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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011118296A1 (ja) * 2010-03-24 2011-09-29 日本電気株式会社 磁気力型駆動装置、光走査装置、及び画像表示装置
US8975106B2 (en) * 2010-07-09 2015-03-10 Chien-Hung Liu Chip package and method for forming the same
JP5640687B2 (ja) * 2010-11-16 2014-12-17 セイコーエプソン株式会社 アクチュエーター、アクチュエーターの製造方法、光スキャナーおよび画像形成装置
JP5842356B2 (ja) * 2011-03-24 2016-01-13 セイコーエプソン株式会社 アクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置
JP2012220641A (ja) 2011-04-06 2012-11-12 Seiko Epson Corp アクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置
JP5909862B2 (ja) * 2011-04-06 2016-04-27 セイコーエプソン株式会社 アクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置
JP5842369B2 (ja) 2011-04-11 2016-01-13 セイコーエプソン株式会社 アクチュエーターの製造方法、光スキャナーの製造方法および画像形成装置の製造方法、アクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置
JP5909914B2 (ja) 2011-08-05 2016-04-27 セイコーエプソン株式会社 アクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置
JP6003025B2 (ja) * 2011-08-25 2016-10-05 セイコーエプソン株式会社 アクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置
JP6036341B2 (ja) * 2013-01-29 2016-11-30 セイコーエプソン株式会社 光学モジュール、及び電子機器
JP5842837B2 (ja) * 2013-01-30 2016-01-13 セイコーエプソン株式会社 アクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置
JP2014183707A (ja) * 2013-03-21 2014-09-29 Kyocera Corp 圧電部品、光源装置および印刷装置
JP6457653B2 (ja) * 2015-03-17 2019-01-23 ハンズ レーザー テクノロジー インダストリー グループ カンパニー リミテッド レーザスキャン装置及びレーザスキャンシステム
JP6668126B2 (ja) * 2016-03-18 2020-03-18 株式会社豊田中央研究所 Ｍｅｍｓ装置
EP3531336A4 (en) * 2017-12-05 2020-02-26 Shenzhen Weitongbo Technology Co., Ltd. OPTICAL PATH MODULATOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, FINGERPRINT RECOGNITION DEVICE, AND TERMINAL DEVICE
CN110703429B (zh) * 2019-09-04 2022-08-09 深圳市镭神智能系统有限公司 扫描振镜及激光雷达

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3962052A (en) * 1975-04-14 1976-06-08 International Business Machines Corporation Process for forming apertures in silicon bodies
US5066358A (en) * 1988-10-27 1991-11-19 Board Of Trustees Of The Leland Stanford Juninor University Nitride cantilevers with single crystal silicon tips
JPH0792409A (ja) * 1993-09-27 1995-04-07 Canon Inc 光スキャナー
US5629244A (en) * 1994-04-28 1997-05-13 Nec Corporation Fabrication method of semiconductor accelerometer
US6201629B1 (en) * 1997-08-27 2001-03-13 Microoptical Corporation Torsional micro-mechanical mirror system
DE19803186C1 (de) * 1998-01-28 1999-06-17 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Herstellung strukturierter Wafer
US6181460B1 (en) * 1998-11-18 2001-01-30 Trw Inc. Electromagnetic force controlled micromirror array
US6444138B1 (en) * 1999-06-16 2002-09-03 James E. Moon Method of fabricating microelectromechanical and microfluidic devices
US6803843B2 (en) * 2001-02-22 2004-10-12 Canon Kabushiki Kaisha Movable-body apparatus, optical deflector, and method of fabricating the same
US6831765B2 (en) * 2001-02-22 2004-12-14 Canon Kabushiki Kaisha Tiltable-body apparatus, and method of fabricating the same
JP2002321198A (ja) 2001-02-22 2002-11-05 Canon Inc マイクロ構造体、マイクロ力学量センサ、マイクロアクチュエータ、マイクロ光偏向器、光走査型ディスプレイ、及びそれらの製造方法
JP4124986B2 (ja) * 2001-02-22 2008-07-23 キヤノン株式会社 マイクロ構造体、マイクロ力学量センサ、マイクロアクチュエータ、マイクロ光偏向器、及び光走査型ディスプレイ
JP3740444B2 (ja) * 2001-07-11 2006-02-01 キヤノン株式会社 光偏向器、それを用いた光学機器、ねじれ揺動体
JP4932103B2 (ja) 2001-09-18 2012-05-16 オリンパス株式会社 ガルバノミラー
US7130098B2 (en) * 2002-01-24 2006-10-31 Rosemount Aerospace Inc. Silicon wafer based macroscopic mirror for wide angle scanning applications
US7105097B2 (en) * 2002-01-31 2006-09-12 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Substrate and method of forming substrate for fluid ejection device
US6972883B2 (en) * 2002-02-15 2005-12-06 Ricoh Company, Ltd. Vibration mirror, optical scanning device, and image forming using the same, method for making the same, and method for scanning image
JP2003266391A (ja) * 2002-03-19 2003-09-24 Japan Aviation Electronics Industry Ltd 静電駆動デバイス
JP4285725B2 (ja) 2002-07-04 2009-06-24 株式会社リコー 光走査装置
JP3919616B2 (ja) * 2002-07-05 2007-05-30 キヤノン株式会社 マイクロ構造体及びその製造方法
JP3862623B2 (ja) * 2002-07-05 2006-12-27 キヤノン株式会社 光偏向器及びその製造方法
US20040004775A1 (en) * 2002-07-08 2004-01-08 Turner Arthur Monroe Resonant scanning mirror with inertially coupled activation
US7446911B2 (en) 2002-11-26 2008-11-04 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Optical scanning apparatus and image forming apparatus
JP3956933B2 (ja) * 2002-11-26 2007-08-08 ブラザー工業株式会社 光走査装置および画像形成装置
JP2004198798A (ja) * 2002-12-19 2004-07-15 Canon Inc 揺動体
US7002719B2 (en) * 2003-01-15 2006-02-21 Lucent Technologies Inc. Mirror for an integrated device
US6906848B2 (en) * 2003-02-24 2005-06-14 Exajoule, Llc Micromirror systems with concealed multi-piece hinge structures
JP4471271B2 (ja) 2004-04-12 2010-06-02 株式会社リコー 偏向ミラー
US7529011B2 (en) * 2004-04-12 2009-05-05 Ricoh Company, Ltd. Deflector mirror with regions of different flexural rigidity
CN101156102A (zh) * 2005-02-14 2008-04-02 德州仪器公司 共振扫描反射镜的偏转控制
WO2006109687A1 (ja) * 2005-04-11 2006-10-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 微小機械構造体
JP2007152497A (ja) 2005-12-05 2007-06-21 Canon Inc 揺動体装置
US20070152497A1 (en) * 2006-01-04 2007-07-05 Yen-Jiun Lin Wheel frame
US7751113B2 (en) * 2006-01-23 2010-07-06 Texas Instruments Incorporated Micromirrors having mirror plates with tapered edges
JP2007310274A (ja) * 2006-05-22 2007-11-29 Tohoku Univ マイクロミラーデバイス及びマイクロミラーデバイスを使用した装置
US7586669B2 (en) * 2006-10-27 2009-09-08 Spatial Photonics, Inc. Non-contact micro mirrors
US20090002797A1 (en) * 2007-06-27 2009-01-01 Wah Yiu Kwong Multi-directional camera for a mobile device

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