JP2009277778A - ウエーハの分割方法 - Google Patents

ウエーハの分割方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009277778A
JP2009277778A JP2008125936A JP2008125936A JP2009277778A JP 2009277778 A JP2009277778 A JP 2009277778A JP 2008125936 A JP2008125936 A JP 2008125936A JP 2008125936 A JP2008125936 A JP 2008125936A JP 2009277778 A JP2009277778 A JP 2009277778A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
adhesive tape
division
dividing
annular frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008125936A
Other languages
English (en)
Inventor
Yosuke Watanabe
陽介 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2008125936A priority Critical patent/JP2009277778A/ja
Publication of JP2009277778A publication Critical patent/JP2009277778A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】表面に複数の分割予定ラインが格子状に形成されているとともに複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成され内部に複数の分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハを、分割予定ラインに沿って確実に分割することができるウエーハの方法を提供する。
【解決手段】表面に複数の分割予定ラインが格子状に形成されているとともに複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成され内部に複数の分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハを、環状のフレームに装着された粘着テープに貼着した状態で該粘着テープにおけるウエーハと環状のフレームの内周とに間の環状領域に押圧部材を作用せしめて粘着テープを拡張することにより変質層が形成された分割予定ラインに沿って分割するウエーハの分割方法であって、粘着テープはヤング率が150〜500N/mm2に設定されている。
【選択図】図6

Description

本発明は、表面に複数の分割予定ラインが格子状に形成されているとともに該複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウエーハを、該分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するウエーハの分割方法に関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々の半導体チップを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハも所定の分割予定ラインに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のウエーハを分割予定ラインに沿って分割する方法として、ウエーハに対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線を用い、分割すべき領域の内部に集光点を合わせてパルスレーザー光線を照射するレーザー加工方法が提案されている。このレーザー加工方法を用いた分割方法は、ウエーハの一方の面側から内部に集光点を合わせてウエーハに対して透過性を有する赤外光領域のパルスレーザー光線を照射し、ウエーハの内部に分割予定ラインに沿って変質層を連続的に形成し、この変質層が形成されることによって強度が低下した分割予定ラインに沿って外力を加えることにより、ウエーハを個々のデバイスに分割するものである。(例えば、特許文献1参照。)
特許第3408805号公報
上述したように分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハの分割予定ラインに沿って外力を付与し、ウエーハを個々のチップに分割する方法として、分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハを環状のフレームに装着された粘着テープの表面に貼着し、該粘着テープを拡張してウエーハに引っ張り力を付与することにより、ウエーハを個々のデバイスに分割するウエーハの分割方法が提案されている。(例えば、特許文献2参照。)
特開2006−129607号公報
上記特許文献2に開示されたウエーハの分割方法は、分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハが貼着された粘着テープにおけるウエーハと環状のフレームの内周とに間の環状領域に押圧部材を作用せしめて該粘着テープを拡張することによりウエーハに引張力を作用させる方法で、作業が簡単で効率的である。
而して、上記特許文献2に開示されたようにウエーハが貼着された粘着テープを拡張してウエーハに引張力を付与する方法は、ウエーハの分割がウエーハの外周から中心部に向かって進行するため、ウエーハの分割に伴って粘着テープの外周部が延びて弛みが生じ、ウエーハの中心部に十分な引張力を作用させることができない。このため、デバイスが変形して分割されたり、分割不良が生じてデバイスの品質を低下させるという問題がある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、表面に複数の分割予定ラインが格子状に形成されているとともに複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成され内部に複数の分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハを、分割予定ラインに沿って確実に分割することができるウエーハの分割方法を提供することである。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、表面に複数の分割予定ラインが格子状に形成されているとともに複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成され内部に複数の分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハを、環状のフレームに装着された粘着テープに貼着した状態で該粘着テープにおけるウエーハと環状のフレームの内周とに間の環状領域に押圧部材を作用せしめて該粘着テープを拡張することにより変質層が形成された分割予定ラインに沿って分割するウエーハの分割方法であって、
該粘着テープは、ヤング率が150〜500N/mm2に設定されている、
ことを特徴とするウエーハの分割方法が提供される。
本発明によるウエーハの分割方法によれば、ウエーハが貼着される粘着テープはヤング率が150〜500N/mm2に設定されているので、粘着テープを拡張することによりウエーハの中心部まで十分に引張力を作用させることができ、ウエーハを変質層が形成された分割予定ラインに沿って正確に分割することができる。
以下、本発明によるウエーハの分割方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には、本発明に従って個々のデバイスに分割されるウエーハとしての半導体ウエーハの斜視図が示されている。図1に示す半導体ウエーハ10はシリコンウエーハからなっており、表面10aには複数の分割予定ライン101が格子状に形成されている。そして、半導体ウエーハ10の表面10aには、複数の分割予定ライン101によって区画された複数の領域にデバイス102が形成されている。以下、この半導体ウエーハ10を個々のデバイス102に分割する分割方法について説明する。
半導体ウエーハ10を個々のデバイスに分割するには、半導体ウエーハ10に対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線を複数の分割予定ライン101に沿って照射し、半導体ウエーハ10の内部に複数の分割予定ライン101に沿って変質層を形成することにより分割予定ラインに沿って強度を低下せしめる変質層形成工程を実施する。
この変質層形成工程は、図2に示すレーザー加工装置2を用いて実施する。図2に示すレーザー加工装置2は、被加工物を保持するチャックテーブル21と、該チャックテーブル21上に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段22と、チャックテーブル21上に保持された被加工物を撮像する撮像手段23を具備している。チャックテーブル21は、被加工物を吸引保持するように構成されており、図示しない加工送り手段によって図2において矢印Xで示す方向に加工送りされるとともに、図示しない割り出し送り手段によって図2において矢印Yで示す方向に割り出し送りされるようになっている。
上記レーザー光線照射手段22は、実質上水平に配置された円筒形状のケーシング221の先端に装着された集光器222からパルスレーザー光線を照射する。また、上記レーザー光線照射手段22を構成するケーシング221の先端部に装着された撮像手段23は、図示の実施形態においては可視光線によって撮像する通常の撮像素子(CCD)の外に、被加工物に赤外線を照射する赤外線照明手段と、該赤外線照明手段によって照射された赤外線を捕らえる光学系と、該光学系によって捕らえられた赤外線に対応した電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)等で構成されており、撮像した画像信号を後述する制御手段に送る。
上述したレーザー加工装置2を用いて実施する変質層形成工程について、図2および図3を参照して説明する。
この変質層形成工程を実施するには、先ず上述した図2に示すレーザー加工装置2のチャックテーブル21上に半導体ウエーハ10の表面10aを載置し、図示しない吸引手段を作動してチャックテーブル21上に半導体ウエーハ10を吸引保持する。従って、チャックテーブル21上に保持された半導体ウエーハ10は、裏面10bが上側となる。このようにして半導体ウエーハ10を吸引保持したチャックテーブル21は、図示しない加工送り手段によって撮像手段23の直下に位置付けられる。
チャックテーブル21が撮像手段23の直下に位置付けられると、撮像手段23および図示しない制御手段によって半導体ウエーハ10の分割予定ライン101に沿ってレーザー加工すべき加工領域を検出するアライメント作業を実行する。即ち、撮像手段23および図示しない制御手段は、半導体ウエーハ10の所定方向に形成されている分割予定ライン101と、該分割予定ライン101に沿ってレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段22の集光器222との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理を実行し、レーザー光線照射位置のアライメントを遂行する。また、半導体ウエーハ10に形成されている複数の分割予定ライン101と直交する方向に形成されている複数の分割予定ライン101に対しても、同様にレーザー光線照射位置のアライメントが遂行される。このとき、半導体ウエーハ10の複数の分割予定ライン101が形成されている表面10aは下側に位置しているが、撮像手段23が上述したように赤外線照明手段と赤外線を捕らえる光学系および赤外線に対応した電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)等で構成された撮像手段を備えているので、裏面10bから透かして分割予定ライン101を撮像することができる。
以上のようにしてチャックテーブル21上に保持された半導体ウエーハ10に形成されている分割予定ライン101を検出し、レーザー光線照射位置のアライメントが行われたならば、図3の(a)で示すようにチャックテーブル21をレーザー光線照射手段22の集光器222が位置するレーザー光線照射領域に移動し、所定の分割予定ライン101の一端(図3の(a)において左端)をレーザー光線照射手段22の集光器222の直下に位置付ける。そして、集光器222からシリコンウエーハに対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線を照射しつつチャックテーブル21を図3の(a)において矢印X1で示す方向に所定の加工送り速度で移動せしめる。そして、図3の(b)で示すようにレーザー光線照射手段22の集光器222の照射位置に分割予定ライン101の他端(図3の(b)において右端)が達したら、パルスレーザー光線の照射を停止するとともにチャックテーブル21の移動を停止する。この変質層形成工程においては、パルスレーザー光線の集光点Pを半導体ウエーハ10の表面10a(下面)付近に合わせる。この結果、半導体ウエーハ10には、分割予定ライン101に沿って表面10a(下面)に露出するとともに表面10aから内部に向けて変質層110が形成される。この変質層110は、溶融再固化層として形成される。
上記変質層形成工程における加工条件は、例えば次のように設定されている。
光源 :LD励起QスイッチNd:YVO4レーザー
波長 :1064nmのパルスレーザー
平均出力 :1W
集光スポット径 :φ1μm
繰り返し周波数 :70kHz
加工送り速度 :30mm/秒
上記変質層110は、表面10aおよび裏面10bに露出しないように内部だけに形成してもよく、また、上記集光点Pを段階的に変えて上述した変質層形成工程を複数回実行することにより、複数の変質層110を形成してもよい。そして、上述した変質層形成工程を半導体ウエーハ2に形成された全ての分割予定ライン101に沿って実施する。
上述した変質層形成工程によって半導体ウエーハ10の内部に複数の分割予定ライン101に沿って変質層110を形成したならば、分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハの裏面を環状のフレームに装着された粘着テープに貼着するウエーハ支持工程を実施する。即ち、図4に示すように環状のフレーム3の内側開口部を覆うように外周部が装着された粘着テープ4の表面に半導体ウエーハ10の裏面10bを貼着する。粘着テープ4は、ポリ塩化ビニル(PVC)やポリオレフィン(PO)からなる厚さが30〜200μmのシート基材によって形成されており、その表面に粘着剤が厚さ5μm程度塗布されている。この粘着テープ4は、ヤング率が150〜500N/mm2に設定されていることが重要である。
上述した変質層形成工程およびウエーハ支持工程を実施したならば、環状のフレーム3に装着された粘着テープ4における半導体ウエーハ10と環状のフレーム3の内周とに間の環状領域に押圧部材を作用せしめて粘着テープ4を拡張することにより粘着テープ4に貼着された半導体ウエーハ10に外力を付与し、半導体ウエーハ10を変質層110が形成された分割予定ライン101に沿って分割するウエーハ分割工程を実施する。このウエーハ分割工程は、図5に示すテープ拡張装置5を用いて実施する。図5に示すテープ拡張装置5は、上記環状のフレーム3を保持するフレーム保持手段51と、該フレーム保持手段51に保持された環状のフレーム3に装着された粘着テープ4を拡張するテープ拡張手段52を具備している。フレーム保持手段51は、環状のフレーム保持部材511と、該フレーム保持部材511の外周に配設された固定手段としての複数のクランプ512とからなっている。フレーム保持部材511の上面は環状のフレーム3を載置する載置面511aを形成しており、この載置面511a上に環状のフレーム3が載置される。そして、載置面511a上に載置された環状のフレーム3は、クランプ512によってフレーム保持部材511に固定される。このように構成されたフレーム保持手段51は、テープ拡張手段52によって上下方向に進退可能に支持されている。
上記テープ拡張手段52は、上記環状のフレーム保持部材511の内側に配設される押圧部材としての円筒状の拡張ドラム521を具備している。この拡張ドラム521は、環状のフレーム3の内径より小さく該環状のフレーム3に装着された粘着テープ4に貼着される半導体ウエーハ10の外径より大きい内径および外径を有している。また、拡張ドラム521は、下端に支持フランジ522を備えている。図示の実施形態におけるテープ拡張手段52は、上記環状のフレーム保持部材511を上下方向に進退可能な支持手段53を具備している。この支持手段53は、上記支持フランジ522上に配設された複数のエアシリンダ531からなっており、そのピストンロッド532が上記環状のフレーム保持部材511の下面に連結される。このように複数のエアシリンダ531からなる支持手段53は、環状のフレーム保持部材511を載置面511aが拡張ドラム521の上端と略同一高さとなる基準位置と、拡張ドラム521の上端より所定量下方の拡張位置の間を上下方向に移動せしめる。従って、複数のエアシリンダ531からなる支持手段53は、拡張ドラム521とフレーム保持部材511とを上下方向に相対移動する拡張移動手段として機能する。
以上のように構成されたテープ拡張装置5を用いて実施するウエーハ分割工程について図6を参照して説明する。即ち、半導体ウエーハ10(分割予定ライン101に沿って変質層110が形成されている)の裏面10bが貼着されている粘着テープ4が装着された環状のフレーム3を、図6の(a)に示すようにフレーム保持手段51を構成するフレーム保持部材511の載置面511a上に載置し、クランプ512によってフレーム保持部材511に固定する。このとき、フレーム保持部材511は図6の(a)に示す基準位置に位置付けられている。次に、テープ拡張手段52を構成する支持手段53としての複数のエアシリンダ531を作動して、環状のフレーム保持部材511を図6の(b)に示す拡張位置に下降せしめる。従って、フレーム保持部材511の載置面511a上に固定されている環状のフレーム3も下降するため、図6の(b)に示すように環状のフレーム3に装着された粘着テープ4は、半導体ウエーハ10と環状のフレーム3の内周との間の環状領域4aが押圧部材としての円筒状の拡張ドラム521の上端縁に接して押圧され拡張せしめられる。この結果、粘着テープ4に貼着されている半導体ウエーハ10には放射状に引張力が作用するため、半導体ウエーハ10は変質層110が形成されることによって強度が低下せしめられた分割予定ライン101に沿って破断され個々のデバイス102に分割される。
上述したウエーハ分割工程において粘着テープ4が拡張されると、粘着テープ4に貼着されている半導体ウエーハ10(分割予定ライン101に沿って変質層110が形成されている)は、外周から中心部に向かって分割が進行する。この半導体ウエーハ10の分割の進行に伴って粘着テープ4の外周部が延びていくが、本発明においては粘着テープ4はヤング率が150〜500N/mm2に設定されているので、外周の分割予定ライン101の分割によって中心部の分割予定ライン101に作用する引張り力が減少するが粘着テープ4のヤング率が高いことから半導体ウエーハ10の中心部まで十分な引張力を作用させることができる。この結果、半導体ウエーハ10は、変質層110が形成された分割予定ライン101に沿って正確に分割される。
本発明者は、直径200mmのシリコンウエーハ(分割予定ラインに沿って変質層が形成されている)を内径が300mmの環状フレームに装着された粘着テープに貼着し、上記ウエーハ分割装置によって上述したウエーハ分割工程を実施した。なお、ウエーハ分割工程は、環状のフレームの移動量即ち環状のフレームの上記図6の(a)から図6の(b)までの移動量を30mmに設定して実施した。
粘着テープとして一般に使用されているヤング率が100N/mm2程度の粘着テープを用いた場合には、弾性係数が低くウエーハの中心部まで十分な引張力が作用しないため、ウエーハの中心部において分割不良が発生した。
粘着テープとしてヤング率が150N/mm2以上、特にヤング率が200N/mm2以上の粘着テープを用いた場合には、ウエーハは中心部まで十分に引張力を作用させることができ、変質層が形成された分割予定ラインに沿って正確に分割された。
なお、ヤング率が500N/mm2を超える粘着テープを用いると、粘着テープを拡張するために大きな力が必要となり、実用的ではない。
上述したようにウエーハ分割工程を実施したならば、図7に示すようにピックアップ機構6を作動しピックアップコレット61によって所定位置に位置付けられたデバイス22をピックアップ(ピックアップ工程)し、図示しないトレーまたはダイボンディング工程に搬送する。
本発明によるウエーハの分割方法によって個々のデバイスに分割される半導体ウエーハの斜視図。 本発明によるウエーハの分割方法における変質層形成工程を実施するためのレーザー加工装置の要部斜視図。 本発明によるウエーハの分割方法における変質層形成行程の説明図。 本発明によるウエーハの分割方法におけるウエーハ支持工程を実施したウエーハの斜視図。 本発明によるウエーハの分割方法におけるウエーハ分割工程を実施するためのテープ拡張装置の斜視図。 本発明によるウエーハの分割方法におけるウエーハ分割工程の説明図。 本発明によるウエーハの分割方法におけるピックアップ工程を示す説明図。
符号の説明
2:レーザー加工装置
21:レーザー加工装置のチャックテーブル
22:レーザー光線照射手段
222:集光器
3:環状のフレーム
4:粘着テープ
5:テープ拡張装置
51:フレーム保持手段
52:テープ拡張手段
521:拡張ドラム
10:半導体ウエーハ
101:分割予定ライン
102:デバイス
110:変質層

Claims (1)

  1. 表面に複数の分割予定ラインが格子状に形成されているとともに複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成され内部に複数の分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハを、環状のフレームに装着された粘着テープに貼着した状態で該粘着テープにおけるウエーハと環状のフレームの内周とに間の環状領域に押圧部材を作用せしめて該粘着テープを拡張することにより変質層が形成された分割予定ラインに沿って分割するウエーハの分割方法であって、
    該粘着テープは、ヤング率が150〜500N/mm2に設定されている、
    ことを特徴とするウエーハの分割方法。
JP2008125936A 2008-05-13 2008-05-13 ウエーハの分割方法 Pending JP2009277778A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008125936A JP2009277778A (ja) 2008-05-13 2008-05-13 ウエーハの分割方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008125936A JP2009277778A (ja) 2008-05-13 2008-05-13 ウエーハの分割方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009277778A true JP2009277778A (ja) 2009-11-26

Family

ID=41442956

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008125936A Pending JP2009277778A (ja) 2008-05-13 2008-05-13 ウエーハの分割方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009277778A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011119548A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Lintec Corp ステルスダイシング用粘着シート及び半導体装置の製造方法
JP2011119549A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Lintec Corp ステルスダイシング用粘着シート及び半導体装置の製造方法
KR20150042133A (ko) 2013-10-10 2015-04-20 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼의 가공 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000173951A (ja) * 1998-12-02 2000-06-23 Okura Ind Co Ltd ダイシング用基材フィルム
JP2007005436A (ja) * 2005-06-22 2007-01-11 Nitto Denko Corp ダイシング用粘着シート
JP2007157887A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの分割方法
JP2008063492A (ja) * 2006-09-08 2008-03-21 Nitto Denko Corp ウエハ保持用粘着シート

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000173951A (ja) * 1998-12-02 2000-06-23 Okura Ind Co Ltd ダイシング用基材フィルム
JP2007005436A (ja) * 2005-06-22 2007-01-11 Nitto Denko Corp ダイシング用粘着シート
JP2007157887A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの分割方法
JP2008063492A (ja) * 2006-09-08 2008-03-21 Nitto Denko Corp ウエハ保持用粘着シート

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011119548A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Lintec Corp ステルスダイシング用粘着シート及び半導体装置の製造方法
JP2011119549A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Lintec Corp ステルスダイシング用粘着シート及び半導体装置の製造方法
KR101215105B1 (ko) * 2009-12-04 2012-12-24 린텍 코포레이션 스텔스 다이싱용 점착 시트 및 반도체 장치의 제조 방법
KR20150042133A (ko) 2013-10-10 2015-04-20 가부시기가이샤 디스코 웨이퍼의 가공 방법
US9159623B2 (en) 2013-10-10 2015-10-13 Disco Corporation Wafer processing method for removing organic debris

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6151557B2 (ja) レーザー加工方法
JP5307612B2 (ja) 光デバイスウエーハの加工方法
JP4769560B2 (ja) ウエーハの分割方法
JP5307384B2 (ja) ウエーハの分割方法
JP6121281B2 (ja) ウエーハの加工方法
JP4767711B2 (ja) ウエーハの分割方法
JP2006229021A (ja) ウエーハの分割方法
TWI618132B (zh) Optical component wafer processing method
JP2009123835A (ja) 半導体デバイスの製造方法
JP6189066B2 (ja) ウエーハの加工方法
JP2010027857A (ja) 半導体デバイスの製造方法
JP2008294191A (ja) ウエーハの分割方法
JP2007157887A (ja) ウエーハの分割方法
JP2014216344A (ja) ウエーハの加工方法
JP2007012878A (ja) ウエーハの分割方法
JP2007123658A (ja) 粘着テープの拡張装置
JP4833657B2 (ja) ウエーハの分割方法
JP2016213318A (ja) ウエーハの加工方法
JP2006202933A (ja) ウエーハの分割方法
JP2008042110A (ja) ウエーハの分割方法
JP2016087655A (ja) ウエーハの加工方法
JP2011003757A (ja) ウエーハの分割方法
JP2006114691A (ja) ウエーハの分割方法
JP2006245103A (ja) ウエーハの分割方法
JP2014165436A (ja) ウエーハの加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110422

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121120

A521 Written amendment

Effective date: 20130118

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20130402

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20130806

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02