JP2010098116A - 分割方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】改質層形成工程では、第1の分割予定ライン2上においては第2の分割予定ライン3によって仕切られた間隔に対して90〜95%の長さで第2の分割予定ライン3との交点を含んで改質層22を形成するとともに、第2の分割予定ライン3上においては第1の分割予定ライン2によって仕切られた間隔に対して90〜95%の長さで第1の分割予定ライン2との交点を含んで改質層22を形成するようにした。
【選択図】 図3
Description
2 第1の分割予定ライン
3 第2の分割予定ライン
4 デバイス
5 デバイス領域
6 余剰領域
10 保持手段
11a 保持面
22 改質層
Claims (2)
- 第1の分割予定ラインと該第1の分割予定ラインと交差する第2の分割予定ラインとによって区画された板状の被加工物を分割する分割方法であって、
保持面を有する保持手段で前記被加工物を保持する保持工程と、
前記保持面に保持された前記被加工物に対して透過性を有する波長のパルスレーザビームを前記第1の分割予定ラインおよび前記第2の分割予定ラインに沿って照射して改質層を形成する改質層形成工程と、
前記改質層が形成された前記被加工物に外力を加えて前記第1の分割予定ラインと前記第2の分割予定ラインとに沿って前記被加工物を個々のチップに分割する分割工程と、
を含み、
前記改質層形成工程では、前記第1の分割予定ライン上においては前記第2の分割予定ラインによって仕切られた間隔に対して90〜95%の長さで該第2の分割予定ラインとの交点を含んで前記改質層を形成するとともに、前記第2の分割予定ライン上においては前記第1の分割予定ラインによって仕切られた間隔に対して90〜95%の長さで該第1の分割予定ラインとの交点を含んで前記改質層を形成することを特徴とする分割方法。 - 前記被加工物は、複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する余剰領域とを有し、
前記保持工程では、前記保持面を前記余剰領域のみに接触させて前記被加工物を保持することを特徴とする請求項1に記載の分割方法。
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