JP2010016188A - 半導体装置の製造方法および半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】初期の厚み(第1の厚み)を有する半導体基板の、素子形成部のみを第2の厚みまで薄化し、その裏面に金属層を形成した後、初期の半導体基板の厚み(第1の厚み)を残した初期周辺部を裏面側から第3の厚みになるまで研削し、素子形成部との段差が少ない周辺部を形成する。これにより、厚い周辺部を切り落とすための新たなダイシング装置を導入することなく、従来のダイシング装置で素子形成部と周辺部を切り離すことができる。
【選択図】 図1
Description
1W 半導体ウエハ
2 チャネル領域
3 トレンチ
4 絶縁膜
5 ゲート電極
6 エミッタ領域
8 ガードリング
10 p型半導体層
11 エミッタ電極
13 パッシベーション膜
15 金属層
20 半導体チップ
30 ダイシングライン
50 遮蔽板
51 ステージ
52 治具(クランプ)
D1 第1の厚み
D2 第2の厚み
D3 第3の厚み
D4 第4の厚み
CH コンタクトホール
E 素子形成部
IP 初期周辺部
P 周辺部
T1、T2、T3、T4 面取り部
S1、Sf1 第1主面
S2、Sf2 第2主面
S2’ 研削後の第2主面
S3 第3主面
Claims (8)
- 第1主面および該第1主面と対向する第2主面を有する第1の厚みの半導体基板を準備し、前記第1主面の素子形成部にダイシングラインに沿って配列する複数の半導体チップを形成する工程と、
前記素子形成部を前記第2主面側から第2の厚みまで研削すると共に前記素子形成部の外周に前記第1の厚みを維持する初期周辺部を残存させる工程と、
研削後の第2主面に金属層を形成する工程と、
前記初期周辺部を前記第2主面側から前記金属層表面に達しない第3の厚みになるまで研削し、前記第1主面と対向し前記半導体基板が露出する第3主面を有し、前記素子形成部の外側を囲む周辺部を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記ダイシングラインに沿ってダイシングし前記半導体チップを個々に分割することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記金属層の表面と前記第3主面との差が5μm〜10μmとなるように前記初期周辺部を研削することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の厚みは、100μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第3主面および前記金属層表面にダイシングテープを張り付けた後、前記ダイシングを行うことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- ダイシングラインに沿って複数の半導体チップが配列する素子形成部と、該素子形成部の外側を囲む周辺部とを有する半導体装置であって、
前記素子形成部は前記半導体チップが形成された第1主面と、該第1主面と対向する第2主面を有し、
前記周辺部は前記第1主面と対向し半導体基板が露出する第3主面とを有し、
前記周辺部の厚みは前記素子形成部の厚みより大きく、前記第2主面は該第2主面と前記第3主面との距離より小さい膜厚の金属層で覆われ、
前記周辺部の端部の前記第1主面側には面取り部が設けられることを特徴とする半導体装置。 - 前記前記金属層の表面と前記第3主面との差が5μm〜10μmであることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
- 前記素子形成部の厚みは100μm以下であることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
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