JP2010079243A - 光偏向器及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】反射面と側面を備える可動板と、所定の軸の周りに可動板を回動可能に支持する支持部とを有し、可動板の側面が軸に向かって窪んでいる。
【選択図】図2
Description
これにより、前記可動板及び前記支持部を形成する工程における異方性エッチングによって基板に生じた結晶面の稜線部に丸みを付けることができるので、稜線部への応力集中を緩和することができる。特に、可動板と支持部の連結部位への応力集中による破損を防止することができる。
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態に係る光偏向器の構成を示す平面図である。図2は、図1のII−II線における断面図である。
図3に示すように、本実施形態では、可動板11の側面14が、回転軸X側に窪んでいる。具体的には、主面が(100)面のSiウェハを用いて可動板11を形成した場合には、可動板11の側面14は、Siの(111)面で構成される。Siの(111)面と主面とのなす角度θは、54.73°である。
b≧2c (1)
(a/2)/c=tan54.73 (2)
a/b≦1.4 (3)
を固定する。
図20に示すように、基板10にKOHを用いたウェットエッチングを施すと、基板10の両面からエッチングが進行し始める。ウェットエッチングを用いた場合には、例えば、開口パターンP1,P2に露出した基板10の部位は、テーパー状にエッチングされる。
基板10のウェットエッチングにおいて、可動板11に対応する部分と、弾性支持部13に対応する部分の連結部は角部を有しており、この角部のエッチングが、他の領域におけるエッチングに比べて速く進行する場合がある。第2実施形態は、この角部における過剰なエッチングを防止することを企図したものである。
本実施形態に係る光偏向器1の応用例として、投射型の表示装置を説明する。図30は、投射型の表示装置の概略構成を示す図である。図30に示す光走査装置は、水平走査ミラーとして図1に示す光偏向器1を用いている。
図31(A)は、第4実施形態による光偏向器1の概略構成を示す上面図、図31(B)は、図31(A)のB−B断面図である。ただし、図31(B)は、光偏向器1の支持枠12、及び弾性支持部17のみを示している。図に示すように、本実施形態では、各々の弾性支持部17は2本の棒17aで形成されている。棒17aは断面が平行四辺形であり、上面側に向かうに従って2本の棒17aの間隔が広がるように配置されている。また、ここでは図中θ=54.73°である。
例えば、可動板11は円形以外の多角形でもよい。また、本実施形態では、1次元1自由度で駆動するタイプの可動板11を例示したが、2次元に駆動するタイプの可動板11であってもよく、また、1次元2自由度で駆動するタイプの可動板11であってもよい。2次元に駆動するタイプの振動ミラーを用いた場合には、垂直ミラー104は不要である。
また、光偏向器1は、表示装置以外にもレーザプリンタ等に適用可能である。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
Claims (9)
- 反射面と側面を備える可動板と、
所定の軸の周りに前記可動板を回動可能に支持する支持部と、を有し、
前記可動板の前記側面が、前記軸に向かって窪んでいる、光偏向器。 - 前記可動板の前記側面に、所定の結晶面が現われている、
請求項1記載の光偏向器。 - 前記可動板の前記側面は、前記支持部との連結部を有しており、前記連結部付近の角部は、前記軸に向かって窪んでいる部分に形成された凸部を有する、請求項1記載の光偏向器。
- 前記可動板の前記側面は、前記支持部との連結部を有しており、前記連結部付近の角部は、前記軸に垂直な方向に窪んでいる部分に形成された凸部を有する、請求項1記載の光偏向器。
- 前記可動板の厚さをaとし、前記可動板の反射面の外形寸法をbとした場合に、a/bが0.01以上1.4以下である、請求項1記載の光偏向器。
- 基板の両面に所定のパターンをもつマスクを形成する工程と、
前記マスクを用いて前記基板を両面からエッチングして、可動板、及び前記可動板を両側から支持する支持部を形成する工程と、を有し、
前記可動板及び前記支持部を形成する工程において、ウェットエッチングを用いて前記基板をオーバーエッチングすることにより、少なくとも前記可動板となる部位における前記基板の側面を窪ませる、光偏向器の製造方法。 - 前記基板の両面に所定のパターンをもつマスクを形成する工程において、前記可動板に対応する第1マスクパターンと、前記支持部に対応する第2マスクパターンと、前記可動板と前記支持部との連結部の断面積が他の部位に比べて小さくなることを防止するための補正マスクパターンとを有するマスクを形成する、請求項6記載の光偏向器の製造方法。
- 前記基板の両面に所定のパターンをもつマスクを形成する工程において、前記可動板に対応する第1マスクパターンと、前記支持部に対応する第2マスクパターンと、前記可動板と前記支持部との連結部に対応し、かつ前記第2マスクパターンより幅の広い補正マスクパターンとを有するマスクを形成する、請求項6記載の光偏向器の製造方法。
- 前記可動板及び前記支持部を形成する工程の後に、前記基板に等方性エッチングを施すことにより、前記基板の所定の結晶面の稜線部に丸みをつける工程を有することを特徴とする請求項6から請求項8のいずれかに記載の光偏向器の製造方法。
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