JP2010098077A - 回路モジュールの製造方法 - Google Patents
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- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19105—Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
Abstract
【解決手段】所定の領域に配線パターンが形成されている基板上に半導体部品が搭載され、前記半導体部品が封止剤で封止されている回路モジュールの製造方法であって、前記基板上に前記半導体部品を配置する第1工程S10と、前記半導体部品を前記配線パターンと電気的に接続する第2工程S11と、前記半導体部品を前記封止剤で封止する第3工程S12と、前記基板上の前記封止剤で封止されていない領域に、電子部品を実装する第4工程S13と、を有することを特徴とする。
【選択図】図9
Description
に関する。
[本発明の第1の実施の形態に係る回路モジュールの構造]
始めに、本発明の第1の実施の形態に係る回路モジュールの構造について説明する。図7は、本発明の第1の実施の形態に係る回路モジュールを例示する平面図である。図8は、図7のC−C線に沿う断面図である。図7及び図8を参照するに、回路モジュール10は、基板11aと、配線パターン12a及び12bと、スルーホール13と、ソルダレジスト14a及び14bと、固着剤15と、FETベアチップ16と、ボンディングワイヤ16aと、ICベアチップ17と、ボンディングワイヤ17aと、クリームはんだ18と、電子部品19と、封止樹脂20とを有する。
続いて、本発明の第1の実施の形態に係る回路モジュールの製造方法について説明する。図9は、本発明の第1の実施の形態に係る回路モジュールの製造工程を例示するフローチャートである。図10〜図16は、本発明の第1の実施の形態に係る回路モジュールの製造工程を例示する図である。図9〜図16を参照しながら、回路モジュール10の製造方法について説明する。
図9に示す工程1はベアチップ実装工程である(S10)。工程1は、クリーンルームで行われる。工程1では、始めに図10に示す集合基板11を準備する。図10は、回路モジュールが形成される集合基板を例示する平面図である。図10に示す集合基板11において、Dは後述する工程5において集合基板11を分割する位置(以降、分割位置Dとする)を示している。集合基板11は、後述する工程5において、分割位置Dで分割されることにより基板11aとなる基板であり、集合基板11上の一点鎖線で囲まれた領域には、複数(この場合は、27個)の回路モジュール10が形成される。集合基板11としては、例えばガラスエポキシ基板等を用いることができる。集合基板11の厚さは、例えば、0.3mm〜0.8mm程度である。
図9に示す工程2はワイヤボンディング工程である(S11)。工程2は、クリーンルームで行われる。工程2では、始めに図12に示すように、クランプ治具50で集合基板11をクランプし、その後ワイヤボンディングを行う。この際、クランプ治具50は、電子部品19が実装されていない領域をクランプするが、本発明の第1の実施の形態に係る回路モジュールの製造方法では、ワイヤボンディングを行う際には、未だ電子部品19は実装されていない。従って、後述する工程4で電子部品19が実装されるべき領域もクランプすることができる。
図9に示す工程3は封止工程である(S12)。工程3は、クリーンルームで行われる。工程3では、始めに集合基板11のFETベアチップ16等が実装されている側の面に、所定のマスク、スキージ等を用いて封止樹脂20を印刷する。この際、所定のマスクは、FETベアチップ16及びICベアチップ17、並びに、ボンディングワイヤ16a及び17aを露出させ、後の工程で電子部品19が実装されるべき領域を覆うように配置する。又、封止樹脂20で封止される側の面に外部接続端子が形成されるべき領域がある場合には、所定のマスクは、外部接続端子が形成されるべき領域を覆うように配置する。これにより、FETベアチップ16及びICベアチップ17のみを覆うように封止樹脂20が印刷される。封止樹脂20を印刷した後に、加熱、UV照射等により封止樹脂20を硬化させ、図14に示すように、FETベアチップ16及びICベアチップ17を封止する。封止樹脂20としては、例えば、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂やUV樹脂等を用いることができる。
図9に示す工程4は電子部品実装工程である(S13)。工程4は、プロセスルームで行われる。工程4では、始めに図15に示すように、集合基板11のFETベアチップ16等が実装されている側の面をはんだマスク60で覆う。はんだマスク60は、封止樹脂20に対応する部分を逃げる断面視凸部を有し、クリームはんだ18を印刷すべき部分のみを露出するように作製されている。次いで、はんだマスク60から露出する部分にクリームはんだ18を印刷する。これにより、図16に示すように、電子部品19が実装される位置に対応するパッド部分にクリームはんだ18が印刷される。
図9に示す工程5は集合基板分割工程である(S14)。工程5は、プロセスルームで行われる。工程5では、集合基板11を所定のダイサー等を用いて、図10に示す分割位置Dで分割することにより個片化する。これにより、図7及び図8に示す回路モジュール10が製造される。なお、工程1〜5以外に、必要に応じて、封止樹脂20から露出している外部接続端子にNi板等を取り付ける工程や、電気的特性検査、外観検査等を行う工程が追加される場合がある。
[本発明の第2の実施の形態に係る回路モジュールの構造]
始めに、本発明の第2の実施の形態に係る回路モジュールの構造について説明する。図17は、本発明の第2の実施の形態に係る回路モジュールを例示する平面図である。図18は、図17のE−E線に沿う断面図である。図17及び図18において、図7及び図8と同一部品については、同一符号を付し、その説明は省略する場合がある。図17及び図18を参照するに、回路モジュール30は、図7及び図8に示す回路モジュール10のFETベアチップ16及びICベアチップ17がCSPパッケージのFET36及びIC37に置換され、ボンディングワイヤ16a及び17aが端子36a及び37aに置換されたものである。回路モジュール30のそれ以外の部分は、回路モジュール10と同様に構成される。以下、回路モジュール30について、回路モジュール10と異なる部分についてのみ説明する。
続いて、本発明の第2の実施の形態に係る回路モジュールの製造方法について説明する。図19は、本発明の第2の実施の形態に係る回路モジュールの製造工程を例示するフローチャートである。図19において、図9と同一部分については、同一符号を付し、その説明は省略する場合がある。図19において、図9と異なる部分は工程1のCSP部品実装工程(S20)及び工程2の洗浄工程(S21)である。以下、工程1のCSP部品実装工程(S20)及び工程2の洗浄工程(S21)のみについて説明する。
図19に示す工程1はCSP部品実装工程である(S20)。工程1は、プロセスルームで行われる。工程1では、始めに集合基板11のCSPパッケージのFET36及びIC37が実装されている側の面を所定のはんだマスクで覆う。所定のはんだマスクは、FET36及びIC37の端子36a及び37aに対応する部分の配線パターン12a(パッド)のみを露出するように作製されている。次いで所定のはんだマスクから露出する部分にクリームはんだ18を印刷する。これにより、端子36a及び37aに対応するパッド部分にクリームはんだ18が印刷される。
図19に示す工程2は洗浄工程である(S21)。工程2は、プロセスルームで行われる。工程2は、工程1において集合基板11に付着したフラックス残渣等の付着物を除去する工程である。工程2により、後の工程における樹脂封止の密着性向上等を図ることができる。
又、CSPパッケージのFETやICを用いることにより、ボンディングワイヤを接続するスペースが不要となるため、回路モジュールを小型化することができる。
11 集合基板
11a 基板
12 配線パターン
13 スルーホール
14 ソルダレジスト
15 固着剤
16 FETベアチップ
16a,17a ボンディングワイヤ
17 ICベアチップ
18 クリームはんだ
19 電子部品
20 封止樹脂
36 FET
36a,37a 端子
37 IC
50 クランプ治具
60 はんだマスク
D 分割位置
Claims (6)
- 所定の領域に配線パターンが形成されている基板上に半導体部品が搭載され、前記半導体部品が封止剤で封止されている回路モジュールの製造方法であって、
前記基板上に前記半導体部品を配置する第1工程と、
前記半導体部品を前記配線パターンと電気的に接続する第2工程と、
前記半導体部品を前記封止剤で封止する第3工程と、
前記基板上の前記封止剤で封止されていない領域に、電子部品を実装する第4工程と、を有することを特徴とする回路モジュールの製造方法。 - 前記第4工程は、前記封止剤で封止された領域を逃げる断面視凸部を有するはんだマスクを前記基板上に配置する工程と、前記はんだマスクを介して前記配線パターン上にはんだを印刷する工程とを含むことを特徴とする請求項1記載の回路モジュールの製造方法。
- 前記半導体部品はベアチップであり、前記第2工程は、前記ベアチップの電極パッドを前記配線パターンにワイヤボンディングする工程であることを特徴とする請求項1又は2記載の回路モジュールの製造方法。
- ワイヤボンディングする前に、クランプ治具が、前記ベアチップが配置される領域を含まず、前記第4工程で前記電子部品が実装される領域を含む領域をクランプすることを特徴とする請求項3記載の回路モジュールの製造方法。
- 前記第1工程から前記第3工程は、クリーンルームにおいて行われることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項記載の回路モジュールの製造方法。
- 前記半導体部品はCSPパッケージであり、前記第2工程は、前記CSPパッケージの端子を前記配線パターンにはんだ付けする工程であることを特徴とする請求項1又は2記載の回路モジュールの製造方法。
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