JP2010123774A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】もっとも半導体基板10側に位置する第1配線層20は、半導体素子のソース領域15に電気的に接続された第1ソース配線21と、半導体素子のドレイン領域12に電気的に接続された第1ドレイン配線22と、ゲート電極17に電気的に接続された中継部23とを備えている。そして、第1ソース配線21および第1ドレイン配線22にそれぞれ設けられたソース側凹部21aおよびドレイン側凹部22aによって設けられた間隙24にこの中継部23を配置する。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の第1実施形態について図を参照して説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る半導体装置の断面図である。
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。図3(a)は、本実施形態に係る第1配線層20のレイアウトの一部を示した平面図であり、図3(b)は第2配線層30のレイアウトの一部を示した平面図である。
本実施形態では、第1、第2実施形態と異なる部分についてのみ説明する。本実施形態では、ソース側凹部21aと第1ドレイン配線22とによって間隙が設けられていると共に、ドレイン側凹部22aと第1ソース配線21とによって間隙が設けられていることが特徴となっている。
ビア40の配置については、第2実施形態と同じである。したがって、第2配線層30は図3(b)に示されるものと同じである。もちろん、ビア40の配置については第1実施形態のように4箇所を一組としても良い。
本実施形態では、第1〜第3実施形態と異なる部分についてのみ説明する。上記各実施形態では、半導体素子を構成するドレイン領域12とソース領域15とが半導体基板10に対してストライプ状に配置されたものが示され、このような半導体素子に対する第1配線層20や第2配線層30のレイアウトが示された。本実施形態では、半導体素子を構成するドレイン領域12とソース領域15とが半導体基板10にメッシュ状に形成されたものに対して第1配線層20や第2配線層30をレイアウトしたことが特徴となっている。
上記各実施形態では、半導体素子としてLDMOSトランジスタを例に説明したが、これは一例を示したものであり、他の半導体素子でも良い。例えば、DMOSトランジスタやIGBTなどのラテラル型の素子(表面デバイス)を採用することができる。
11 半導体基板の表面
12 ドレイン領域
15 ソース領域
17 ゲート電極
20 第1配線層
21 第1ソース配線
21a ソース側凹部
22 第1ドレイン配線
22a ドレイン側凹部
23 中継部
24、26、27 間隙
30 第2配線層
31 第2ソース配線
32 第2ドレイン配線
33 裏打ち用配線
Claims (8)
- ソース領域(15)、ドレイン領域(12)、およびゲート電極(17)を備えた横型の半導体素子が半導体基板(10)に形成され、前記半導体基板(10)の上に複数の配線層が形成された半導体装置であって、
前記複数の配線層のうち、もっとも半導体基板(10)側に位置する第1配線層(20)は、前記半導体素子のソース領域(15)に電気的に接続された第1ソース配線(21)と、前記半導体素子のドレイン領域(12)に電気的に接続された第1ドレイン配線(22)と、前記ゲート電極(17)に電気的に接続された中継部(23)とを備え、
前記第1ソース配線(21)および前記第1ドレイン配線(22)は、前記半導体基板(10)の表面(11)に平行な方向にストライプ状に配置されており、
前記第1ソース配線(21)および前記第1ドレイン配線(22)のいずれか一方または両方は、前記第1ソース配線(21)と前記第1ドレイン配線(22)との間隔を広くする凹部(21a、22a)を備え、
前記中継部(23)は、前記第1ソース配線(21)と前記第1ドレイン配線(22)との間において、前記凹部(21a、22a)によって広くされた前記第1ソース配線(21)と前記第1ドレイン配線(22)との間隙(24、26、27)に配置されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1ソース配線(21)は、前記凹部として前記第1ソース配線(21)の一部の幅が狭くされたソース側凹部(21a)を備え、
前記第1ドレイン配線(22)は、前記凹部として前記第1ドレイン配線(22)の一部の幅が狭くされたドレイン側凹部(22a)を備えており、
前記ソース側凹部(21a)および前記ドレイン側凹部(22a)は対向するようにそれぞれ配置され、
前記中継部(23)は、前記第1ソース配線(21)と前記第1ドレイン配線(22)との間において、前記ソース側凹部(21a)と前記ドレイン側凹部(22a)とによって広くされた間隙(24)に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1ソース配線(21)は、前記凹部として前記第1ソース配線(21)の一部の幅が狭くされたソース側凹部(21a)を備え、
前記中継部(23)は、前記第1ソース配線(21)と前記第1ドレイン配線(22)との間において、前記ソース側凹部(21a)によって広くされた間隙(26)に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1ドレイン配線(22)は、前記凹部として前記第1ドレイン配線(22)の一部の幅が狭くされたドレイン側凹部(22a)を備え、
前記中継部(23)は、前記第1ソース配線(21)と前記第1ドレイン配線(22)との間において、前記ドレイン側凹部(22a)によって広くされた間隙(27)に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1ソース配線(21)は、前記凹部として前記第1ソース配線(21)の一部の幅が狭くされたソース側凹部(21a)を備え、
前記第1ドレイン配線(22)は、前記凹部として前記第1ドレイン配線(22)の一部の幅が狭くされたドレイン側凹部(22a)を備えており、
前記中継部(23)は、前記第1ソース配線(21)と前記第1ドレイン配線(22)との間において、前記ソース側凹部(21a)によって広くされた前記第1ドレイン配線(22)と前記ソース側凹部(21a)との間の間隙(26)に配置されていると共に、前記ドレイン側凹部(22a)によって広くされた前記第1ソース配線(21)と前記ドレイン側凹部(22a)との間の間隙(27)に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記複数の配線層は、前記第1配線層(20)の上に第2配線層(30)を備えており、
前記第2配線層(30)は、
前記第1ソース配線(21)に電気的に接続された第2ソース配線(31)と、
前記第1ドレイン配線(22)に電気的に接続された第2ドレイン配線(32)と、
前記中継部(23)に電気的に接続された裏打ち用配線(33)とを備えていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1つに記載の半導体装置。 - 前記ソース領域(15)および前記ドレイン領域(12)は前記半導体基板(10)にストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の半導体装置。
- 前記ソース領域(15)および前記ドレイン領域(12)は前記半導体基板(10)にメッシュ状に形成されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の半導体装置。
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