JP2010152380A - 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器及び投射型表示装置 - Google Patents
電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器及び投射型表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】液晶パネル用基板は、画素領域において第2のメタル層からなる遮光膜12に開けた開口部12aを通して遮光膜下の第2の層間絶縁膜11を挟んで第1のメタル層からなる配線膜10と遮光膜上の第3の層間絶縁膜13を挟んで第3のメタル層からなる画素電極とを導電接続する接続プラグ15を備えている。非画素領域の入力端子パッド26の周囲に、第1のメタル層からなる下層ダミーパターンAと第2のメタル層からなる上層ダミーパターンBが積み重ね形成されている。ダミーパターンA,B上の第3の層間絶縁膜13の成膜表面レベルが底上げされるため、その部分での過研磨を解消できる。そのため、CMP処理において一様の研磨レートが得られる。
【選択図】図2
Description
更に、本発明においては、画素領域を取り囲むシール領域の隅部領域には、平面的に細分化された複数の小分けダミーパターンが形成されている。このため、シール四隅部における研磨前の層間絶縁膜の表面は離散的な複数のダミーパターンによる凹凸が反映した面粗さを呈しており、研磨処理を施すと、シール領域の辺部の平坦に近い起伏に比し四隅部の初期研磨レートが速くなるため、これに引きずられる形で四隅部で囲まれたシール領域内側の研磨レートが略平等化する傾向で進行し、画素領域及びシール領域の残膜厚バラツキが抑制される。
また、シール四隅部において全くダミーパターンがない(パターン密度ゼロ)場合でも、隅部領域が落ち込みその境界部分が立ち上がっているため、研磨初期ではその境界部分が勾配面となり、その勾配面が次第に内方へ波及する。従って、画素領域及びシール領域の全体的な平坦化を得ることができる。
そしてまた、本発明においては、非画素領域に連続拡張面(いわゆるベタ)のダミーパターンを形成するではなく、画素の凹凸を模した複数の擬似画素凹凸パターンを形成した構成を採用できる。研磨処理前の層間絶縁膜の画素領域以外の表面にも、画素の表面凹凸模様と殆ど類似の表面凹凸模様が拡がっているため、研磨レートが初期から基板のどの部分でも略等しくなり、少なくとも画素領域及びシール領域では高精度の表面平坦性を実現できる。
複数の擬似画素凹凸パターンを非画素領域上に2次元方向に繰り返し展開形成した構成では、画素領域のマトリクス状などの空間規則性も対応することになるため、画素領域及びシール領域での表面平坦性が顕著になる。
この擬似画素凹凸パターンが少なくとも擬似ゲート線,及び擬似データ線で構成されて成る場合、画素の凹凸の顕著な(代表的)部分や画素領域の凹凸規則性に最も酷似するパターンとなるので、画素領域及びシール領域での層間絶縁膜を高精度に平坦化できる。
Claims (14)
- 各画素に対応するスイッチング素子が基板上に配置される画素領域において、複数の層間絶縁膜と複数の導電層とが交互に積層された積層膜構造を有しており、該複数の導電層のうちの最上層の導電層より下層の少なくとも一層の前記層間絶縁膜が研磨処理で平坦化されて成る電気光学装置用基板であって、
前記基板上の非画素領域において形成された少なくとも入力端子パッドの近傍には、前記研磨処理の層間絶縁膜よりも下層の前記導電層からなる単層又は複層のダミーパターンを有しており、前記ダミーパターンは、平面的に細分化された複数の小分けダミーパターンから成り、相隣り合う前記入力端子パッドの間は、前記小分けダミーパターンが形成されていない非ダミーパターン領域となっていることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項1において、前記複数の小分けダミーパターンは、前記入力端子パッドの前記基板縁に配置される第1の小分けダミーパターン、前記入力端子パッドの配線引き出し部間に配置される第2の小分けダミーパターン又は前記配線引き出し部の先部間とそこから引き出された配線間に配置される第3の小分けダミーパターンのいずれかからなることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項2において、前記入力端子パッドとその周囲に配置された前記第1ないし第3のいずれかの小分けダミーパターンとの間隔は、前記配線とその近傍の前記第1ないし第3のいずれかの小分けダミーパターンとの間隔よりも広く設定されて成ることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項1において、前記入力端子パッドと配線によって繋がった中継端子パッドを更に有しており、前記中継端子パッドとその周囲に配置された前記ダミーパターンとの間隔は、前記配線とその近傍の前記ダミーパターンとの間隔よりも広く設定されて成ることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 各画素に対応するスイッチング素子が基板上に配置される画素領域において、複数の層間絶縁膜と複数の導電層とが交互に積層された積層膜構造を有しており、該複数の導電層のうちの最上層の導電層より下層の少なくとも一層の前記層間絶縁膜が研磨処理で平坦化されて成る電気光学装置用基板であって、
前記基板上の非画素領域において形成された端子パッドの近傍と、
前記画素領域の周囲に形成されるシール領域と、
前記シール領域の外側の外周領域と、前記画素領域の周辺に配置され前記スイッチング素子に信号を供給する駆動回路の近傍領域と、において、
前記研磨処理の層間絶縁膜よりも下層の前記導電層からなる単層又は複層のダミーパターンをそれぞれ有して成ることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項5において、前記ダミーパターンは、前記スイッチング素子の制御配線層と同層で形成された孤立パターンの上に積み足されて成ることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 各画素に対応するスイッチング素子が基板上に配置される画素領域において、複数の層間絶縁膜と複数の導電層とが交互に積層された積層膜構造を有しており、該複数の導電層のうちの最上層の導電層より下層の少なくとも一層の前記層間絶縁膜が研磨処理で平坦化されて成る電気光学装置用基板であって、
前記画素領域の周囲に形成されるシール領域の隅部領域には、前記研磨処理の層間絶縁膜よりも下層の前記導電層からなる単層又は複層のダミーパターンを有しており、
前記ダミーパターンは、少なくとも平面的に細分化された複数の小分けダミーパターンから成ることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項7において、前記複数の小分けダミーパターンは、それぞれ短冊状に形成されてなり、前記シール領域のいずれかの辺に隣接して配置されてなることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 各画素に対応するスイッチング素子が基板上に配置される画素領域において、複数の層間絶縁膜と複数の導電層とが交互に積層された積層膜構造を有しており、該複数の導電層のうちの最上層の導電層より下層の少なくとも一層の前記層間絶縁膜が研磨処理で平坦化されて成る電気光学装置用基板であって、前記スイッチング素子に電気的に接続する第1の前記導電層と前記研磨処理の層間絶縁膜の上に成膜された上層の前記導電層とが電気的に接続されており、前記第1の導電層と前記上層の前記導電層との中間に第2の前記導電層を含み、前記基板上の非画素領域において前記研磨処理の層間絶縁膜よりも下層に複数の擬似画素凹凸パターンを有しており、前記擬似画素凹凸パターンは、前記第1の導電層からなる第1のダミーパターン及び前記第2の導電層からなる第2のダミーパターンのいずれか又は両者の積み重ねであることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項9において、前記第1のダミーパターンは少なくとも擬似ゲート線及び擬似データ線で構成されており、前記第2のダミーパターンは擬似遮光膜で構成されて成ることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項10において、少なくとも前記画素領域の周囲に形成されるシール領域において、前記擬似データ線は配線として利用されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項1乃至請求項11のいずれか一項に規定する電気光学装置用基板とこれに対向する透明基板との間隔に電気光学材料を挟持して成ることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項12に規定する電気光学装置を表示部に用いて成ることを特徴とする電子機器。
- 請求項12に規定する電気光学装置をライトバルブに用いて成ることを特徴とする投写型表示装置。
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