として化合物８（２６ｇ）、第４分画品として化合物９（１６ｇ）を得た。化合物７、８、９は、いずれも無色透明液体であり、２０℃での密度は、１．７ｇ／ｃｍ^３であった。化合物７、８、９のＮＭＲ同定結果を以下に示す。
化合物７
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−５２．１ｐｐｍ、−５３．７ｐｐｍ、−５５．４ｐｐｍ
〔３６Ｆ，−ＯＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−７７．９ｐｐｍ、−７９．９ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８１．３ｐｐｍ、−８３．３ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８９．１ｐｐｍ、−９０．７ｐｐｍ
〔８０Ｆ，−ＯＣＦ _２ＣＦ _２Ｏ−〕
ｘ＝１０．０ ｙ＝９．０
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，
化合物８
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−５２．１ｐｐｍ、−５３．７ｐｐｍ、−５５．４ｐｐｍ
〔５６Ｆ，−ＯＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−７７．９ｐｐｍ、−７９．９ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８１．３ｐｐｍ、−８３．３ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８９．１ｐｐｍ、−９０．７ｐｐｍ
〔１１４Ｆ，−ＯＣＦ _２ＣＦ _２Ｏ−〕
ｘ＝９．５ ｙ＝９．３
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，
化合物９
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−５２．１ｐｐｍ、−５３．７ｐｐｍ、−５５．４ｐｐｍ
〔７５Ｆ，−ＯＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−７７．９ｐｐｍ、−７９．９ｐｐｍ
〔１２Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８１．３ｐｐｍ、−８３．３ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８９．１ｐｐｍ、−９０．７ｐｐｍ
〔１５４Ｆ，−ＯＣＦ _２ＣＦ _２Ｏ−〕
ｘ＝９．６ ｙ＝９．４
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．８５ｐｐｍ
〔１２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２−〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔１２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔１２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，

Ｒ^３Ｏ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（化合物１０）の合成
ここで、Ａは−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−であり、Ｒ^１は−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−である。Ｒ^３水素原子であり、Ｒ^４は−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである。
アルゴン雰囲気下、実施例３で得られた化合物７（１２ｇ）と、ｔ−ブトキシカリウム（０．１ｇ）をｔ−ブタノール（５ｇ）中８０℃で１時間攪拌する。つづいて、これにグリシドール（０．５ｇ）を滴下し、７０℃で６時間攪拌する。その後、水洗、二酸化炭素を溶媒とする超臨界抽出により３分画し、第２分画品として化合物１０（５ｇ）を得た。化合物１０は、無色透明液体であり、２０℃での密度は、１．７ｇ／ｃｍ^３であった。化合物１０のＮＭＲ同定結果を以下に示す。
化合物１０
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−５２．１ｐｐｍ、−５３．７ｐｐｍ、−５５．４ｐｐｍ
〔３６Ｆ，−ＯＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−７７．７ｐｐｍ、−７９．７ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−７８．０ｐｐｍ、−８０．０ｐｐｍ
〔２Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８１．３ｐｐｍ、−８３．３ｐｐｍ
〔２Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８９．１ｐｐｍ、−９０．７ｐｐｍ
〔７８Ｆ，−ＯＣＦ _２ＣＦ _２Ｏ−〕
ｘ＝９．８ ｙ＝９．１
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．５８〜４．００ｐｐｍ
〔１１Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２−，−ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ _２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，

Ｒ^３Ｏ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（化合物１１）の合成
ここで、Ａは−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−であり、Ｒ^１は−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである。
アルゴン雰囲気下、実施例３で得られた化合物７（１２ｇ）と、ｔ−ブトキシカリウム（０．１ｇ）をｔ−ブタノール（５ｇ）中８０℃で１時間攪拌する。つづいて、これにグリシドール（１ｇ）を滴下し、７０℃で６時間攪拌する。その後、水洗、二酸化炭素を溶媒とする超臨界抽出により３分画し、第２分画品として化合物１１（５ｇ）を得た。化合物１１は、無色透明液体であり、２０℃での密度は、１．７ｇ／ｃｍ^３であった。化合物１１のＮＭＲ同定結果を以下に示す。
化合物１１
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−５２．１ｐｐｍ、−５３．７ｐｐｍ、−５５．４ｐｐｍ
〔３６Ｆ，−ＯＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−７７．７ｐｐｍ、−７９．７ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−７８．０ｐｐｍ、−８０．０ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８９．１ｐｐｍ、−９０．７ｐｐｍ
〔７９Ｆ，−ＯＣＦ _２ＣＦ _２Ｏ−〕
ｘ＝９．９ ｙ＝９．１
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．５８〜４．００ｐｐｍ
〔１８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２−，−ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ _２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔４Ｈ，−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２−〕，

Ｒ^３Ｏ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（化合物１２）の合成
ここで、Ａは−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−であり、Ｒ^１は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−である。Ｒ^３は水素原子であり、Ｒ^４は−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである。
アルゴン雰囲気下、実施例１で得られた化合物２（１２ｇ）と、ｔ−ブトキシカリウム（０．０５ｇ）をｔ−ブタノール（５ｇ）中８０℃で１時間攪拌する。つづいて、これにグリシドール（０．３ｇ）を滴下し、７０℃で６時間攪拌する。その後、水洗、シリカゲルを充填剤とするカラムクロマトグラフィーにより３分画する。展開溶媒は、ＤｕＰｏｎｔ製Ｖｅｒｔｒｅｌ−ＸＦである。第２分画品として化合物１２（３ｇ）を得た。化合物１２は、無色透明液体であり、２０℃での密度は、１．８ｇ／ｃｍ^３であった。化合物１２のＮＭＲ同定結果を以下に示す。
化合物１２
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−８６．４ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８６．２ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８３．７ｐｐｍ
〔１２１Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−１２３．６ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２ＣＦ_２−〕，
δ＝−１２４．１ｐｐｍ
〔２Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２７．５ｐｐｍ
〔２Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２９．７ｐｐｍ
〔６１Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏ−〕，
ｚ＝１０．１
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．５８〜４．００ｐｐｍ
〔１５Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２ＣＦ_２−，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ _２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．１８ｐｐｍ
〔２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，

Ｒ^３Ｏ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（化合物１３）の合成
ここで、Ａは−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−であり、Ｒ^１は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである。
アルゴン雰囲気下、実施例１で得られた化合物２（１２ｇ）と、ｔ−ブトキシカリウム（０．０５ｇ）をｔ−ブタノール（５ｇ）中８０℃で１時間攪拌する。つづいて、これにグリシドール（０．７ｇ）を滴下し、７０℃で６時間攪拌する。その後、水洗、二酸化炭素を溶媒とする超臨界抽出により３分画し、第２分画品として化合物１３（５ｇ）を得た。化合物１３は、無色透明液体であり、２０℃での密度は、１．７ｇ／ｃｍ^３であった。化合物１３のＮＭＲ同定結果を以下に示す。
化合物１３
^１９Ｆ−ＮＭＲ
δ＝−８６．４ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−８６．２ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ _２−〕，
δ＝−８３．７ｐｐｍ
〔１２２Ｆ，−ＣＦ _２ＣＦ_２ＣＦ _２Ｏ−〕，
δ＝−１２３．６ｐｐｍ
〔８Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ _２ＣＦ_２−〕，
δ＝−１２４．１ｐｐｍ
〔４Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ〕，
δ＝−１２９．７ｐｐｍ
〔６１Ｆ，−ＣＦ_２ＣＦ _２ＣＦ_２Ｏ−〕，
ｚ＝１０．２
^１Ｈ−ＮＭＲ
δ＝３．５８〜４．００ｐｐｍ
〔２２Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２ＯＣＨ _２ＣＦ_２ＣＦ_２−，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ _２ＯＣＨ _２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ _２ＯＨ〕，
δ＝４．６３ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ _２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ _２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，
δ＝７．３７ｐｐｍ
〔８Ｈ，−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２−Ｃ_６ Ｈ _４−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−〕，

単分子膜厚および拡散係数の測定
磁気ディスク上に塗布された潤滑剤の単分子膜厚（一分子あたりの膜厚）および拡散係数は、非特許文献２にも記載されているように、ディスク上での潤滑剤の拡散挙動をエリプソメーターで観察する際に確認される。単分子膜厚は、潤滑剤被膜のテラス部位の膜厚として得られる。拡散係数は、Ｔ時間後の潤滑剤の移動距離（Ｌ）を用いて、下記数式から算出される。
ＪＯＵＲＮＡＬ ｏｆ ＴＲＩＢＯＬＯＧＹ，ＯＣＴＯＢＥＲ ２００４，ＶＯＬ．１２６，ＰＡＧＥ７５１

拡散係数（ｍｍ^２／ｓ） ＝ Ｌ^２／Ｔ
具体的には、実施例１、２および６で合成した化合物２、５および１２を、それぞれＤｕＰｏｎｔ製Ｖｅｒｔｒｅｌ−ＸＦに溶解する。この溶液の化合物２および５の濃度はいずれも０．１重量％である。直径２．５インチの磁気ディスクの一部分（約１／４）をこの溶液に浸漬し、速度４ｍｍ／ｓで引き上げることにより、潤滑層として化合物２および５が塗布された部分と塗布されていない部分からなるディスクを作製した。塗布された部分の平均膜厚は、３２Åであった。
上記のディスクを作製後すぐに、エリプソメーターに装着し、５０℃の温度条件下にて一定時間毎に塗布部と非塗布部の境界付近における膜厚の変化を測定し、形成するテラス部位の膜厚として潤滑剤の単分子膜厚を得た。さらに潤滑層の移動距離から拡散係数を得た。また、比較のために、分子鎖中と分子末端に水酸基を有する化合物１４を使用した。
ＨＯ−（ＣＨ_２−Ｒ^３−ＣＨ_２Ｏ−Ｅ−Ｏ）_ｐ−ＣＨ_２−Ｒ^３−ＣＨ_２−ＯＨ（化合物１４）
Ｅは−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−で表される基である。Ｒ^３は、−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｑＣＦ_２ＣＦ_２−である。ｐは２、ｑは１０．２である。
化合物２、５、１２、１４の数平均分子量と単分子膜厚、および拡散係数を表１に記す。これらの結果から、本発明の芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、分子末端と分子鎖中に水酸基を有する化合物１４に比べて、同等の単分子膜厚を示しつつ、かつ高い拡散係数を示すことが確認された。

磁気ディスクの作製
実施例１で得られた化合物２をＤｕＰｏｎｔ製Ｖｅｒｔｒｅｌ−ＸＦに溶解する。この溶液の化合物２の濃度は０．１重量％である。直径２．５インチの磁気ディスクをこの溶液に１分間浸漬し、速度２ｍｍ／ｓで引き上げた。その後１５０℃で１０分間乾燥し、塗布された化合物の膜厚をＦＴ−ＩＲで測定したところ、２０Åであった。これより、一分子あたりの膜厚を低減できる分子末端と分子鎖中に水酸基を有する化合物と同程度の単分子膜厚を示し、かつ高い拡散係数を示す本発明の化合物を有する磁気ディスクを作製できることが確認された。

本発明の芳香族基と水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、一分子あたりの膜厚低減と流動性という２つの課題を同時に解決する潤滑剤である。また、本発明の化合物を潤滑剤として用いた磁気ディスクは、ヘッドとディスクのスペーシングを低減でき、かつヘッドとディスクの接触摺動においても優れた耐久性を有する。
なお、磁気ディスク表面での潤滑剤の流動性は、パーフルオロポリエーテル化合物の水酸基の数と、潤滑剤の下地層である炭素保護膜の表面物性によって決定される。パーフルオロポリエーテル化合物の水酸基の数が多いほど流動性は低下し、炭素保護膜の表面極性が小さいほど流動性は向上する。すなわち、パーフルオロポリエーテル化合物の水酸基の数は、炭素保護膜の表面極性との組み合わせにおいて最適化されることになる。一分子中に２〜４の水酸基を有する本発明のパーフルオロポリエーテル化合物は、様々な炭素保護膜に対して適用可能である。

Claims (6)

1. 式（１）で表される化合物。
   Ｒ^３Ｏ−（ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（１）
   式中ｎは１〜６の整数であり、Ｒ^１は、−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−又は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−である。Ａは−ＣＨ_２−Ｒ^２−ＣＨ_２−で表される基である。Ｒ^２は−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−又は−Ｃ_１０Ｈ_６−の芳香族基である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ水素原子または−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである。ｘ、ｙは、それぞれ０〜３０の実数である。ｚは１〜３０の実数である。
2. ｘ、ｙが、それぞれ０〜２０であり、ｚが１〜２０である請求項１に記載の化合物。
3. 式（１）の化合物を含有する潤滑剤。
   Ｒ^３Ｏ−（ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（１）
   式中ｎは１〜６の整数であり、Ｒ^１は、−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−又は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−である。Ａは−ＣＨ_２−Ｒ^２−ＣＨ_２−で表される基である。Ｒ^２は−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−又は−Ｃ_１０Ｈ_６−の芳香族基である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ水素原子または−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである。ｘ、ｙは、それぞれ０〜３０の実数である。ｚは１〜３０の実数である。
4. ｘ、ｙが、それぞれ０〜２０であり、ｚが１〜２０である請求項３に記載の潤滑剤。
5. 支持体上に少なくとも記録層、保護層を形成し、その表面に潤滑層を有する磁気ディスクにおいて、該潤滑層が下記式（１）で表される化合物を含有する磁気ディスク。
   Ｒ^３Ｏ−（ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−Ａ−Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２−Ｒ^１−ＣＨ_２−ＯＲ^４（１）
   式中ｎは１〜６の整数であり、Ｒ^１は、−ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｘ（ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２−又は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｚＣＦ_２ＣＦ_２−である。Ａは−ＣＨ_２−Ｒ^２−ＣＨ_２−で表される基である。Ｒ^２は−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−又は−Ｃ_１０Ｈ_６−の芳香族基である。Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ水素原子または−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨである。ｘ、ｙは、それぞれ０〜３０の実数である。ｚは１〜３０の実数である。
6. ｘ、ｙが、それぞれ０〜２０であり、ｚが１〜２０である請求項５に記載の磁気ディスク。

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