JP2009502713A - 表面が改質された無機材料及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、表面が改質された無機材料及びその製造方法に係り、より詳細には、無機材料、特に固体シリカまたはITOガラスに、アリルまたはアリル誘導体を有する有機シラン化合物を酸と有機溶媒下で反応させることで、常温でも有機基が導入されて表面が改質された無機材料及びその製造方法を提供する。
【選択図】なし
Description
反応式2において常温で30分間撹拌して反応させた以外は、実施例1と同様にして行った。その結果を表1に示す。
反応式2において常温で1時間撹拌して反応させた以外は、実施例1と同様にして行った。その結果を表1に示す。
3−クロロプロピル−トリメタリル−シランを用い、5mol%のSc(OTf)3の代わりに酸触媒として40mol%のHCl(183mg)を2mlのエタノール溶媒下で反応させた。その結果を表4に示す。一方、反応時間は下記表1のとおりである。
3−クロロプロピル−トリメタリル−シランの代わりに3−クロロプロピル−トリアリル−シランを用いた以外は、前記実施例8〜10と同様にして行った。その結果を下記表1に示す。一方、反応時間は下記表1のとおりである。
水分を除去した反応容器にイリジウム触媒(chloro−1,5−cyclooctadiene iridium(I)dimer)30mgを入れた後、窒素を満たした。ここに塩化アリル9.2g(120mmol)を加え、1,5−シクロオクタジエンを約30μl添加した後、クロロジメチル−シラン11g(120mmol)を徐々に加え、40℃で6時間撹拌した。反応が終わった後、分留して15g(72%収率)の純粋な3−クロロプロピル−クロロジメチル−シラン(1)を得た。
前記で合成した3−クロロプロピル−クロロジメチル−シラン(1)(8g、83.7mmol)をTHF10mLに溶かし、1.0Mメタリル塩化マグネシウム(167mmol、180mL)を0℃で徐々に加えた後、2時間撹拌した。反応が終わると、NH4Cl水溶液とエーテルを用いて有機層を抽出し、それを飽和NaClで洗浄した。無水MgSO4を用いて水を除去した後、セリット(celite)に通させてMgSO4をろ過し、カラム・クロマトグラフィー(n−Hex:EA=10:1、Rf=0.69)で精製して14.8g(89%収率)の純粋な3−クロロプロピル−ジメチルメタリル−シラン(2)を得た。
反応式7のように、水分を除去した反応容器にイリジウム触媒(chloro−1,5−cyclooctadiene iridium(I)dimer)30mgを入れた後、窒素を満たした。ここに塩化アリル9.2g(120mmol)を加え、1,5−シクロオクタジエンを約30μl添加した後、ジクロロメチル−シラン14g(120mmol)を徐々に加えた後、40℃で6時間撹拌した。反応が終わった後分留して17g(68%収率)の純粋な3−クロロプロピル−ジクロロメチル−シラン(3)を得た。
前記で合成した3−クロロプロピル−ジクロロメチル−シラン(3)(9g、80.8mmol)をTHF10mLに溶かし、1.0Mメタリル塩化マグネシウム(323mmol、330mL)を0℃で徐々に加えた後、2時間撹拌した。反応が終わると、NH4Cl水溶液とエーテルを用いて有機層を抽出し、それを飽和NaClで洗浄した。無水MgSO4を用いて水を除去した後、セリット(celite)に通させてMgSO4をろ過し、カラム・クロマトグラフィー(n−Hex:EA=10:1、Rf=0.70)で精製して17.5g(91%収率)の純粋な3−クロロプロピル−メチルジメタリル−シラン(4)を得た。
In(OTf)3を触媒としてアセトニトリル溶媒下で1時間反応させた後、元素分析を通じてSc(OTf)3触媒と比較した。その結果、3mol%のSc(OTf)3を触媒としたとき、 炭素の重量比(%)は9.2179(%)、水素の重量比(%)は1.7805(%)を示した。炭素の重量比に対して、シリカに付いた有機物の比率(the rate of organic substance loading onto the silica)を次のとおりに計算した。先ず、0.092179gを炭素の分子量(12g/mol)で割った後、固定化された炭素の個数である4で割る。その結果、固体シリカ1g当たり1.92mmolの出発物質が反応して固体シリカ表面に結合されたことがわかる。同様に3mol%のIn(OTf)3を用いた実験においても同じ方法で計算した結果、1.07mmol/gのloading rateが確認された。3種のメタリル−シラン誘導体を同じ方法で反応させた結果を下記表5に示す。全体的にSc(OTf)3のほうがIn(OTf)3よりも高い触媒活性を示した。
様々な有機基を固体シリカに導入するために次のように各種の官能基を有するトリメタリル−シラン誘導体を合成した。
塩化メチレンにSnCl4を溶かした後、ペンタ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシド(2000mg、5.12mmol)を加えた。窒素ガスを満たして10分間撹拌した後、プロパルギルアルコール(Propargyl Alcohol)(430.5mg、7.68mmol)を加え、常温で4時間さらに撹拌した。反応が終わると、5%のNaHCO3で中和し、蒸溜水と酢酸エチルを用いて有機層を分離した。この分離工程を3回繰り返して得た有機層を飽和NaCl水溶液で洗浄した。無水MgSO4を用いて水を除去し、セリットに通させてMgSO4をろ過した後、カラム・クロマトグラフィー(EA :n−Hex=1:1、Rf=0.58)で精製して(2−プロピニル)−2,3,4,6−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシド(5)を1500mg(78%収率)得た。
前記で合成した(5)(1500mg、3.88mmol)と3−アジドプロピル−トリメタリル−シラン(2150mg、7.76mmol)を順次に入れ、THFと水の混合溶液(THF:H2O=1:1)40mLを加え、CuSO4・5H2O(82.60mg、0.33mmol)とアスコルビン酸ナトリウム(Na ascorbate)(128mg、0.65mmol)を入れた。窒素ガスを満たした後、常温で12時間撹拌した。反応が終わると、ヘキサンを用いて有機層を数回抽出し、得られた有機層を飽和NaCl水溶液で洗浄した。無水MgSO4を用いて水を除去した後、セリットを通過させてMgSO4をろ過した後、カラム・クロマトグラフィー(EA:n−Hex=1:1、Rf=0.78)で精製して1300mg(51%収率)の純粋な(6)を得た。
前記で合成した(6)(1000mg、1.5mmol)にNaOMe(810mg、15mmol)とメタノールを入れて2時間撹拌した。反応後、DOWEXを入れて約30分さらに撹拌し、この混合物をセリットに通過させた後、カラム・クロマトグラフィー(MeOH:CHCl3=1:7、Rf=0.31)で精製して312mg(42%収率)の純粋なガラクトース−トリメタリル−シラン(7)を得た。
前記実施例62の反応式19と同様にして合成した3−ブロモプロピル−トリメタリル−シラン(5000mg、15.85mmol)にヨウ化カリウム(potassium iodide)(1300mg、7.93mmol)を加えた後、DMF20mlを入れ、温度を常温から100℃まで上げて1時間撹拌した。その後、イソシアン酸カリウム(potassium isocyanate)(2572mg、31.7mmol)を反応容器に加え、1時間さらに撹拌した。反応が終わった後ヘキサンを用いて沈殿物をろ過すると、3−イソシアネートイソシアネートプロピル(isocyanate propyl)−トリメタリル(trimethallyl)−シラン(silane)(8)を得るが、これは水分に敏感なので、別途の分離過程を経ずに次の反応を行った。
前記で合成した(8)(2600mg、9.37mmol)とベンジルアミン(2008mg、18.74mmol)を順次に入れ、DMF7mlを加えた後、常温で12時間撹拌する。反応が終わると、エーテルを用いて有機層を数回抽出した後、飽和NaCl水溶液で洗浄した。無水MgSO4を用いて水を除去した後、セリットに通させてMgSO4をろ過した後、カラム・クロマトグラフィー(CHCl3:MeOH=10:1、Rf=0.46)で精製して1704mg(68%収率)の純粋な(9)を得た。
5ml V−vial容器で、1.2g(5mmol)の3−アミノプロピル−トリメタリルシラン、1gの非晶質(amorphous)シリカ及び125mg(0.25mmol)のSc(OTf)3を3mlのアセトニトリルに溶解させた後、栓を塞いで常温で1時間撹拌した。反応後、シリカ固体をセルロースシンブル(cellulose thimble)に入れ、ソックスレー抽出器を用いてエタノール溶媒下で24時間固体−液体を抽出して残存反応物を除去し、残りの固体を真空乾燥させた後、それを元素分析(炭素、窒素、水素)を通じて確認した。その結果、炭素の重量比(%)は4.5754(%)、窒素の重量比(%)は0.6899(%)、水素の重量比(%)は1.4243(%)を示した。炭素の重量比に対する、シリカに付いた有機物の比率(the rate of organic substance loading onto the silica)を次のとおりに計算した。先ず、0.045754gを炭素の分子量(12g/mol)で割った後、固定化された炭素の個数である7で割ると、その結果から、非晶質シリカ1g当たり0.54mmolの出発物質が反応して固体シリカ表面に結合されたことがわかる。窒素に対して同じ方法で計算し、0.006899gを窒素の分子量で割ると、その結果から、0.50mmolの出発物質が反応して固体シリカ表面に結合されたことがわかる。それをloading rateで表示した(窒素に対して同じ方法で計算すると、loading rateが0.50mmol/gを示し、前記炭素を基準に計算したものと同じ結果を示した)。また、他の例として3−アセトキシプロピル−トリメタリル−シランを同じ方法で実験し、元素分析を行った結果、炭素の重量比(%)は9.9240%、水素の重量比(%)は1.7223(%)を示した。それを炭素に対して同じ方法で計算し、0.099240gを炭素の分子量(12g/mol)で割り、シリカ表面に固定化された炭素の個数9で割ると、その結果から、0.92mmol/gのloading rateでシリカ表面に結合されたことがわかる。同じ反応条件下で様々に置換された実施例55〜65の化合物を出発物質として上記の方法と同様に反応させて得たloading rateを、下記表6に示す。
ダブシルクロライド(Dabsyl chloride)(653mg、2mmol)をアセトニトリル9mLに溶かしてトリエチルアミン0.19mLとプロパルギルアミン70μlを加えた後常温で12時間撹拌した。NaHCO3で中和して塩化メチレンと蒸溜水を用いて有機層を分離した後、カラム・クロマトグラフィー(EA:n−Hex=1:1、Rf=0.5)で精製して610mg(89%収率)の純粋な(10)を得た。
前記で合成した(10)(900mg、2.31mmol)と3−アジドプロピル−トリメタリル−シラン(533.6mg、2.54mmol)にCuSO4・5H2O(29mg、0.116mmol)とアスコルビン酸ナトリウム(Na ascorbate)(45.8mg、0.231mmol)を入れ、THFと水の混合溶液(THF:H2O=1:1)2mLを加えた後、常温で12時間撹拌した。反応後、蒸溜水とエーテルを用いて有機層を分離した後、カラム・クロマトグラフィー(n−Hex:EA=1:1、Rf=0.30)で精製して1000mg(74%収率)の純粋な生成物(11)を得た。
プロピオル酸(2.5g、0.022mol)とN−ヒドロキシコハク酸イミド(hydroxysuccinimide)(1.55g、0.022mol)をジメトキシエタン30mLに溶かした。DCC(1.3−Dicyclohexyl carbodiimide、4.99g、0.024mol)も同様にジメトキシエタン25mLに溶かし、プロピオル酸とN−ヒドロキシコハク酸イミドの混合溶液に徐々に加え、18時間撹拌した。反応が終わった後、蒸溜器を用いて溶媒を除去し、フィルターを介してジシクロヘキシル尿素(dicyclohexyl urea)を除去すると、オイル状の生成物(12)が得られた。これは不安定なものなので、カラム・クロマトグラフィーによる精製が容易でないため、分離せずに後続反応(subsequent reaction)を行った。
前記で合成したオイル状の生成物(12)(1.0g、5.99mmol)と3−アジドプロピル−卜リクロロシラン(1.07g、3.86mmol)にCuSO4・5H2O(98.2mg、0.193mmol)とアスコルビン酸ナトリウム(119mg、0.599mmol)を入れ、THFと水の混合溶液(THF:H2O=1:1)20mLを加えた後、12時間常温で撹拌した。反応後、水とエーテルを用いて有機物質を抽出し、カラム・クロマトグラフィー(n−Hex:EA=1:1、Rf=0.35)で精製してN−ヒドロキシスクシンイミジル・プロピル・トリメタリル・シラン(hydroxysuccinimidyl propyl trimethallyl silane)(13)を得た。
<実施例81>
<実施例84>
電子センサーや半導体などに主に用いられるITO(indium tin oxide)ガラスに前記で合成した様々なメタリル−シラン誘導体を共有結合させるためには、ITO表面に−OH基を付加する活性化段階を以下の方法で行う必要がある。H2SO4とH2O2を3:1の割合で徐々に加えて得られたピラニア溶液(piranha solution)にITOガラスを約30分間浸漬してから、エタノールと蒸溜水できれいに洗浄し、ITOガラス表面にヒドロキシル基(−OH)を付加する。このような前処理すると、表面のヒドロキシル基(水酸基)のためにガラス表面が親水性を帯びる。図11に示すように、この表面に水滴を落とし、ガラス表面と水滴との間の接触角(contact angle)を測定すると、58.1゜を示した。かくして得られたITOガラスの表面に下記反応式32のようにドデシルジメチルメタリル−シラン誘導体を反応させた。
オメガ−ウンデセニルアルコール(omega−undecenyl alcohol)(10g、58.7mmol)にピリジン(0.08mL、2.53mmol)を加え、SOCl2(4.7mL)を約5分25℃で徐々に加えた後、65℃で5時間還流させた。それを塩化メチレンと水を用いて抽出した後、蒸溜して11g(98%収率)の純粋なオメガ−ウンデセニルクロライド(omega−undecenyl chloride)(17)を得た。
前記卜リクロロシラン(5.35mL、53mmol)を加え、温度を常温から90℃まで上げた後、過安息香酸tert−ブチル(t−butyl perbenzoate)とオメガ−ウンデセニルクロライド(omega−undecenyl chloride)(16g、26.5mmol)の混合物を徐々に加えた後、12時間還流させた。その後、反応混合物を蒸溜して1.5g(90%収率)の純粋な11−クロロウンデセニル−卜リクロロ−シラン(18)を得た。
前記11−クロロウンデセニル−卜リクロロ−シラン(18)(9.5g、104.9mmol)とメタリル−塩化マグネシウムを0℃で反応させた後、温度を常温まで上げて2時間さらに撹拌した。飽和NH4Cl水溶液とエーテルを用いて有機層を抽出した後、カラム・クロマトグラフィー(n−Hex:EA=20:1、Rf=0.74)で精製して4.3g(92%収率)の純粋な11−クロロウンデセニル−トリメタリル−シラン(19)を得た。
前記11−クロロウンデセニル−トリメタリル−シラン(19)(1000mg、2.61mmol)とアジ化ナトリウム(340mg、5.22mmol)にジメチルホルムアミド(DMF)を加え、窒素ガスを満たした後、2時間還流させた。反応が終わると、蒸溜水とエーテルを用いてジメチルホルムアミド(DMF)を除去し、有機層を抽出した。無水MgSO4で有機層から水を除去した後、セリットに通させてろ過し、溶媒を除去した後、カラム・クロマトグラフィーで(n−Hex:EA=10:1、Rf=0.6)で精製して905mg(89%収率)の純粋な11−アジドウンデセニル−トリメタリル−シラン(20)を得た。
前記1−アジドウンデセニル(azidoundecyl)−トリメタリルシラン(20)(900mg、2.31mmol)とエチニルフェロセン(ethynyl ferrocene)(533.6mg、2.54mmol)にTHFと水の混合溶液(THF:H2O=1:1)2mLを加えた後、CuSO45H2O(29mg、0.116mmol)とアスコルビン酸ナトリウム(Na ascorbate)(45.8mg、0.231mmol)を入れ、常温で12時間撹拌した。反応後、蒸溜水とエーテルを用いて有機層を抽出した後、カラム・クロマトグラフィー(n−Hex:EA=1:1、Rf=0.5)で精製して1360mg(98%収率)の純粋なフェロセン誘導体(21)を得た。
Claims (21)
- 無機材料に、下記化学式1で表されるアリルまたはアリル誘導体を有する有機シラン化合物を酸と有機溶媒下で反応させて前記無機材料の表面を改質することを特徴とする表面が改質された無機材料。
- 前記反応は、0℃乃至60℃で行われることを特徴とする請求項1に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記反応は、10℃乃至30℃で行われることを特徴とする請求項2に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記無機材料は、固体シリカまたはITOガラスであることを特徴とする請求項1に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記固体シリカは、非晶質シリカ、多孔性シリカまたはゼオライトであることを特徴とする請求項4に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記酸は、HCl、H2SO4、HNO3、CH3C6H4SO3・H2O、Sc(OTf)3、In(OTf)3、Yb(OTf)3及びCu(OTf)2よりなる群から選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする請求項1に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記酸は、Sc(OTf)3であることを特徴とする請求項6に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記有機溶媒は、アルコール、トルエン、ベンゼン、ジメチルホルムアミド(DMF)及びアセトニトリルよりなる群から選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする請求項1に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記R6のアルキル基は、プロピル基であることを特徴とする請求項1に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記R6に有機基を導入することを特徴とする請求項1に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記有機基は、機能性有機化合物、有機金属化合物、アミノ酸、タンパク質、キラル化合物及び天然化合物よりなる群から選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする請求項10に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記有機基は、前記無機材料と前記化学式1で表されるアリルまたはアリル誘導体を有する有機シラン化合物との反応前または反応後に前記有機シラン化合物のR6に導入されることを特徴とする請求項10または11に記載の表面が改質された無機材料。
- 前記化学式1で表されるアリルまたはアリル誘導体を有する有機シラン化合物は、メタリルシラン化合物であることを特徴とする請求項1に記載の表面が改質された無機材料。
- 無機材料の表面を改質する方法において、
1)下記化学式1で表されるアリルまたはアリル誘導体を有する有機シラン化合物を精製する段階、及び2)無機材料に前記精製された有機シラン化合物、酸及び有機溶媒を混合する段階を含むことを特徴とする無機材料の表面改質方法。
- 前記無機材料は、固体シリカまたはITOガラスであることを特徴とする請求項14に記載の無機材料の表面改質方法。
- 前記1)段階の精製段階は、カラム・クロマトグラフィーで行われることを特徴とする請求項14に記載の無機材料の表面改質方法。
- 前記2)段階は、10℃乃至30℃で行われることを特徴とする請求項14に記載の無機材料の表面改質方法。
- 前記酸は、HCl、H2SO4、HNO3、CH3C6H4SO3・H2O、Sc(OTf)3、In(OTf)3、Yb(OTf)3及びCu(OTf)2よりなる群から選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする請求項14に記載の無機材料の表面改質方法。
- 前記2)段階後、5分〜5時間撹拌する段階をさらに含むことを特徴とする請求項14に記載の無機材料の表面改質方法。
- 前記1)段階前または2)段階後、前記R6に有機基を導入する段階をさらに含むことを特徴とする請求項14に記載の無機材料の表面改質方法。
- 前記有機基は、機能性有機化合物、金属有機化合物、アミノ酸、タンパク質、キラル化合物及び天然化合物よりなる群から選ばれるいずれか1種以上であることを特徴とする請求項20に記載の無機材料の表面改質方法。
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Cited By (2)
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WO2013002346A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | 共栄社化学株式会社 | (メタ)アリルシラン化合物、そのシランカップリング剤、およびそれを用いた機能材料 |
WO2013002347A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | 共栄社化学株式会社 | (メタ)アリルシラン化合物、そのシランカップリング剤、およびそれを用いた機能材料 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101173042B (zh) * | 2007-10-25 | 2010-08-11 | 上海交通大学 | 具有均匀、可调直径的手性介孔有机高分子材料及其制备方法 |
FR2943262B1 (fr) * | 2009-03-18 | 2011-04-22 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fonctionnalisation de surface par des alcynes disubstitues |
JP6221070B2 (ja) * | 2012-06-26 | 2017-11-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000502952A (ja) * | 1996-01-11 | 2000-03-14 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 吸着材と吸着材を調整する方法 |
JP2004097971A (ja) * | 2002-09-10 | 2004-04-02 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 不斉固体触媒 |
JP2004175793A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-24 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 有機修飾基の無機系固体への結合方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU621245B2 (en) * | 1989-10-17 | 1992-03-05 | Boehringer Mannheim Gmbh | Hydrolase substrates, a process for the preparation thereof and agents containing them |
KR0139018B1 (ko) * | 1994-06-25 | 1998-05-01 | 김은영 | 비스(실릴프로필)아렌 및 그들의 제조방법 |
KR0178954B1 (ko) * | 1994-08-29 | 1999-05-15 | 이동호 | 개질실리카 담지 중합촉매 및 그 제조방법 |
US6383559B1 (en) * | 1995-12-07 | 2002-05-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and display device having the same |
EP1035218A1 (en) * | 1999-03-03 | 2000-09-13 | BioChip Technologies GmbH | Immobilization of molecules on surfaces via polymer brushes |
JP2004168846A (ja) * | 2002-11-19 | 2004-06-17 | Asahi Glass Co Ltd | 複合微粒子およびその製造方法 |
JP4544411B2 (ja) * | 2004-09-24 | 2010-09-15 | 株式会社豊田中央研究所 | 有機シリカ複合材料の製造方法 |
-
2006
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-
2012
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000502952A (ja) * | 1996-01-11 | 2000-03-14 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 吸着材と吸着材を調整する方法 |
JP2004097971A (ja) * | 2002-09-10 | 2004-04-02 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 不斉固体触媒 |
JP2004175793A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-24 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 有機修飾基の無機系固体への結合方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013002346A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | 共栄社化学株式会社 | (メタ)アリルシラン化合物、そのシランカップリング剤、およびそれを用いた機能材料 |
WO2013002347A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | 共栄社化学株式会社 | (メタ)アリルシラン化合物、そのシランカップリング剤、およびそれを用いた機能材料 |
JP5629378B2 (ja) * | 2011-06-29 | 2014-11-19 | 嶋田 豊司 | (メタ)アリルシラン化合物、そのシランカップリング剤、およびそれを用いた機能材料 |
JPWO2013002346A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2015-02-23 | 嶋田 豊司 | (メタ)アリルシラン化合物、そのシランカップリング剤、およびそれを用いた機能材料 |
US9228107B2 (en) | 2011-06-29 | 2016-01-05 | Kyoeisha Chemical Co., Ltd. | (Meth)allylsilane compound, silane coupling agent thereof, and functional material using the same |
US9409929B2 (en) | 2011-06-29 | 2016-08-09 | Kyoeisha Chemical Co., Ltd. | (Meth)allylsilane compound, silane coupling agent therefor, and functional material using same |
Also Published As
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---|---|
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